一种基于微观输运机理的激光窗口抗污染装置及方法制造方法及图纸

本申请涉及一种基于微观输运机理的激光窗口抗污染装置及方法，所述装置包括：阳极圆柱

【技术实现步骤摘要】
一种基于微观输运机理的激光窗口抗污染装置及方法


[0001]本专利技术涉及真空电弧薄膜沉积
，更为具体来说，本专利技术涉及一种基于微观输运机理的激光窗口抗污染装置及方法
。

技术介绍

[0002]真空电弧沉积是目前已经广泛工业应用的薄膜制备技术，而采用脉冲激光引燃的真空电弧沉积技术
(Laser Arc Deposition)
是一个新发展方向，其特点是一个激光脉冲引燃一次脉冲电弧
。
因此在程序的控制下，可以方便地实现多靶位选择性交替引燃，对每个靶的电弧脉冲能量
、
引燃次数和重复频率可分别进行精确控制，可实现多层
、
多成分和梯度薄膜沉积等重要且迫切需要的先进功能
。
与机械触头引燃的连续真空电弧镀膜相比较，脉冲真空电弧可以产生温度密度远高于连续电弧的脉冲等离子体，而激光引燃技术具有极为出色的可控性，二者的结合，对真空电弧沉积技术的工业应用拓展以及功能薄膜的科学研究都具有重要意义
。
[0003]激光电弧沉积的原理是外部脉冲激光源通本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种基于微观输运机理的激光窗口抗污染装置，其特征在于，包括：阳极圆柱
、
阴极圆柱
、
工件基座
、
扩散捕集管
、
激光窗口
、
真空沉积室，其中：所述激光窗口设置在最外层，两侧设置有所述真空沉积室；所述阳极圆柱与所述阴极圆柱放置在同一轴线上，为同轴式对置电极；所述阳极圆柱的中心轴线设计有大长径比的通孔
、
大长径比的所述扩散捕集管以及较大的空间扩散区；所述阳极圆柱与阴极圆柱的两侧设置有工件基座
。2.
根据权利要求1所述的一种基于微观输运机理的激光窗口抗污染装置，其特征在于，所述阳极圆柱中轴线上的所述大长径比的通孔在靠近出口的地方有一段直径
≤1mm
，长径比为2～
5mm
的阳极小孔
。3.
根据权利要求1所述的一种基于微观输运机理的激光窗口抗污染装置，其特征在于，所述大长径比扩散捕集管的直径
≤6mm
，长度约为
50mm
～
100mm
，长径比不小于
12。4.
根据权利要求1所述的一种基于微观输运机理的激光窗口抗污染装置，其特征在于，所述空间扩散区的长度
≤350mm。5.
根据权利要求1所述的一种基于微观输运机理的激光窗口抗污染装置，其特征在于，所述空间扩散区与所述激光窗口之间还设置有粒子流限制结构，所述粒子流限制结构对等离子体起到限制作用
。6.
根据权利要求1所述的一种基于微观输运机理的激光窗口抗污染装置，其特征在于，还包括扫描...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈学康，王瑞，吴敢，王兰喜，杨建平，尚凯文，魏广，格桑顿珠，
申请(专利权)人：兰州空间技术物理研究所，
类型：发明
国别省市：