一种吸附剂再生设备制造技术

本实用新型专利技术涉及气体生产技术领域，尤其是一种吸附剂再生设备，填料架固定连接至电动伸缩杆的伸缩端上，填料架可穿过带孔板，第一吸附填料层设置在第一料室内，第二吸附填料层设置在第二料室内，第一清洗机构连通至第一腔室的上端，第二清洗机构连通至第二腔室的上端，排液机构连通至第一腔室

【技术实现步骤摘要】
一种吸附剂再生设备


[0001]本技术涉及气体生产
，尤其涉及一种吸附剂再生设备
。

技术介绍

[0002]电子混合气指含有两种或两种以上有效组份，或虽属非有效组份但其含量超过规定限量的气体
。
由几种气体组成的混合物，是工程上常用的工质，混合气体通常被当作理想气体研究，在电子混合气在生产过程中会产生废气，为了防止废气污染空气，采用吸附剂对废气进行吸附处理，在吸附剂吸附一定的废气后，吸附剂的外侧包裹粘附物，吸附剂对废气的吸附效果变差，需要取出吸附剂处理，操作人员需要对废气处理设备内部的吸附剂进行更换，内部的吸附层无法进行循环利用
。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的操作人员需要对废气处理设备内部的吸附剂进行更换，内部的吸附层无法进行循环利用的缺点，而提出的一种吸附剂再生设备
。
[0004]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0005]设计一种吸附剂再生设备，包括处理箱
、
填料架
、
第一吸附填料层
、
第二吸附填料层
、
第一清洗机构
、
第二清洗机构和排液机构，其中：
[0006]所述填料架固定连接至电动伸缩杆的伸缩端上，所述填料架可穿过带孔板，所述第一吸附填料层设置在第一料室内，所述第二吸附填料层设置在第二料室内，所述第一清洗机构连通至第一腔室的上端，所述第二清洗机构连通至第二腔室的上端，所述排液机构连通至第一腔室
、
第二腔室的底端上
。
[0007]优选的，所述第一清洗机构与所述第二清洗机构结构相同
。
[0008]优选的，所述第一清洗机构包括储液箱
、
导管
、
第一电磁阀和注液口，所述导管的一端连通至所述储液箱的底端，所述导管的另一端连通至所述第一腔室上，所述第一电磁阀固定连接至所述导管上，所述注液口开设至所述储液箱的上端
。
[0009]优选的，所述排液机构包括第一连接管
、
合液管
、
第二连接管和第二电磁阀，所述第一连接管的一端连通至所述第一腔室上，所述第一连接管的另一端连通至所述合液管上，所述第二连接管的一端连通至所述第二腔室上，所述第二连接管的另一端连通至所述合液管上，所述第二电磁阀固定连接至所述合液管上
。
[0010]优选的，所述第一腔室与所述第二腔室内均固定连接有加热机构，所述加热机构包括固定架和加热管，所述固定架固定连接至所述第一腔室内，所述加热管固定连接至所述固定架上
。
[0011]优选的，所述加热管设有若干
。
[0012]本技术提出的一种吸附剂再生设备，有益效果在于：
[0013]通过在第一吸附填料层对废气进行处理时，第二清洗机构对第二吸附填料层进行
清洁，在第二吸附填料层对废气进行处理时，第一清洗机构对第一吸附填料层进行清洁，无需取出第一吸附填料层与第二吸附填料层进行更换，第一吸附填料层与第二吸附填料层可循环使用
。
附图说明
[0014]图1为本技术提出的一种吸附剂再生设备的结构示意图一；
[0015]图2为本技术提出的一种吸附剂再生设备的结构示意图二；
[0016]图3为本技术提出的一种吸附剂再生设备的结构示意图剖视；
[0017]图4为本技术提出的一种吸附剂再生设备中填料架
、
第一吸附填料层与第二吸附填料层的连接结构示意图
。
[0018]图中：处理箱
1、
带孔板
2、
电动伸缩杆
3、
填料架
4、
第一吸附填料层
5、
第二吸附填料层
6、
第一清洗机构
7、
