一种固体溶靶溶靶结构制造技术

本发明专利技术提供一种固体靶溶靶结构，包括壳体和固定结构

【技术实现步骤摘要】
一种固体溶靶溶靶结构


[0001]本专利技术涉及回旋加速器生产放射性同位素
，特别是涉及一种固体靶溶靶结构
。

技术介绍

[0002]回旋加速器是生产放射性核素的重要方式之一，其原理通过加速器产生高速带电粒子轰击靶件上选定的稳定元素，从而发生核反应来生产用于核医学诊断和治疗
、
工业以及农业等方面的放射性核素
。
常用的放射性核素有：
17F、64Cu、67Ga、68Ga、68Ge、89Zr、123I、124I、1I、32P、225Ac、103Pd、57Co、22Na、14C
等
。
[0003]靶件是生产放射性核素的核心部件，根据其形态的不同，可以分为固体靶
、
液体靶和气体靶三种
。
其中，固体靶是生产放射性核素最常用的形态
。
通常靶件采用铜
、
银
、
金等单质金属作为靶件，通过电镀
、
电沉积等方法将选定的稳定核素牢固的固定在其表面上
。
固体靶在加速器中完成核反应后，在靶件上产生了目标核素，需要将靶片上的目标核素进行溶解，并经过分离纯化工作，去除杂质，最终得到较高纯度的目标核素产品
。
[0004]靶件的溶解是将靶片上目标产物区域浸泡到溶解液中，对目标核素进行溶解，注意避免将靶件其他区域也浸泡到溶解液中，与溶解液反应增加金属杂质
。
由于大部分目标产物的化学性质都不活泼，通常都需要加热并配合适当的搅拌才能实现完全溶解
。
靶片溶解应尽量缩短时间，一方面溶靶时间过长会导致目标产品的衰变，造成产率降低；另一方面溶靶操作时间过长，使操作人员接受更多的辐射剂量
。
[0005]因靶件具有放射性，溶靶操作通常在手套箱中进行
。
目前的溶解靶片装置，通常是在溶解槽的底部开有孔洞，将靶件从溶解槽底部通过密封垫片进行安装，使目标产物区域正对孔洞朝上露出，然后加入溶解液进行溶解
。
其中，加热通常是将溶解槽放置到水浴或油浴锅中，进行加热
。
搅拌通过溶解反应产生的副产物氢气
、
氧气在溶解液中形成气泡鼓动实现搅拌
。
[0006]但是，现有技术的靶片溶靶结构存在一些问题：
1、
靶件朝上的溶解方式不利于靶件上目标产物的溶解，且无法放置搅拌子进行磁力搅拌，溶解效率低，时间长；
2、
泄漏的风险，密封垫片因本身质量缺陷或安装等因素，存在失效漏液的可能，放射性液体将直接从装置漏出到环境中，对操作人员和环境造成放射性伤害
、
污染；
3、
安装方式，目前大多采用普通的十字或内六角螺栓，需要借助螺丝刀或内六角扳手等工具，在手套箱中操作极为不便
。

