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本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种连续式箱式真空镀膜设备，包括箱式真空镀膜室，箱式真空镀膜室中设置有多排平面磁控溅射靶，多排平面磁控溅射靶前后两侧均设置有水冷板，箱式真空镀膜室中设置有用于对基膜缠绕传动的传动辊，箱式真空镀膜室...
该专利属于成都华宏聚远光学科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都华宏聚远光学科技有限公司授权不得商用。

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