一种透明金属网格的图镀制备方法技术

本发明专利技术公开了一种透明金属网格的图镀制备方法，包括以下步骤：提供一透明基材，在透明基材上形成超薄铜膜；在超薄铜膜上涂覆光阻剂；制作菲林；用菲林对光阻剂进行曝光显影；对超薄铜膜进行刻蚀，刻蚀后去除光阻剂，制得金属网格；利用电镀法，将所述金属网格及其边线进行图镀增厚处理；检查所述金属网格的厚度均一性及功能

【技术实现步骤摘要】
一种透明金属网格的图镀制备方法


[0001]本专利技术涉及透明电极材料
，尤其涉及一种透明金属网格的图镀制备方法
。

技术介绍

[0002]在触控屏技术中，透明导电电极材料的发展至关重要
。
当下发展最为成熟的透明导电电极材料主要有
ITO、
纳米银线
、
金属网格
、
纳米压印薄膜等
。
金属网格因具有一体成型
、
导电性能优异
、
稳定性好等优势而备受关注
。
然而，金属网格的发展极大受限于铜膜材料的发展
。
[0003]传统的金属网格制备通常采用黄光减法工艺，因此金属网格线路的厚度决定了铜膜膜材的厚度
。
在触摸屏领域，为确保透明金属网格电极较好的导电性能和稳定性，线路厚度一般保持在1‑2μ
m
左右，故铜膜膜材的厚度需求也在1‑2μ
m
范围内
。
对铜膜膜材的制程工艺进行分析可知，1‑2μ
m
的铜膜膜材通常采用蒸镀或溅镀的方式来实现，而优质的铜膜膜材通常依赖进口
。
[0004]鉴于现有黄光减法工艺严重依赖铜膜材料的劣势，在国产超薄铜模材料上难以采用黄光减法来制作透明导电材料，故透明金属网格的生产就存在铜膜膜材价格高
、
对外依存度高等问题
。
[0005]因此，有必要研发一种透明金属网格的图镀制备方法，从而解决铜膜膜材价格高
、
严重依赖进口等问题
。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的是在于提出一种透明金属网格的图镀制备方法，以推动透明金属网格制造技术的发展，解决铜膜膜材价格高
、
严重依赖进口等问题
。
[0007]为实现上述技术目的，本专利技术采用的技术方案如下：一种透明金属网格的图镀制备方法，包括以下步骤：
[0008]步骤
S1
：提供一透明基材，在所述透明基材上形成超薄铜膜；
[0009]步骤
S2
：在所述超薄铜膜上涂覆光阻剂；
[0010]步骤
S3
：制作菲林；
[0011]步骤
S4
：用所述菲林对所述光阻剂进行曝光显影；
[0012]步骤
S5
：对所述超薄铜膜进行刻蚀，刻蚀后去除所述光阻剂，制得金属网格；
[0013]步骤
S6
：利用电镀法，将所述金属网格及其边线进行图镀增厚处理；
[0014]步骤
S7
：检查所述金属网格的厚度均一性及功能
。
[0015]优选地，所述步骤
S2
中，采用包括但不限于旋涂
、
刮涂
、
压干膜的至少一种手段，将一层光阻剂均匀地涂覆在超薄铜膜上
。
[0016]优选地，所述光阻剂的厚度为1～
20
μ
m。
[0017]优选地，所述步骤
S3
中，在菲林制作步骤中，在菲林一侧的边缘位置上设置无效区
域；
[0018]所述步骤
S5
中，所述无效区域使得刻蚀后的金属网格的边缘处产生无效边；
[0019]所述步骤
S6
中，所述无效边用作电镀法的电极夹取点；所述无效边在电镀作业结束后被裁剪去除
。
[0020]优选地，所述步骤
S6
中，采用平板将所述金属网格进行固定，并通过龙门电镀来实现图镀增厚
。
[0021]优选地，所述步骤
S6
中，采用匀速提拉的方式进行龙门电镀，提拉速度为1～
100cm/min
，并延长使远电端的电镀时间
。
[0022]优选地，所述步骤
S6
中，电镀液中含有硫酸铜
100
～
300g
·
L
‑1、
硫酸
10
～
100g
·
L
‑1、
氯化氢
20
～
100mg
·
L
‑1、
整平剂
50
～
200ml
·
L
‑1及光亮剂
10
～
100ml
·
L
‑1。
[0023]优选地，所述步骤
S6
中，电镀前先向所述金属网格提供和施加负电势，保护所述金属网格不被电镀液腐蚀
。
[0024]优选地，所述光阻剂为光刻胶或者干膜
。
[0025]从以上技术方案可以看出，本专利技术实施例具有以下优点：本专利技术提供的透明金属网格的图镀制备方法，基于黄光减法工艺，先通过超薄铜膜制备出金属网格线路，再通过对线路进行图镀增厚来制备满足使用要求的金属网格
。
本专利技术通过黄光减法工艺与图镀相结合，实现了在常规的超薄铜膜基础上制备透明金属网格，解决了现有黄光减法工艺严重依赖铜膜材料以及资源浪费的问题，有助于降低生产成本和提升产品利润
。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图
。
[0027]图1为透明金属网格的图镀制备方法的过程示意图
。
[0028]图2为透明金属网格的图镀制备方法中的无效区域对应的金属网格的刻蚀效果示意图
。
[0029]其中各部件名称与附图编号的对应关系为：1‑‑
透明基材
、2
‑‑
超薄铜膜
、3
‑‑
光阻剂
、4
‑‑
金属网格
、5
‑‑
无效边
。
具体实施方式
[0030]本专利技术公开了一种透明金属网格的图镀制备方法，基于黄光减法工艺，先通过超薄铜膜制备出金属网格线路，再通过对线路进行图镀增厚来制备满足使用要求的金属网格，以推动透明金属网格制造技术的发展，解决铜膜膜材价格高
、
严重依赖进口等问题
。
[0031]下面结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚和详细的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部实施例
。
基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围
。
[0032]本专利技术采用的技术方案如下：一种透明本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种透明金属网格的图镀制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤
S1
：提供一透明基材
(1)
，在所述透明基材上形成超薄铜膜
(2)
；步骤
S2
：在所述超薄铜膜上涂覆光阻剂
(3)
；步骤
S3
：制作菲林；步骤
S4
：用所述菲林对所述光阻剂进行曝光显影；步骤
S5
：对所述超薄铜膜进行刻蚀，刻蚀后去除所述光阻剂，制得金属网格
(4)
；步骤
S6
：利用电镀法，将所述金属网格及其边线进行图镀增厚处理；步骤
S7
：检查所述金属网格的厚度均一性及功能
。2.
根据权利要求1所述的透明金属网格的图镀制备方法，其特征在于，所述步骤
S2
中，采用包括但不限于旋涂
、
刮涂
、
压干膜的至少一种手段，将一层光阻剂均匀地涂覆在超薄铜膜上
。3.
根据权利要求2所述的透明金属网格的图镀制备方法，其特征在于，所述光阻剂的厚度为1～
20
μ
m。4.
根据权利要求1所述的透明金属网格的图镀制备方法，其特征在于，所述步骤
S3
中，在菲林制作步骤中，在菲林一侧的边缘位置上设置无效区域；所述步骤
S5
中，所述无效区域使得刻蚀后的金属网格的边缘处产生无效边
(5)
；所述步骤
S6
中，所述无效边用作电镀法的电极夹取点；所述无效边在...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏伟，罗智勇，
申请(专利权)人：淄博松柏电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：