一种用于同位素生产的靶件和靶件组件制造技术

本发明专利技术涉及一种用于同位素生产的靶件，包括：石墨包容外壳，所述石墨包容外壳的上表面形成有向内凹陷的第一腔体，所述第一腔体的底部形成有向内凹陷的第二腔体，所述第二腔体的底部用于放置靶材；石墨膜，所述石墨膜放置在所述第一腔体的底部，用于覆盖所述第二腔体且与所述第二腔体形成用于包容所述靶材的封闭腔体，所述第一腔体与所述石墨膜形成束流区域。所述用于同位素生产的靶件能够实现多种同位素量产，增加产物的种类，同时具有良好的散热性能。热性能。热性能。

【技术实现步骤摘要】
一种用于同位素生产的靶件和靶件组件


[0001]本专利技术涉及同位素生产领域，尤其涉及一种用于同位素生产的靶件和组件。

技术介绍

[0002]放射性同位素已经在工业、农业、医学等诸多领域进行了广泛应用并获得了显著的经济效益、社会效益和环境效益。尤其是在医学领域，疾病诊断、治疗方面具有不可替代的作用。
[0003]以加速器、同位素生产靶等装置为基础，通过将束流作用于不同元素或同位素的靶材上，在靶内发生一系列核反应过程，可以获得多种同位素产物并加以利用。

技术实现思路

[0004]针对上述问题，本专利技术的目的是提供一种用于同位素生产的靶件和组件，能够实现在高功率束流照射时，同时实现多种同位素量产，增加产物的种类，同时具有良好的散热性能。
[0005]为实现上述目的，本专利技术采取以下技术方案：
[0006]本专利技术的技术方案一方面提供了一种用于同位素生产的靶件，包括：
[0007]石墨包容外壳，所述石墨包容外壳的上表面形成有向内凹陷的第一腔体，所述第一腔体的底部形成有向内凹陷的第二腔体，所述第二腔本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于同位素生产的靶件，其特征在于，包括：石墨包容外壳，所述石墨包容外壳的上表面形成有向内凹陷的第一腔体，所述第一腔体的底部形成有向内凹陷的第二腔体，所述第二腔体的底部用于放置靶材；石墨膜，所述石墨膜放置在所述第一腔体的底部，用于覆盖所述第二腔体且与所述第二腔体形成用于包容所述靶材的封闭腔体，所述第一腔体与所述石墨膜形成束流区域。2.根据权利要求1所述的用于同位素生产的靶件，其特征在于，所述第一腔体和第二腔体均为圆柱形腔体。3.根据权利要求2所述的用于同位素生产的靶件，其特征在于，所述石墨包容外壳包括凸缘以及连接在所述凸缘底部的圆柱体，所述第一腔体设置在所述凸缘的上表面。4.一种用于同位素生产的靶件组件，其特征在于，包括石墨托盘和若干个权利要求1～3中任意一项所述的用于同位素生...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨磊，张建荣，张学智，张雅玲，杨阳阳，张衡，唐庆峰，高笑菲，詹文龙，
申请(专利权)人：先进能源科学与技术广东省实验室，
类型：发明
国别省市：