System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统及其方法技术方案_技高网

陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统及其方法技术方案

技术编号:40678904 阅读:2 留言:0更新日期:2024-03-18 19:17
本发明专利技术涉及釉料控制技术领域,尤指一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统及其方法。系统包括六个关键模块:釉料数据模块、计算控制模块、釉料供应模块、喷涂模块、监测模块和系统管理模块。釉料数据模块负责采集陶瓷地砖釉面的各种参数,而计算控制模块根据这些数据计算出最优的釉料配方。釉料供应模块负责存储和提供釉料,喷涂模块则根据计算控制模块的指令将釉料均匀涂抹到地砖釉面上。监测模块用于监测涂覆后的地砖表面质量,并分析加工过程中的数据。系统管理模块负责整体运行的管理,包括用户权限、系统配置、日志记录和系统维护。本发明专利技术能够提高生产效率、保证产品质量,节约资源,实现智能化加工。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及釉料控制,尤指一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统及其方法


技术介绍

1、在陶瓷地砖制造领域,釉面加工是至关重要的环节,它直接影响到地砖的外观、质量和市场竞争力。传统的陶瓷釉料控制存在以下问题:采用手工的方法来管理釉料的配方;釉料的质量不稳定,导致产品的质量波动较大;手动调整釉料的配方和应用过程通常比较耗时,现有系统难以实现对釉料的实时质量控制,限制了生产线的效率和产能。


技术实现思路

1、为解决上述问题,本专利技术提供一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统及其方法。

2、为实现上述目的,本专利技术采用的技术方案是:

3、一方面,一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,包含:釉料数据模块、计算控制模块、釉料供应模块、喷涂模块、监测模块和系统管理模块,所述系统管理模块与所述釉料数据模块、计算控制模块、釉料供应模块、喷涂模块以及监测模块通信连接;

4、所述釉料数据模块用于采集陶瓷地砖釉面的各种参数;

5、所述计算控制模块用于处理所述釉料数据模块采集的数据,并计算出釉料的最佳配方;

6、所述釉料供应模块用于储存和提供釉料;

7、所述喷涂模块用于根据计算控制模块的指令将釉料均匀地涂抹到地砖釉面;

8、所述监测模块用于监测涂覆后的地砖表面质量,并分析陶瓷地砖加工过程中的数据;

9、所述系统管理模块用于管理陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统的整体运行,包括用户权限管理、系统配置、日志记录和系统维护

10、进一步的,所述计算控制模块计算釉料的最佳配方包括以下步骤:

11、获取所述釉料数据模块采集的参数,并对所述参数进行预处理操作;

12、通过机器学习算法计算釉料的配方;

13、根据产品质量标准和工艺要求,设定目标值;

14、根据所述釉料数据模块的数据进行反馈控制,以调整釉料的配方;

15、基于所述反馈控制,计算出需要调整的参数;

16、根据计算的调整参数,采取相应的控制措施来调整釉料供应和喷涂过程。

17、更进一步的,所述机器学习算法基于循环神经网络模型进行构建,包括以下步骤:

18、获取上述进行预处理后的参数;

19、使用长短时记忆网络对循环神经网络模型进行构建;

20、将所述参数划分为训练集、验证集和测试集;

21、根据产品质量标准和工艺要求,设定目标值;

22、使用训练集的数据和相应的目标值,对循环神经网络模型进行训练;

23、使用验证集的数据来验证模型的性能,使用测试集的数据来评估模型的性能;

24、将训练好的循环神经网络模型部署到计算控制模块中。

25、更进一步的,所述使用训练集的数据和相应的目标值,对循环神经网络模型进行训练中神经网络模型的输出公式如下:

26、

27、其中,表示模型在时间步t预测的釉料最佳配方;xt表示当前时间步t的参数;ht-1表示前一个时间步的隐藏状态,用于更新当前时间步的预测。

28、更进一步的,所述反馈控制包括以下步骤:

29、计算所述釉料数据模块的数据与目标值之间的误差或偏差;

30、根据误差值,采用pid控制算法来确定需要的调整量;

31、基于pid控制算法的输出,计算出需要调整的参数;

32、采取相应的控制措施来调整釉料供应和喷涂过程。

33、进一步的,所述监测模块包括质量监控单元和数据分析单元;

34、所述质量监控单元用于检查釉面质量,检测任何缺陷或不均匀的涂布;

35、所述数据分析单元用于记录和分析陶瓷地砖加工过程中的数据。

36、更进一步的,所述质量监控单元包括以下步骤:

37、通过图像传感器获取图像数据;

38、对所述图像数据进行预处理和特征提取;

39、通过yolo目标检测算法进行检测和识别图像中的目标数据;

40、将所述目标数据传输至所述数据分析单元。

41、进一步的,还包括烘干模块;所述烘干模块用于将釉料涂在地砖表面后迅速干燥。

42、更进一步的,还包括传感器网络、存储箱、喷涂头、加热元件和显示终端,所述显示终端与所述传感器网络、存储箱、喷涂头以及加热元件通信连接;

43、所述传感器网络设置在所述釉料数据模块上,上所述传感器网络包括温度传感器、湿度传感器和压力传感器;

44、所述存储箱设置在所述釉料供应模块上,所述喷涂头设置在所述喷涂模块上,所述加热元件设置在所述烘干模块上;

45、所述显示终端内设置有中央处理器,所述计算控制模块、监测模块和所述系统管理模块设置在所述显示终端内。

46、另一方面,一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制方法,包括以下步骤:

47、采集陶瓷地砖釉面的各种参数;

48、处理采集的数据,并计算出釉料的配方;

49、将釉料均匀涂抹到地砖釉面;

50、监测涂覆后的地砖表面质量,并分析加工过程中的数据;

51、系统管理员管理系统的整体运行。

52、本专利技术的有益效果在于:

53、本专利技术通过釉料数据模块和计算控制模块,系统能够收集和分析陶瓷地砖釉面的各种参数,并计算出最佳的釉料配方。这确保了每次涂覆都使用了精确的釉料配方,提高了地砖釉面的质量和一致性。

54、本专利技术中釉料供应模块和喷涂模块的结合实现了自动化的生产过程。釉料供应模块储存和提供釉料,而喷涂模块根据计算控制模块的指令将釉料均匀地涂抹到地砖釉面,减少了人工干预,提高了生产效率。

55、本专利技术中监测模块负责实时监测涂覆后的地砖表面质量,并分析陶瓷地砖加工过程中的数据。这意味着产品质量问题或生产异常都可以及时发现和纠正,从而减少次品率。

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【技术保护点】

1.一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,其特征在于,包含:釉料数据模块、计算控制模块、釉料供应模块、喷涂模块、监测模块和系统管理模块,所述系统管理模块与所述釉料数据模块、计算控制模块、釉料供应模块、喷涂模块以及监测模块通信连接;

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,其特征在于,所述计算控制模块计算釉料的最佳配方包括以下步骤:

3.根据权利要求2所述的一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,其特征在于,所述机器学习算法基于循环神经网络模型进行构建,包括以下步骤:

4.根据权利要求3所述的一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,其特征在于,所述使用训练集的数据和相应的目标值,对循环神经网络模型进行训练中神经网络模型的输出公式如下:

5.根据权利要求2所述的一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,其特征在于,所述反馈控制包括以下步骤:

6.根据权利要求1所述的一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,其特征在于,所述监测模块包括质量监控单元和数据分析单元;

7.根据权利要求6所述的一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,其特征在于,所述质量监控单元包括以下步骤:

8.根据权利要求1所述的一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,其特征在于,还包括烘干模块;所述烘干模块用于将釉料涂在地砖表面后迅速干燥。

9.根据权利要求8所述的一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,其特征在于,还包括传感器网络、存储箱、喷涂头、加热元件和显示终端,所述显示终端与所述传感器网络、存储箱、喷涂头以及加热元件通信连接;

10.一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制方法,其特征在于,所述方法应用于如权利要求1-9任一项所述的一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,包括以下步骤:

...

【技术特征摘要】

1.一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,其特征在于,包含:釉料数据模块、计算控制模块、釉料供应模块、喷涂模块、监测模块和系统管理模块,所述系统管理模块与所述釉料数据模块、计算控制模块、釉料供应模块、喷涂模块以及监测模块通信连接;

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,其特征在于,所述计算控制模块计算釉料的最佳配方包括以下步骤:

3.根据权利要求2所述的一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,其特征在于,所述机器学习算法基于循环神经网络模型进行构建,包括以下步骤:

4.根据权利要求3所述的一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,其特征在于,所述使用训练集的数据和相应的目标值,对循环神经网络模型进行训练中神经网络模型的输出公式如下:

5.根据权利要求2所述的一种陶瓷地砖釉面加工用釉料控制系统,其特征在于,所述反馈...

【专利技术属性】
技术研发人员:涂强强
申请(专利权)人:湖南强强陶瓷股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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