锗镓发生器屏蔽装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了锗镓发生器屏蔽装置，涉及专用于锗镓发生器的屏蔽装置，其技术方案要点是：锗镓发生器屏蔽装置，包括屏蔽罐，所述屏蔽罐内设置有柱状的空腔；所述空腔用于放置锗镓发生器的填料筒；填料筒内盛放吸附剂；所述吸附剂特异性吸附

【技术实现步骤摘要】
锗镓发生器屏蔽装置


[0001]本技术涉及一种屏蔽辐射的装置，更具体地说，它涉及专用于锗镓发生器的屏蔽装置。

技术介绍

[0002]68
Ga作为一种理想的诊断核素，可与治疗用核素如
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Lu和
225
Ac等配对以实现诊疗一体化。目前，国内
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Ga的生产依赖医用回旋加速器生产，需经过制靶、辐照、分离纯化、灭菌等一系列工艺生产工艺较复杂，生产周期较长，需要配套相关的厂房、设备设施以及专业的生产人员，生产成本高。母体核素
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Ge能够衰变为
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Ga。利用洗脱剂将
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Ga从特异性吸附
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Ge的填料中洗出，即可获得
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Ga。因此，可以采用填料筒盛装吸附剂，通过洗脱管路将其洗出。由于需要有与外部连通的管路，因此需要专门设计屏蔽装置。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是提供锗镓发生器屏蔽装置，达到屏蔽锗镓发生器射线的目的。
[0004]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：锗镓发生器屏蔽装置，其特征是：包括屏蔽罐，所述屏蔽罐内设置有柱状的空腔；所述空腔用于放置锗镓发生器的填料筒；填料筒内盛放吸附剂；所述吸附剂特异性吸附
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Ge；所述填料筒上连接有洗脱管；所述空腔设置有屏蔽垫；屏蔽垫包括第一屏蔽垫和第二屏蔽垫；第一屏蔽垫和第二屏蔽垫分别设置于空腔两端；第一屏蔽垫和第二屏蔽垫上分别设置有开槽；开槽用于放置洗脱管。<br/>[0005]由于锗镓发生装置需要与外部连通，现有的屏蔽装置不能做到与外部连通的效果。上述方案通过在屏蔽垫上设置开槽，用于放置洗脱管，使其满足锗镓发生器的安全使用需求。
[0006]进一步的，第一屏蔽垫和第二屏蔽垫上设置有凸起。
[0007]进一步的，屏蔽罐包括罐体、和端盖，所述端盖包括第一端盖和第二端盖；罐体围绕填料筒设置；罐体包括外壳和屏蔽筒，屏蔽筒设置于外壳内；所述空腔设置于屏蔽筒内。
[0008]进一步的，第一端盖包括第一端壳和第一屏蔽块；第一屏蔽块设置于第一端壳内；第一屏蔽块上有与第一屏蔽垫上凸起相配合的凹槽；第二端盖包括第二端壳和第二屏蔽块；第二屏蔽块设置于第二端壳内；第二屏蔽块上有与第二屏蔽垫上凸起相配合的凹槽。
[0009]进一步的，屏蔽筒内有用于放置填料筒的环形凸台。
[0010]进一步的，第一端壳与外壳之间相齿合；第二端壳与外壳之间相齿合。
[0011]进一步的，屏蔽罐上还设置有提手。
[0012]综上所述，本技术提供了一种锗镓发生器专用的屏蔽装置；解决了锗镓发生装置无专用屏蔽装置的问题。
附图说明
[0013]图1是实施例示意图
[0014]图2是实施例填料筒和洗脱管示意图
[0015]图中：11、外壳；12、屏蔽筒；13、第一端壳；14、第一屏蔽块；15、第二端壳；16、第二屏蔽块；17、第二屏蔽垫；18、第一屏蔽垫；19、提手；2、填料筒；21、透明层；22、保护层；23、堵头；24、第一过滤板；25、第二过滤板；3、洗脱管；31、注入管；32、输出管；33、接头；41、第二缓冲套；42、第三缓冲套；43、第一缓冲套。
