一种真空离子镀膜设备速冷装置制造方法及图纸

技术编号:39923491 阅读:14 留言:0更新日期:2023-12-30 22:10
本实用新型专利技术涉及真空离子镀膜设备速冷技术领域,且公开了一种真空离子镀膜设备速冷装置,包括放置架与放置板,所述放置架的顶部设置有离子镀膜设备,所述放置板的顶部设置有冷却机构,所述放置板的顶部设置有集气机构,通过设置的氮气补充口,将氮气加入氮气储罐内部,通过开启真空泵,从而形成离子镀膜设备内部的冷却循环系统,在过滤罐的配合下,对离子镀膜设备内部多余的氧气与杂质进行过滤,在第一速冷罐与第二速冷罐的配合下,对离子镀膜设备内部加热后的氮气进行速冷工作,通过设置的进气口

【技术实现步骤摘要】
一种真空离子镀膜设备速冷装置


[0001]本技术涉及真空离子镀膜设备速冷
,具体为一种真空离子镀膜设备速冷装置


技术介绍

[0002]离子镀在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离,并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法

[0003]根据专利网公开的真空离子镀膜设备速冷装置
(
授权公告号为:
CN 218812039U)
中所描述“本技术属于一种真空离子镀膜设备速冷装置,包括炉体
(1)、
其特征在于上速冷管
(2)
一端用螺钉固定到炉体
(1)
顶部,然后用卡子将上速冷管
(2)、
上速冷罐
(3)、
过渡管
(4)
依次连接到过滤罐
(5)
上,再将过滤罐
(5)、
过渡管
(4)
,真空泵
(6)
依次接到过渡管
(4)
上,过渡管
(4本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种真空离子镀膜设备速冷装置,包括放置架
(1)
与放置板
(2)
,其特征在于:所述放置架
(1)
的顶部设置有离子镀膜设备
(3)
,所述放置板
(2)
的顶部设置有冷却机构
(4)
,所述放置板
(2)
的顶部设置有集气机构
(5)
;所述冷却机构
(4)
包括补充组件
(41)
与真空组件
(42)
,所述补充组件
(41)
设置在放置板
(2)
的顶部,所述真空组件
(42)
设置在放置板
(2)
的顶部
。2.
根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜设备速冷装置,其特征在于:所述补充组件
(41)
包括第一进气管
(411)
,所述第一进气管
(411)
固定安装在离子镀膜设备
(3)
的顶部,所述第一进气管
(411)
远离离子镀膜设备
(3)
的一端固定安装有第一速冷罐
(412)
,所述第一速冷罐
(412)
远离第一进气管
(411)
的一端固定安装有第一出气管
(413)
,所述第一出气管
(413)
远离第一速冷罐
(412)
的一端固定安装有氮气储罐
(414)
,所述氮气储罐
(414)
的外部设置有氮气补充口
(415)
,所述放置板
(2)
的顶部固定安装有支撑块
(416)
,便于对氮气的补充工作
。3.
根据权利要求2所述的一种真空离子镀膜设备速冷装置,其特征在于:所述支撑块
(416)
的顶部开设有凹槽,且所述氮气储罐
(414)
固定安装在凹槽内,便于氮气储罐
(414)
的支撑
。4.
根据权利要求2所述的一种真空离子镀膜设备速冷装置,其特征在于:所述真空组件
(42)
包括第一过滤管
(421)
,所述第一过滤管
(421)
固定安装在氮气储罐
(414)
的外部,所述第一过滤管
(421)
远离氮气储罐
(414)
的一端固定安装有过滤罐
(422)
,所述过滤罐
(422)
的外部固定安装有第二过滤管
(423)
,...

【专利技术属性】
技术研发人员:常丽范苏长国
申请(专利权)人:大连创硕纳米表面科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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