一种双激光三维荧光成像设备制造技术

本实用新型专利技术涉及荧光成像技术领域，提供一种双激光三维荧光成像设备，包括：外壳以及设置在外壳内的光路系统和工控机主机；光路系统包括第一激光器

【技术实现步骤摘要】
一种双激光三维荧光成像设备


[0001]本技术涉及荧光成像
，尤其涉及一种双激光三维荧光成像设备
。

技术介绍

[0002]荧光是一种发光现象，大部分分子在常态下处于基态的最低能级，当分子受到能量激发后，电子从基态跃迁至激发态，处于激发态的电子是不稳定的，在一定条件下，它们通过两种方式向外释放能量重新回到基态
。
一种是以热量释放能量的无辐射跃迁，另一种是以光子形式释放能量的辐射跃迁
。
当粒子从激发态直接跃迁至基态能级，就会以光的形式释放能量，所发出的光就是荧光
。
[0003]将荧光技术和显微成像技术结合可以基于样品测试荧光成像，目前荧光成像设备主要包括激光器
、
二维振镜系统
、
显微镜，探测器等
。
激光器发出的光经过二维振镜系统和显微镜汇聚于样品表面，通过二维振镜可以在样品表面指定位置进行扫描，经探测器收集信号后实现荧光成像
。
[0004]但是，现有技术的荧光成像设备通常只设置一个激光器，如果需要测试不同激光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种双激光三维荧光成像设备，其特征在于，包括：外壳
(1)
以及设置在外壳
(1)
内的光路系统和工控机主机
(26)
；所述光路系统，包括：第一激光器
(5)、
第一反射镜
(7)、
电动翻折
(8)、
第一可调光阑
(9)、
第二反射镜
(10)、
第二可调光阑
(13)、
笼式立方体
(14)
和激光聚集单元；所述第一激光器
(5)
发出激光，激光经过第一反射镜
(7)
反射到水平状态的电动翻折
(8)
，激光经电动翻折
(8)
反射后依次通过第一可调光阑
(9)、
第二反射镜
(10)、
第二可调光阑
(13)、
笼式立方体
(14)
，激光经笼式立方体
(14)
反射后进入激光聚集单元，激光经激光聚集单元聚集于样品；样品产生荧光后，荧光返回依次经过激光聚集单元
、
笼式立方体
(14)、
小孔
(15)、
聚焦镜
(24)
并由探测器
(25)
收集；所述探测器
(25)
与工控机主机
(26)
信号连接；所述光路系统，还包括：第二激光器
(6)、
第三反射镜
(11)
和第四反射镜
(12)
；所述第二激光器
(6)
发出激光，激光依次经过第三反射镜
(11)、
第四反射镜
(12)
反射到第一可调光阑
(9)
，激光再依次通过第二反射镜
(10)、
第二可调光阑
(13)、
笼式立方体
(14)
，激光经笼式立方体
(14)
反射后进入激光聚集单元，激光经激光聚集单元聚集于样品
。2.
根据权利要求1所述的双激光三维荧光成像设备，其特征在于，所述激光聚集单元，包括：三维振镜
(16)、
振镜转接件
(17)、
聚焦透镜
(18)、
第一套管
(19)、
第二套管
(20)、
第三套管
(21)、
第四套管
(22)
和显微镜
(23)
；所述三维振镜
(16)
的输出端通过振镜转接件
(17)
设置聚焦透镜
...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈发强，
申请(专利权)人：大连创锐光谱科技有限公司，
类型：新型
国别省市：