RPD制造技术

本发明专利技术公开了一种

【技术实现步骤摘要】
RPD镀膜装置


[0001]本专利技术涉及太阳能光伏镀膜
，尤其涉及一种
RPD
镀膜装置
。

技术介绍

[0002]RPD(Reactive Plasma Deposition)
等离子体沉积镀膜的原理是采用等离子束轰击靶锭表面，在真空环境下，升华的靶材离子在等离子体区域被激活而形成离子态，并与通入的反应气体反应形成沉积在衬底表面的薄膜；相关技术中，不同的反应气体的离化率具有差异，如氧气的解离度远不及其他气体，由于气体离子在镀膜腔体内受到磁场的影响而偏向，造成衬底上薄膜沉积的区块含氧比例不均，影响薄膜沉积的厚度及方阻的均匀性
。

技术实现思路

[0003]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一
。
为此，本专利技术提出一种
RPD
镀膜装置，能够提升氧气的解离度，以及薄膜的沉积厚度与方阻的均匀性
。
[0004]根据本专利技术实施例中的
RPD
镀膜装置，包括：
[0005]镀膜室，内部具有真空腔；本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.RPD
镀膜装置，其特征在于，包括：镀膜室，内部具有真空腔；炉膛，部分位于所述真空腔内，用于装载并加热靶锭；等离子体发生器，位于所述镀膜室的侧部，并向所述真空腔内发射等离子束；传送机构，用于装载待镀基板，所述传送机构与所述炉膛相对设置；输气机构，所述输气机构包括输气主体，所述输气主体位于所述炉膛朝向所述传送机构的一侧，所述输气主体具有排气孔，所述排气孔用于朝向所述炉膛排放反应气体，所述输气主体具有沿所述炉膛与所述传送机构的排布方向贯穿的反应腔
。2.
根据权利要求1所述的
RPD
镀膜装置，其特征在于，所述输气主体呈环形，且位于所述炉膛的正上方
。3.
根据权利要求1所述的
RPD
镀膜装置，其特征在于，所述输气主体至少包括呈环形
、
螺旋形
、
曲线形或网格形的输气部
。4.
根据权利要求1所述的
RPD
镀膜装置，其特征在于，所述排气孔设置于所述输气主体朝向炉膛的一侧，并朝向所述炉膛的中心
。5.
根据权利要求1至4中任一项所述的
RPD
镀膜装置，其特征在于，所述输气主体环绕于等离子束的外围
...

【专利技术属性】
技术研发人员：余仲，陈厚模，林静影，苏超颖，蔡泽，
申请(专利权)人：深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：