一种固体溶靶溶靶结构制造技术

技术编号:39900400 阅读:62 留言:0更新日期:2023-12-30 13:14
本发明专利技术提供一种固体靶溶靶结构,包括壳体和固定结构

【技术实现步骤摘要】
一种固体溶靶溶靶结构


[0001]本专利技术涉及回旋加速器生产放射性同位素
,特别是涉及一种固体靶溶靶结构


技术介绍

[0002]回旋加速器是生产放射性核素的重要方式之一,其原理通过加速器产生高速带电粒子轰击靶件上选定的稳定元素,从而发生核反应来生产用于核医学诊断和治疗

工业以及农业等方面的放射性核素

常用的放射性核素有:
17F、64Cu、67Ga、68Ga、68Ge、89Zr、123I、124I、1I、32P、225Ac、103Pd、57Co、22Na、14C


[0003]靶件是生产放射性核素的核心部件,根据其形态的不同,可以分为固体靶

液体靶和气体靶三种

其中,固体靶是生产放射性核素最常用的形态

通常靶件采用铜



金等单质金属作为靶件,通过电镀

电沉积等方法将选定的稳定核素牢固的固定在其表面上

固体靶在本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种固体靶溶靶结构,其特征在于,包括:壳体
(10)
,所述壳体
(10)
包括溶解槽底座
(11)
和溶解槽盖
(12)
,所述溶解槽盖
(12)
封盖于所述溶解槽底座
(11)


并在二者之间形成空置空间
(17)
,所述溶解槽底座
(11)
底部上表面设有溶解凹槽
(13)
,所述溶解凹槽
(13)
两侧设有安装座
(14)
;固定结构
(20)
,所述固定结构
(20)
设置于所述空置空间中
(15)
,所述固定结构
(20)
包括密封垫片
(22)、
靶托
(23)
和固定构件,所述靶托
(23)
安装于所述溶解槽底座
(11)
上,所述密封垫片
(22)
贴设于所述靶托
(23)
上表面,靶片
(30)
装设于所述靶托
(23)
上,所述固定构件设于所述靶片
(30)


且与所述溶解槽底座
(11)
连接
。2.
根据权利要求1所述的固体靶溶靶结构,其特征在于,所述靶片
(30)
上设有溶解区域,所述溶解区域设于所述靶片
(30)
底部
。3.
根据权利要求2所述的固体靶溶靶结构,其特征在于,所述溶解凹槽
(13)
内填充有溶解溶液
(40)
,所述溶解溶液
(40)
与所述溶解区域接触
。4.
根据权利要求3所述的固体靶溶靶结构,其特征在于,所述溶解凹槽
(13)
中安装有搅拌组件
(15)
,所述搅拌组件
(15)
固定于所述溶解凹槽
(13)
底部上表面...

【专利技术属性】
技术研发人员:魏星徐强高陶梁季伟
申请(专利权)人:中广核同位素科技绵阳有限公司
类型:发明
国别省市:

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