一种窑炉用清洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种窑炉用清洗设备，涉及窑炉清洁技术领域，包括承载支架

【技术实现步骤摘要】
一种窑炉用清洗设备


[0001]本技术涉及窑炉清洁
，具体涉及一种窑炉用清洗设备
。

技术介绍

[0002]窑炉或火炉是指用于烧制陶瓷器物和雕塑或是令珐琅熔合到金属器物表面的火炉，一般用砖和石头砌成，根据需要可以制成大小各种的规格，能采用可燃气体
、
油或电来运转，电窑比使用可燃气体和油的窑更容易控制温度，但是一些陶工和雕塑家认为电窑的温度上升太快，窑炉的膛内温度时采用高温计或测温锥测量的，通过窥孔可以看见
。
[0003]经检索，专利文件
(
授权公告号为
CN 211147358 U)
公开了一种窑炉用高效清理设备，该清理设备包括支架，所述支架呈
U
型结构，且支架的内部为中空结构，所述支架的底部两端均通过螺栓固定安装有轮座，且支架的两侧外壁上设置有等距离呈上下结构分布的打磨盘，所述支架的顶部外壁上设置有抛光组件，且支架靠近抛光组件正面顶部的外壁上通过螺栓固定安装有第一电机，所述支架的两侧内壁底部固定安装有呈上下结构分布的支撑臂，且支撑臂远离支架的另一端固定安装有集尘筒，所述集尘筒的两侧外壁上均设置有呈上下结构分布的支管，且支管远离集尘筒的另一端与支架之间互相连通，所述支架靠近支管的上方设置有驱动组件，且集尘筒的顶部外壁上通过螺栓固定安装有鼓风机，所述集尘筒靠近鼓风机的一侧外壁上设置有叉形管，且叉形管的顶端与支架之间互相连通
。
[0004]上述清理设备在使用时，通过打磨盘和磨片等的设置，对窑炉内壁进行打磨处理，但是在窑炉内部的部分区域打磨完成后，没有相应的清洗部件来对窑炉内部进行后续的清洗处理，需要人工进行清洗，使用较为不便
。
[0005]为此，我们提出一种窑炉用清洗设备
。

