PECVD电极平面度检测装置制造方法及图纸

本技术公开了一种PECVD电极平面度检测装置，包括：支撑架，所述支撑架固定在工艺腔体上盖处，所述支撑架从上至下依次设置至少三组相互平行的定位组件，其中，在中间的定位组件中安装有多段相互连接的导轨，在上面的定位组件与下面的定位组件中分别安装多个调整组件，所述多段相互连接的导轨通过所述多个调整组件进行彼此对齐，以形成测量范围延长的一条直线导轨，在所述直线导轨的测量头位置安装滑块，所述滑块通过安装片连接下方的测距传感器，所述测距传感器利用滑块在直线导轨的运动从后架位置移动到前架位置进行检测。本技术的优点是：可以直线迅速测量电极的平面度，适应于批量测量，保证了电极的完整性和密封性。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及hjt电池，具体涉及一种pecvd电极平面度检测装置。

技术介绍

1、随着太阳能的广泛应用，太阳能光伏板产业也蓬勃发展，高硅基异质结(hjt)电池是继高效perc后最具发展潜力的第三代太阳能电池，具有高转化效率、高开路电压、低温度系数、无光致衰减(lid)、无电致衰减(pid)、工艺温度低、双面率高等特点，对我国提出的“在2030年达到碳达峰、2060年实现碳中和”的目标具有非常重要的意义。

2、作为hjt电池的关键工序，pecvd可以制备非晶硅薄膜，形成内建电场，从而加速光生载流子的输运。因此，pecvd的镀膜均匀性严重影响着太阳能电池的产品良率、转换效率和使用寿命。目前，板式pecvd工艺腔内电磁场分布的不均匀性主要来自于电极的边缘效应、电势驻波效应及趋肤效应等，这些因素对电磁场均匀性的影响随电极频率的变化而变化。对于hjt电池大规模生产所用的射频(rf)电源，频率在13.98mhz，此时边缘效应和电势驻波效应是影响镀膜均匀性的主要因素。边缘效应是指到了电极板边缘处，由于电极形状的限制，电场线从极板间区域扩展到外部空间，电场线由平行线变为呈开口状分布，影响了边缘部分的镀膜均匀性。电势驻波效应是指等离子体的电磁场在传播过程中，碰到极板边界在由极板边界向等离子体内部传播，而当电磁波的波长与腔体尺寸接近时，电场在极板中心出现叠加现象，使得中心气体的电离率远大于边缘部分。对于这些电磁效应，保证电极平面度极其重要，如果电极出现轻微歪斜，边缘效应和驻波效应会成倍放大，对镀膜均匀性的影响很大。现有的方法是：用游标卡尺或者深度尺测量，调整。但存在如下问题：一是游标卡尺采用接触式测量，在测量时易对电极的柔性表面造成损伤，影响膜电极密封性和布气孔的效果；二是游标卡尺或者深度尺采用点测量方式，需要选取多个单点逐一进行测量，且单次测量耗时较长，测量整个电极平面度效率低、耗时长，不利于电极批量化检测；三是游标卡尺或者深度尺采用传统夹具固定电极，因电极为柔性材料制成，夹具易导致电极二次变形。

技术实现思路

1、本技术提出了一种pecvd电极平面度检测装置，解决上述现有技术存在的技术问题。

2、根据本技术的一个方面，提供了一种pecvd电极平面度检测装置，其特征在于，包括：支撑架，所述支撑架固定在工艺腔体上盖处，所述支撑架从上至下依次设置至少三组相互平行的定位组件，其中，在中间的定位组件中安装有多段相互连接的导轨，在上面的定位组件与下面的定位组件中分别安装多个调整组件，所述多段相互连接的导轨通过所述多个调整组件进行彼此对齐，以形成测量范围延长的一条直线导轨，在所述直线导轨的测量头位置安装滑块，所述滑块通过安装片连接下方的测距传感器，所述测距传感器利用滑块在直线导轨的运动从后架位置移动到前架位置进行检测。

3、进一步地，所述支撑架包括型材，所述定位组件为型材中的通槽。

4、进一步地，所述多个调整组件以一定间距进行固定。

5、进一步地，所述调整组件为相互交错设置的调整块。

6、进一步地，所述测距传感器配接有24v电源。

7、进一步地，所述支撑架的两侧安装有支撑座。

8、由上述本技术提供的技术方案可以看出，采用本技术，支撑架用螺栓固定在工艺腔体上盖处，悬挂在电极下方，测距仪在直线导轨上滑动，可以直线迅速批量测量电极的平面度，测量效率高，节约时间，适应于批量测量，由于采用无接触式测量，在测量时易对电极的柔性表面不会造成损伤，不影响膜电极密封性和布气孔的效果，保证了电极的完整性和密封性。

9、上述说明仅是本技术技术的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本技术的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本技术的具体实施方式。

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【技术保护点】

1.一种PECVD电极平面度检测装置，其特征在于，包括：支撑架，所述支撑架固定在工艺腔体上盖处，所述支撑架从上至下依次设置至少三组相互平行的定位组件，其中，在中间的定位组件中安装有多段相互连接的导轨，在上面的定位组件与下面的定位组件中分别安装多个调整组件，所述多段相互连接的导轨通过所述多个调整组件进行彼此对齐，以形成测量范围延长的一条直线导轨，在所述直线导轨的测量头位置安装滑块，所述滑块通过安装片连接下方的测距传感器，所述测距传感器利用滑块在直线导轨的运动从后架位置移动到前架位置进行检测。

2.根据权利要求1所述的PECVD电极平面度检测装置，其特征在于，所述支撑架包括型材，所述定位组件为型材中的通槽。

3.根据权利要求1所述的PECVD电极平面度检测装置，其特征在于，所述多个调整组件以一定间距进行固定。

4.根据权利要求3所述的PECVD电极平面度检测装置，其特征在于，所述调整组件为相互交错设置的调整块。

5.根据权利要求1所述的PECVD电极平面度检测装置，其特征在于，所述测距传感器配接有24V电源。

6.根据权利要求1所述的PECVD电极平面度检测装置，其特征在于，所述支撑架的两侧安装有支撑座。

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【技术特征摘要】

1.一种pecvd电极平面度检测装置，其特征在于，包括：支撑架，所述支撑架固定在工艺腔体上盖处，所述支撑架从上至下依次设置至少三组相互平行的定位组件，其中，在中间的定位组件中安装有多段相互连接的导轨，在上面的定位组件与下面的定位组件中分别安装多个调整组件，所述多段相互连接的导轨通过所述多个调整组件进行彼此对齐，以形成测量范围延长的一条直线导轨，在所述直线导轨的测量头位置安装滑块，所述滑块通过安装片连接下方的测距传感器，所述测距传感器利用滑块在直线导轨的运动从后架位置移动到前架位置进行检测。

2.根据权利要求1所述的pec...

【专利技术属性】
技术研发人员：程飞，项飞，葛贤明，吴博，
申请(专利权)人：捷造科技宁波有限公司，
类型：新型
国别省市：