技术实现思路

[0007]鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种固体靶溶靶结构，用于解决现有技术中靶片溶解效率低
、
装置密封性差的问题，主要设计了一种固体靶溶靶结构，将靶片的溶解区域向下进行溶靶工序，同时可以通过调整垫片灵活调节溶解液深度，可以适应多样环境下的溶靶工艺，提高了固体靶的溶靶效率
。
[0008]本专利技术提供一种固体靶溶靶结构，包括：
[0009]壳体，所述壳体包括溶解槽底座和溶解槽盖，所述溶解槽盖封盖于所述溶解槽底座上
、
并在二者之间形成空置空间，所述溶解槽底座底部上表面设有溶解凹槽，所述溶解凹槽两侧设有安装座；
[0010]固定结构，所述固定结构设置于所述空置空间中，所述固定结构包括密封垫片
、
靶托和固定构件，所述靶托安装于所述溶解槽底座上，所述密封垫片贴设于所述靶托上表面，靶片装设于所述靶托上，所述固定构件设于所述靶片上
、
且与所述溶解槽底座连接
。
[0011]在本专利技术的一个实施例中，所述靶片上设有溶解区域，所述溶解区域设于所述靶片底部
。
[0012]在本专利技术的一个实施例中，所述溶解凹槽内填充有溶解溶液，所述溶解溶液与所述溶解区域接触
。
[0013]在本专利技术的一个实施例中，所述溶解凹槽中安装有搅拌组件，所述搅拌组件固定于所述溶解凹槽底部上表面上，所述搅拌组件浸没于所述溶解溶液中
。
[0014]在本专利技术的一个实施例中，所述靶托上还开设有排气斜孔，所述溶解凹槽通过所述排气斜孔与所述壳体的所述空置空间连通
。
[0015]在本专利技术的一个实施例中，所述排气斜孔开设于所述靶托靠近所述溶解凹槽一侧的侧壁上，并沿所述溶解槽底座向斜上方延伸，直至贯穿所述靶托
。
[0016]在本专利技术的一个实施例中，所述固定构件包括压条和螺栓，所述压条上设有通孔，所述螺栓安装于所述通孔上，所述螺栓可沿所述通孔方向轴向运动
。
[0017]在本专利技术的一个实施例中，其特征在于，所述密封垫片分别与所述靶托与所述靶片相接
。
[0018]在本专利技术的一个实施例中，所述固定结构还包括调整垫片，所述调整垫片厚度可调节，调整垫片夹设于安装座和所述靶托之间
。
[0019]在本专利技术的一个实施例中，所述溶解槽盖上还设有溶解液通孔，所述溶解液通孔将所述空置空间与所述壳体外部空间连通
。
[0020]本专利技术的固体靶溶靶结构，将靶片的溶解区域向下进行溶靶工序，同时可以通过调整垫片灵活调节溶解液深度，可以适应多样环境下的溶靶工艺，提高了固体靶的溶靶效率
。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图
。
[0022]图1为本专利技术溶靶结构的侧视图；
[0023]图2为显示本专利技术靶托结构的立体示意图；
[0024]图3为本专利技术溶靶结构的俯视图
。
[0025]元件标号
[0026]壳体
10
，溶解槽底座
11
，溶解槽盖
12
，溶解凹槽
13
，安装座
14
，搅拌组件
15
，溶解液通孔
16
，空置空间
17
，固定结构
20
，调整垫片
21
，密封垫片
22
，靶托
23
，压条
24
，螺栓
25
，排气
斜孔
26
，靶片
30
，溶解液
40。
具体实施方式
[0027]以下通过特定的具体实例说本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种固体靶溶靶结构，其特征在于，包括：壳体
(10)
，所述壳体
(10)
包括溶解槽底座
(11)
和溶解槽盖
(12)
，所述溶解槽盖
(12)
封盖于所述溶解槽底座
(11)
上
、
并在二者之间形成空置空间
(17)
，所述溶解槽底座
(11)
底部上表面设有溶解凹槽
(13)
，所述溶解凹槽
(13)
两侧设有安装座
(14)
；固定结构
(20)
，所述固定结构
(20)
设置于所述空置空间中
(15)
，所述固定结构
(20)
包括密封垫片
(22)、
靶托
(23)
和固定构件，所述靶托
(23)
安装于所述溶解槽底座
(11)
上，所述密封垫片
(22)
贴设于所述靶托
(23)
上表面，靶片
(30)
装设于所述靶托
(23)
上，所述固定构件设于所述靶片
(30)
上
、
且与所述溶解槽底座
(11)
连接
。2.
根据权利要求1所述的固体靶溶靶结构，其特征在于，所述靶片
(30)
上设有溶解区域，所述溶解区域设于所述靶片
(30)
底部
。3.
根据权利要求2所述的固体靶溶靶结构，其特征在于，所述溶解凹槽
(13)
内填充有溶解溶液
(40)
，所述溶解溶液
(40)
与所述溶解区域接触
。4.
根据权利要求3所述的固体靶溶靶结构，其特征在于，所述溶解凹槽
(13)
中安装有搅拌组件
(15)
，所述搅拌组件
(15)
固定于所述溶解凹槽
(13)
底部上表面...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏星，徐强，高陶，梁季伟，
申请(专利权)人：中广核同位素科技绵阳有限公司，
类型：发明
国别省市：