第二清洗机构
8、
排液机构
9、
加热机构
10、
储液箱
71、
导管
72、
第一电磁阀
73、
注液口
74、
第一连接管
91、
合液管
92、
第二连接管
93、
第二电磁阀
94、
固定架
101、
加热管
102。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚
、
完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例
。
[0020]实施例1[0021]参照图1‑4，一种吸附剂再生设备，包括处理箱
1、
填料架
4、
第一吸附填料层
5、
第二吸附填料层
6、
第一清洗机构
7、
第二清洗机构8和排液机构9，其中：
[0022]处理箱1内固定连接有两个平行设置的带孔板2，两个平行设置的带孔板2将处理箱1内分成第一腔室
、
气体处理室和第二腔室，气体处理室的底端连通有进气管，气体处理室的上端连通有出气管，处理箱1上固定连接有电动伸缩杆3，电动伸缩杆3用于带动填料架4在水平方向移动，填料架4固定连接至电动伸缩杆3的伸缩端上，填料架4位于处理箱1内，填料架4可穿过带孔板2，填料架4内开设有第一料室与第二料室，第一料室用于安装第一吸附填料层5，第二料室用于安装第二吸附填料层6，第一料室的两端均固定连接有第一固定网，第一固定网用于对第一料室内的第一吸附填料层5进行固定，避免第一吸附填料层5从第一料室上掉落，第二料室的两端均固定连接有第二固定网，第二固定网用于对第二料室内的第二吸附填料层6进行固定，第一吸附填料层5设置在第一料室内，第一吸附填料层5用于对气体进行处理，第二吸附填料层6设置在第二料室内，第二吸附填料层6用于对气体进行处理，第一清洗机构7连通至第一腔室的上端，第一清洗机构7用于对第一吸附填料层5进行清洗，第二清洗机构8连通至第二腔室的上端，第二清洗机构8用于对第二吸附填料层6进行清洗，第一清洗机构7与第二清洗机构8结构相同，排液机构9连通至第一腔室
、
第二腔室的底端上，排液机构9用于排放第一腔室
、
第二腔室内清洗产生的废液，处理箱1上固定连接有控制器，控制器通过导线连接电动伸缩杆
3、
第一清洗机构
7、
第二清洗机构8和排液机构9；
[0023]排液机构9包括第一连接管
91、
合液管
92、
第二连接管
93
和第二电磁阀
94
，第一连
接管
91
的一端连通至第一腔室上，第一连接管
91
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种吸附剂再生设备，其特征在于，包括处理箱
(1)、
填料架
(4)、
第一吸附填料层
(5)、
第二吸附填料层
(6)、
第一清洗机构
(7)、
第二清洗机构
(8)
和排液机构
(9)
，其中：所述填料架
(4)
固定连接至电动伸缩杆
(3)
的伸缩端上，所述填料架
(4)
可穿过带孔板
(2)
，所述第一吸附填料层
(5)
设置在第一料室内，所述第二吸附填料层
(6)
设置在第二料室内，所述第一清洗机构
(7)
连通至第一腔室的上端，所述第二清洗机构
(8)
连通至第二腔室的上端，所述排液机构
(9)
连通至第一腔室
、
第二腔室的底端上
。2.
根据权利要求1所述的吸附剂再生设备，其特征在于，所述第一清洗机构
(7)
与所述第二清洗机构
(8)
结构相同
。3.
根据权利要求1所述的吸附剂再生设备，其特征在于，所述第一清洗机构
(7)
包括储液箱
(71)、
导管
(72)、
第一电磁阀
(73)
和注液口
(74)
，所述导管
(72)
的一端连通至所述储液箱
(71)
的底端，所述导管
(72)
的另一端连通至所述第一腔室上，所述第一电...

【专利技术属性】
技术研发人员：董宜忠，章俊，
申请(专利权)人：合肥先微半导体材料有限公司，
类型：新型
国别省市：