一种连续式箱式真空镀膜设备制造技术

技术编号:39849190 阅读:8 留言:0更新日期:2023-12-30 12:51
本实用新型专利技术涉及真空镀膜设备技术领域,尤其涉及一种连续式箱式真空镀膜设备,包括箱式真空镀膜室,箱式真空镀膜室中设置有多排平面磁控溅射靶,多排平面磁控溅射靶前后两侧均设置有水冷板,箱式真空镀膜室中设置有用于对基膜缠绕传动的传动辊,箱式真空镀膜室内壁上固定连接有固定杆,水冷板上开设有与固定杆对应设置的固定孔,水冷板与固定杆之间开设有用于对水冷板进行螺栓固定的螺纹孔,通过水泵可驱使循环管中的水体进行流动,通过水体的运动可加快吸热效率,有助于提高冷却机构的冷却效果,通过散热片对循环管中的水体进行吸热冷却,并通过风扇加快散热片上的热量散失,有助于保障水冷板的冷却效果。于保障水冷板的冷却效果。于保障水冷板的冷却效果。

【技术实现步骤摘要】
一种连续式箱式真空镀膜设备


[0001]本技术涉及真空镀膜设备
,尤其涉及一种连续式箱式真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
[0003]由中国公开号为CN204325487U提出的一种连续式真空离子镀膜机,具有箱式真空镀膜室,箱式真空镀膜室内的左、右两侧分别设有基膜放卷机构和基膜收卷纠偏机构,箱式真空镀膜室内由左至右间隔设有多排平面磁控溅射靶,其中左、右两排为单面溅射平面磁控溅射靶、左右两排之间的为双面溅射平面磁控溅射靶,相邻排平面磁控溅射靶之间形成有镀膜通道,所述多排平面磁控溅射靶的前、后两侧分别设有水冷托板,水冷托板的外侧设有传动辊,传动辊位于相邻两排平面磁控溅射靶之间的位置;所述基膜放卷机构装设的基膜绕经传动辊后从镀膜通道通过并由基膜收卷纠偏机构进行纠偏后收卷。
[0004]上述技术方案中只通过水冷托板进行冷却处理,由于箱式真空镀膜室中进行工作时会不断产生热量,只通过水冷托板进行散热处理,散热效率低下,无法满足设备散热需要。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是为了解决现有技术中只通过水冷托板进行散热处理,散热效率低下,无法满足设备散热需要的问题,而提出的一种连续式箱式真空镀膜设备。
[0006]为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:
[0007]一种连续式箱式真空镀膜设备,包括箱式真空镀膜室,所述箱式真空镀膜室中设置有多排平面磁控溅射靶,所述多排平面磁控溅射靶前后两侧均设置有水冷板,所述箱式真空镀膜室中设置有用于对基膜缠绕传动的传动辊;
[0008]所述箱式真空镀膜室内壁上固定连接有固定杆,所述水冷板上开设有与固定杆对应设置的固定孔,所述水冷板与固定杆之间开设有用于对水冷板进行螺栓固定的螺纹孔;
[0009]所述水冷板中设置有用于对箱式真空镀膜室与基膜进行散热处理的冷却机构。
[0010]优选地,所述平面磁控溅射靶之间形成镀膜通道,所述传动辊设置于水冷板外端位置。
[0011]优选地,所述固定杆滑动套设于固定孔中,所述螺纹孔与固定孔相连通。
[0012]优选地,所述冷却机构包括开设于水冷板中的安装腔,所述安装腔中固定安装有水泵,所述安装腔中通过水泵固定连接有灌装水体的循环管,所述循环管上固定安装有散热片,所述水冷板上开设有通风口,所述通风口中固定安装有风扇,所述箱式真空镀膜室上开设有与外界连通并与通风口对应设置的通风管。
[0013]优选地,所述循环管为多个U形管组成,所述散热片设置于水泵两侧位置。
[0014]与现有技术相比,本技术具备以下优点:
[0015]1、本技术通过水泵可驱使循环管中的水体进行流动,通过水体的运动可加快吸热效率,有助于提高冷却机构的冷却效果。
[0016]2、本技术通过散热片对循环管中的水体进行吸热冷却,并通过风扇加快散热片上的热量散失,有助于保障水冷板的冷却效果。
附图说明
[0017]图1为本技术提出的一种连续式箱式真空镀膜设备的结构示意图;
[0018]图2为本技术提出的一种连续式箱式真空镀膜设备的冷却机构结构示意图;
[0019]图3为本技术提出的一种连续式箱式真空镀膜设备的A局部放大结构示意图。
[0020]图中:1、箱式真空镀膜室;2、平面磁控溅射靶;3、水冷板;4、传动辊;5、固定杆;6、固定孔;7、螺纹孔;8、安装腔;9、水泵;10、循环管;11、散热片;12、通风口;13、风扇;14、通风管。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。
[0022]参照图1

