半导体制造设备制造技术

一种半导体制造设备，其是利用与基板对置的光掩膜在基板上形成预定的图案的半导体制造设备，所述半导体制造设备的特征在于，包括：阻隔部，其具有光学透射膜和传输部，所述光学透射膜介于所述光掩膜与所述基板之间，所述传输部将所述光学透射膜的一个膜面对着所述光掩膜的朝向所述基板侧的表面移动

【技术实现步骤摘要】
半导体制造设备


[0001]本技术涉及一种半导体制造设备，特别涉及半导体图案化的半导体制造设备
。

技术介绍

[0002]光掩膜
(photomask)
通常用于半导体制造的光刻
(photolit hography)
工艺中
。
光掩膜一般由非常平坦的石英或玻璃制成，在光刻步骤时，半导体制造设备通过向光掩膜照射光，能够将光掩膜上的图案转印到目标基板上，由此在基板上形成预定的图案
。
[0003]在曝光过程中，由于光阻容易受到温度或光照的影响挥发并附着在光掩膜上，由此，随着曝光时间的增加，光阻的挥发物会导致光掩膜雾化，当到达一定的程度时，就会影响到曝光的质量，导致图案化的精确度降低
。
此外，当气流扰动等因素会有可能导致原本附着在光掩膜上的挥发物的颗粒掉落到基板上的图案，影响图案化的质量
。
因此，需要停下半导体制造，将光掩膜拆卸下来进行清洗
。
如此一来，会大幅降低生产效率
。

