导电性膜制造技术

本发明专利技术提供一种导电性膜，其抑制金属配线的线可见，并实现了可见性的提高。导电性膜具有基板和配置于板上并由金属配线组成的导电层，金属配线的宽度为2μm以下，金属配线的高度为1μm以下，金属配线从基板侧依次具有金属层、第1黑化层及第2黑化层。第1黑化层及第2黑化层是包含金属原子和选自由氧原子及氮原子组成的组中的至少一种的层，在第1黑化层中，第1黑化层的厚度方向的中间位置上的金属原子的含量比第2黑化层的厚度方向的中间位置上的金属原子的含量多。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种利用于触摸面板等中的导电性膜。

技术介绍

1、在以平板电脑及智能手机等移动信息设备为首的各种电子设备中存在触摸面板，该触摸面板与液晶显示装置等显示装置组合使用，并通过使手指、触控笔等接触或接近于画面来进行对电子设备的输入操作。

2、在触摸面板中，通常，导电性膜被用作触摸传感器，该导电性膜形成有用于检测基于手指及触控笔等的触摸操作的多个检测电极等。导电性膜的检测电极由ito(indium tinoxide：氧化铟锡)等透明导电性氧化物或金属等形成。与透明导电性氧化物相比，金属具有图案化容易、弯曲性优异、电阻值更低等优点。因此，在导电性膜中，铜或银等金属用于构成检测电极的金属配线。

3、例如，在专利文献1中记载有一种透明导电层叠体的制造方法，所述透明导电层叠体至少在透明膜基材的一面依次形成氧化铜和铜的薄膜，氧化铜和铜一同以1～10μm的线宽形成有导电图案。氧化铜膜和铜膜使用溅射法形成。

4、专利文献1：日本特开2015-133256号公报

5、在将专利文献1的层叠有氧化铜膜和铜膜的透明导电层叠体本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种导电性膜，其具有：

2.根据权利要求1所述的导电性膜，其还具有配置在所述金属层的侧面上的第3黑化层，

3.根据权利要求1或2所述的导电性膜，其中，

4.根据权利要求1或2所述的导电性膜，其中，

5.根据权利要求1或2所述的导电性膜，其中，

6.根据权利要求3所述的导电性膜，其中，

7.根据权利要求3所述的导电性膜，其中，

8.根据权利要求4所述的导电性膜，其中，

【技术特征摘要】

1.一种导电性膜，其具有：

2.根据权利要求1所述的导电性膜，其还具有配置在所述金属层的侧面上的第3黑化层，

3.根据权利要求1或2所述的导电性膜，其中，

4.根据权利要求1或2所述的导电性膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤滋英，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：