技术实现思路

[0006](
一
)
解决的技术问题
[0007]现有的清理设备在使用时，通过打磨盘和磨片等的设置，对窑炉内壁进行打磨处理，但是在窑炉内部的部分区域打磨完成后，没有相应的清洗部件来对窑炉内部进行后续的清洗处理，需要人工进行清洗，使用较为不便
。
[0008](
二
)
技术方案
[0009]为解决上述问题，本技术提供如下技术方案：
[0010]一种窑炉用清洗设备，包括承载支架
、
打磨件和清洗件，其中：所述打磨件设置在承载支架的顶部；所述清洗件包括两个调节管道和两个电动伸缩杆，所述承载支架的两侧均固定设置有销轴，两个所述调节管道分别与两个销轴一一对应设置，两个所述调节管道相对布置，并且两个调节管道相互远离的一侧分别活动安装在对应的销轴上；两个所述调节管道相互远离的一侧均设置有多个出水孔；两个所述电动伸缩杆分别固定安装在承载支架的两侧，并且两个电动伸缩杆均位于两个销轴的下方，两个所述电动伸缩杆的活塞杆分别与两个调节管道相抵压
。
[0011]作为本技术进一步的方案：多个所述出水孔上均固定设置有喷嘴
。
[0012]作为本技术进一步的方案：所述承载支架上固定设置有储水箱，并且储水箱的内部设置有水泵，所述水泵的出水端固定设置有软管，所述软管远离水泵的一端延伸出储水箱并与调节管道连通设置
。
[0013]作为本技术进一步的方案：所述打磨件包括双轴电机和两个打磨盘，所述承载支架上固定设置有垫板，所述双轴电机固定设置在垫板上，两个所述打磨盘分别固定安装在双轴电机的两个输出轴上
。
[0014]作为本技术进一步的方案：所述垫板上固定设置有防护罩，并且防护罩罩设在双轴电机的外部
。
[0015]作为本技术进一步的方案：两个所述电动伸缩杆的活塞杆均活动设置有转动块，并且两个所述转动块分别与两个调节管道相抵压
。
[0016]作为本技术进一步的方案：所述承载支架的底部固定设置有多个行走轮
。
[0017]作为本技术进一步的方案：所述承载支架的顶部活动设置有支撑杆，所述垫板固定设置在支撑杆上，所述承载支架上设置有用于锁定支撑杆位置的紧固螺栓
。
[0018](
三
)
有益效果
[0019]与现有技术相比，本技术具备以下有益效果：
[0020]通过清洗件的设置，两个调节管道上的多个喷嘴可以对窑炉内部进行冲洗，同时通过电动伸缩杆控制其活塞杆的长度，进而可以改变调节管道的角度，也即调节管道上多个喷嘴的角度会被调节，进而多个喷嘴可以向窑炉内部进行均匀
、
大面积的喷水处理，也即提高了清洗的效果，对窑炉内部的清理效果好
。
附图说明
[0021]下面结合附图对本技术作进一步的说明
。
[0022]图1是本技术的正视结构示意图；
[0023]图2是本技术的电动伸缩杆与转动块正视结构示意图
。
[0024]图中：
1、
承载支架；
2、
调节管道；
3、
电动伸缩杆；
4、
销轴；
5、
喷嘴；
6、
储水箱；
7、
软管；
8、
双轴电机；
9、
打磨盘；
10、
垫板；
11、
防护罩；
12、
转动块；
13、
行走轮；
14、
支撑杆；
15、
紧固螺栓
。
具体实施方式
[0025]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚
、
完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例
。
基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围
。
[0026]如图1‑2所示，一种窑炉用清洗设备，包括承载支架
1、
打磨件和清洗件，其中：打磨件和清洗件均设置在承载支架1上，在使用时，可以将承载支架1推送进行窑炉内部，利用打磨件和清洗件分别对窑炉内部进行打磨
、
清洗处理，使得对窑炉内部的清洁较为全面，便于后续生产的进行
。
为了便于承载支架1在窑炉内部的移动，可以在承载支架1的底部固定设置有多个行走轮
13。
[0027]对于上述中清洗件的设置，清洗件包括两个调节管道2和两个电动伸缩杆3，承载支架1的两侧均固定设置有销轴4，两个调节管道2分别与两个销轴4一一对应设置，两个调节管道2相对布置，并且两个调节管道2相互远离的一侧分别活动安装在对应的销轴4上；两个调节管道2相互远离的一侧均设置有多个出水孔，多个出水孔上均固定设置有喷嘴
5。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种窑炉用清洗设备，其特征在于，包括承载支架
(1)、
打磨件和清洗件，其中：所述打磨件设置在承载支架
(1)
的顶部；所述清洗件包括两个调节管道
(2)
和两个电动伸缩杆
(3)
，所述承载支架
(1)
的两侧均固定设置有销轴
(4)
，两个所述调节管道
(2)
分别与两个销轴
(4)
一一对应设置，两个所述调节管道
(2)
相对布置，并且两个调节管道
(2)
相互远离的一侧分别活动安装在对应的销轴
(4)
上；两个所述调节管道
(2)
相互远离的一侧均设置有多个出水孔；两个所述电动伸缩杆
(3)
分别固定安装在承载支架
(1)
的两侧，并且两个电动伸缩杆
(3)
均位于两个销轴
(4)
的下方，两个所述电动伸缩杆
(3)
的活塞杆分别与两个调节管道
(2)
相抵压
。2.
根据权利要求1所述的一种窑炉用清洗设备，其特征在于，多个所述出水孔上均固定设置有喷嘴
(5)。3.
根据权利要求2所述的一种窑炉用清洗设备，其特征在于，所述承载支架
(1)
上固定设置有储水箱
(6)
，并且储水箱
(6)
的内部设置有水泵，所述水泵的出水...

【专利技术属性】
技术研发人员：涂强强，
申请(专利权)人：湖南强强陶瓷股份有限公司，
类型：新型
国别省市：