技术实现思路

[0004]因此，目前亟需一种能够避免光掩膜拆卸，且能够避免光阻的雾化颗粒附着于光掩膜的半导体制造设备
。
[0005]根据本技术的一个方面的半导体制造设备，其通过光掩膜在基板上形成预定的图案，所述半导体制造设备的特征在于，包括：阻隔部，其具有光学透射膜和传输部，所述光学透射膜介于所述光掩膜与所述基板之间，所述传输部能够将所述光学透射膜的一个膜面对着所述光掩膜移动
。
[0006]此外，根据本技术的一个方面的半导体制造设备中，所述光学透射膜与所述光掩膜和所述基板分别隔着间隔对置
。
[0007]此外，根据本技术的一个方面的半导体制造设备中，所述传输部为沿着所述光学透射膜的宽度方向延伸的至少两个轴部，所述至少两个轴部包含用于固定于所述光学透射膜的起始端的起始轴部和用于固定所述光学透射膜的终止端的终止轴部，在所述起始轴部还具有被卷曲的所述光学透射膜的一部分的情况下，当所述光学透射膜从所述起始端朝向所述终止端移动后，所述终止端侧的所述光学透射膜的一部分被所述终止轴部卷曲，原本被所述起始轴部卷曲的所述光学透射膜的一部分展开
。
[0008]此外，根据本技术的一个方面的半导体制造设备中，所述至少两个轴部为所述起始轴部和所述终止轴部，所述起始轴部和所述终止轴部沿着所述光学透射膜的移动方向分别排列在所述光掩膜的相对的两个端边的外侧并横穿所述光掩膜与所述基板之间
。
[0009]此外，根据本技术的一个方面的半导体制造设备中，在俯视所述光掩膜时，在所述起始轴部与所述终止轴部之间的区域中，所述光学透射膜覆盖所述光掩膜的整体
。
[0010]此外，根据本技术的一个方面的半导体制造设备中，所述至少两个轴部除了所述起始轴部和所述终止轴部之外，还包含至少一个抵接轴部，所述至少一个抵接轴部相
对于所述光学透射膜，位于所述起始轴部和所述终止轴部之间，所述光学透射膜与所述至少一个抵接轴部的外表面可滑动接触或摩擦接触
。
[0011]此外，根据本技术的一个方面的半导体制造设备中，在俯视所述光掩膜时，在所述至少两个轴部中的
、
沿着所述光学透射膜的移动方向分别排列在所述光掩膜的相对的两个端边的外侧并横穿所述光掩膜与所述基板之间的两个轴部之间的区域中，所述光学透射膜覆盖所述光掩膜的整体
。
[0012]此外，根据本技术的一个方面的半导体制造设备中，还包括清洁部，其设置在所述光学透射膜的位于所述区域以外的部位，并与所述光学透射膜中的朝向基板的一侧的膜面接触
。
[0013]此外，根据本技术的一个方面的半导体制造设备中，所述清洁部至少位于相邻的两个轴部之间
。
[0014]此外，根据本技术的一个方面的半导体制造设备中，还包括清洁部，其紧挨着所述终止轴部设置，并与所述光学透射膜中的朝向基板的一侧的膜面接触
。
[0015]此外，根据本技术的一个方面的半导体制造设备中，所述清洁部为带毛边滚轮
、
吹送清洁气体的吹气部
、
清洁液供给部中的至少一种
。
[0016]此外，根据本技术的一个方面的半导体制造设备中，所述清洁部作为抵接轴部与所述光学透射膜可滑动接触或摩擦接触
。
[0017]此外，根据本技术的一个方面的半导体制造设备中，所述光学透射膜是具有柔性的高透光薄膜
。
[0018]本技术是基于上述问题而完成的
。
根据本技术的一个方面，能够避免光掩膜拆卸，且能够避免光阻的雾化颗粒附着于光掩膜和因长时间堆积掉落而污染半导体的半导体制造设备，使半导体的生产效率变高
。
附图说明
[0019]图1是实施方式1所涉及的半导体制造设备的示意图
。
[0020]图2是实施方式2所涉及的半导体制造设备的示意图
。
[0021]图3是实施方式3所涉及的半导体制造设备的示意图
。
[0022]主要元件符号说明
[0023]半导体制造设备1[0024]光掩膜装置
10
[0025]光掩膜
11
[0026]阻隔部
13
[0027]光学透射膜
131
[0028]传输部，第一～第四传输部
133
[0029]起始轴部
1331
[0030]终止轴部
1333
[0031]清洁部
135
[0032]基板
20
[0033]光阻
30
具体实施方式
[0034]以下，为了更加明确和容易理解本技术的上述目的
、
特征和优点，将参考附图详细描述本技术的具体实施例
。
[0035]虽然在以下描述中描述了许多特定细节以便于对本技术的充分理解，但是本技术也可以用本文中所描述的其它方式来实现，并且所属领域的技术人员可以在不违背本技术含义的情况下同样地实现
。
本技术不受以下公开的具体实施例的限制
。
[0036]为了说明上的方便，在没有特别说明的情况下，标注了相同的附图标记的构成表示具有相同功能的构成，因此有时会省略其说明
。
此外，在以下所参照的附图中，为了使说明容易理解，将构成简化或示意化而示出，或者将一部分构成构件省略
。
另外，各图所示的构成构件之间的尺寸比并不一定表示实际的尺寸比
。
[0037][
实施方式
1][0038]图1中示出了本实施方式的半导体制造设备
1。
如图1所示，半导体制造设备1具备光掩膜装置
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种半导体制造设备，其通过光掩膜在基板上形成预定的图案，所述半导体制造设备的特征在于，包括：阻隔部，其具有光学透射膜和传输部，所述光学透射膜介于所述光掩膜与所述基板之间，所述传输部能够将所述光学透射膜的一个膜面对着所述光掩膜移动
。2.
根据权利要求1所述的半导体制造设备，其特征在于，所述光学透射膜与所述光掩膜和所述基板分别隔着间隔对置
。3.
根据权利要求1或2所述的半导体制造设备，其特征在于，所述传输部为沿着所述光学透射膜的宽度方向延伸的至少两个轴部，所述至少两个轴部包含用于固定于所述光学透射膜的起始端的起始轴部和用于固定所述光学透射膜的终止端的终止轴部，在所述起始轴部还具有被卷曲的所述光学透射膜的一部分的情况下，当所述光学透射膜从所述起始端朝向所述终止端移动后，所述终止端侧的所述光学透射膜的一部分被所述终止轴部卷曲，原本被所述起始轴部卷曲的所述光学透射膜的一部分展开
。4.
根据权利要求3所述的半导体制造设备，其特征在于，所述至少两个轴部为所述起始轴部和所述终止轴部，所述起始轴部和所述终止轴部沿着所述光学透射膜的移动方向分别排列在所述光掩膜的相对的两个端边的外侧并横穿所述光掩膜与所述基板之间
。5.
根据权利要求4所述的半导体制造设备，其特征在于，在俯视所述光掩膜时，在所述起始轴部与所...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱至宏，刘冠喻，
申请(专利权)人：超视界显示技术有限公司，
类型：新型
国别省市：