图3,一种连续式箱式真空镀膜设备,包括箱式真空镀膜室1,箱式真空镀膜室1中设置有多排平面磁控溅射靶2,平面磁控溅射靶2之间形成镀膜通道,多排平面磁控溅射靶2前后两侧均设置有水冷板3,箱式真空镀膜室1中设置有用于对基膜缠绕传动的传动辊4,传动辊4设置于水冷板3外端位置;
[0023]箱式真空镀膜室1内壁上固定连接有固定杆5,水冷板3上开设有与固定杆5对应设置的固定孔6,固定杆5滑动套设于固定孔6中,水冷板3与固定杆5之间开设有用于对水冷板3进行螺栓固定的螺纹孔7,螺纹孔7与固定孔6相连通,通过螺纹孔7对水冷板3进行安装,有助于提高水冷板3的稳定性;
[0024]水冷板3中设置有用于对箱式真空镀膜室1与基膜进行散热处理的冷却机构;
[0025]进一步说明:冷却机构包括开设于水冷板3中的安装腔8,安装腔8中固定安装有水泵9,水泵9的型号为DC40,安装腔8中通过水泵9固定连接有灌装水体的循环管10,循环管10为多个U形管组成,通过多个U形管可增加循环管10与水冷板3的接触面,并通过水泵9可使得冷却水体在循环管10进行水循环,以此使得循环管10中的冷却水体能进行流动,有助于提高循环管10的冷却效率;
[0026]循环管10上固定安装有散热片11,散热片11设置于水泵9两侧位置,通过散热片11可对循环管10进行吸热处理,有助于提高循环管10的冷却效果,水冷板3上开设有通风口12,通风口12中固定安装有风扇13,箱式真空镀膜室1上开设有与外界连通并与通风口12对应设置的通风管14,通过风扇13可对散热片11进行散热处理,有助于提高散热片11的使用效果。
[0027]本技术可通过以下操作方式阐述其功能原理:
[0028]启动水泵9,使得循环管10中的水体能进行循环运动,并通过散热片11对循环管10进行吸热冷却,启动风扇13,以此使得散热片11上的热量能快速散失,使得这些热量通过通风口12以及通风管14排出,以此保证水冷板3的冷却效果。
[0029]以上所述,仅为本技术较佳的具体实施方式,但本技术的保护范围并不局限于此,任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内,根据本技术的技术方案及其技术构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种连续式箱式真空镀膜设备,包括箱式真空镀膜室(1),其特征在于,所述箱式真空镀膜室(1)中设置有多排平面磁控溅射靶(2),所述多排平面磁控溅射靶(2)前后两侧均设置有水冷板(3),所述箱式真空镀膜室(1)中设置有用于对基膜缠绕传动的传动辊(4);所述箱式真空镀膜室(1)内壁上固定连接有固定杆(5),所述水冷板(3)上开设有与固定杆(5)对应设置的固定孔(6),所述水冷板(3)与固定杆(5)之间开设有用于对水冷板(3)进行螺栓固定的螺纹孔(7);所述水冷板(3)中设置有用于对箱式真空镀膜室(1)与基膜进行散热处理的冷却机构。2.根据权利要求1所述的一种连续式箱式真空镀膜设备,其特征在于,所述平面磁控溅射靶(2)之间形成镀膜通道,所述传动辊(4)设置于水冷板(3)外端位置。3.根据权利要求1所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈光代桥宋
申请(专利权)人:成都华宏聚远光学科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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