具体实施方式
[0016]为了使本技术所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。
[0017]需说明的是，当部件被称为“固定于”或“设置于”另一个部件，它可以直接在另一个部件上或者间接在该另一个部件上。当一个部件被称为是“连接”另一个部件，它可以是直接或者间接连接至该另一个部件上，该“连接”不限定固定连接或活动连接，具体连接方式应根据所要解决的具体技术问题来判断。
[0018]需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0019]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0020]实施例：
[0021]锗镓发生器屏蔽装置，所述屏蔽装置用于屏蔽锗镓发生器；所述屏蔽装置包括屏蔽罐；所述锗镓发生器包括填料筒2和洗脱管3。
[0022]填料筒2呈筒状，其横截面可以为圆形，也可以为多边形。填料筒2包括筒体，筒体从内至外分别为透明层21和保护层22。透明层21采用透明材质制成，该透明材料应满足耐辐射、耐酸碱的特性；可选的有玻璃、聚丙烯、聚苯乙烯中的一种。将内层透明层21可以方便地查看填料筒2内的吸附剂的状态。保护层22采用金属材质，可选的有铜、铁、铝等材料或者其他合金材料；优选的，可以采用密度较低的金属铝、金属钛、铝合金、钛合金中的一种，可以减少发生器的重量。保护层22起到对透明层21的保护作用，防止填料筒2碎裂或划伤。填料筒2用于盛放吸附剂；所述吸附剂特异性吸附有
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Ge。
[0023]填料筒2的两端设置有堵头23，堵头23用于防止吸附剂外泄。堵头23上还设置有通孔；通孔用于固定洗脱管3。堵头23的材料应满足耐辐射、耐弱酸或者耐弱碱的特性；可选的有丁腈橡胶或氟橡胶。
[0024]洗脱管3包括注入管31和输出管32；注入管31和输出管32分别与填料筒2两端的堵头23连接。洗脱剂通过注入管31注入填料筒2内，将68Ga通过输出管32带出发生器。洗脱管3采用医用的pvc管。洗脱管3上还设置有接头33，如鲁尔接头33，可以适应更多的医用接头
33。方便将洗脱剂注入发生器，以及收集洗脱后的溶液。
[0025]填料筒2内还设置有过滤板，过滤板将吸附剂与洗脱管3分隔开。注入管31一侧的过滤板一方面可以起到过滤作用，防止插入接头33时带入的杂质污染吸附剂；另一方面，过滤板可以起到分散洗脱液的作用，使洗脱液能够尽量均匀地从填料筒2的上端流向下端。输出管32一侧的过滤板主要用于防止吸附剂随管路流出发生器。
[0026]所述屏蔽罐包括罐体、和端盖，所述端盖包括第一端盖和第二端盖；罐体围绕填料筒2设置；罐体包括外壳11和屏蔽筒12，屏蔽筒12设置于外壳11内；屏蔽筒12内有柱状的空腔，所述空腔用于放置填料筒2及缓冲套。优选的，屏蔽筒12内有用于放置填料筒2的环形凸台；输出管32由环形凸台中部通过。空腔上设置有屏蔽垫，屏蔽垫包括第一屏蔽垫18和第二屏蔽垫17；第一屏蔽垫18和第二屏蔽垫17分别设置于空腔两端。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.锗镓发生器屏蔽装置，其特征是：包括屏蔽罐，所述屏蔽罐内设置有柱状的空腔；所述空腔用于放置锗镓发生器的填料筒(2)；填料筒(2)内盛放吸附剂；所述吸附剂特异性吸附
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Ge；所述填料筒(2)上连接有洗脱管(3)；所述空腔设置有屏蔽垫；屏蔽垫包括第一屏蔽垫(18)和第二屏蔽垫(17)；第一屏蔽垫(18)和第二屏蔽垫(17)分别设置于空腔两端；所述屏蔽罐采用铅作为屏蔽材料；第一屏蔽垫(18)和第二屏蔽垫(17)上分别设置有开槽；所述开槽用于放置洗脱管(3)。2.根据权利要求1所述的锗镓发生器屏蔽装置，其特征是：第一屏蔽垫(18)和第二屏蔽垫(17)上设置有凸起。3.根据权利要求2所述的锗镓发生器屏蔽装置，其特征是：屏蔽罐包括罐体、和端盖，所述端盖包括第一端盖和第二端盖；罐体围绕填料筒(2)设置；罐体包括外壳(11)和屏蔽筒(12)，屏蔽...

【专利技术属性】
技术研发人员：王刚，余伟，刘玉洪，
申请(专利权)人：中广核同位素科技绵阳有限公司，
类型：新型
国别省市：