提供了沉积设备和使用该沉积设备的沉积方法。沉积设备包括：掩模，包括沉积开口；掩模框架，支承掩模，并且包括第一部分、第二部分、第三部分和第四部分、以及与沉积开口重叠且由第一部分、第二部分、第三部分和第四部分围绕的开口；台，设置在掩模框架的后表面上；销单元，连接到台；以及磁体单元，设置在台的后表面上并且与掩模框架重叠。掩模框架的第一部分和第二部分在第一方向上延伸，并且掩模框架的第三部分和第四部分在与第一方向相交的第二方向上延伸，以及销单元支承掩模框架的第一部分的侧表面并且在第二方向上是可移动的。的侧表面并且在第二方向上是可移动的。的侧表面并且在第二方向上是可移动的。
【技术实现步骤摘要】
沉积设备和使用沉积设备的沉积方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2022年6月20日在韩国知识产权局提交的第10
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2022
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0075173号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用并入本文。
[0003]实施方式涉及用于制造显示面板的沉积设备和使用该沉积设备的沉积方法。
技术介绍
[0004]诸如电视、移动电话、平板计算机、导航系统和游戏机的显示装置可以包括用于显示图像的显示面板。显示面板可以包括像素。像素中的每个可以包括诸如晶体管的驱动元件和诸如有机发光二极管的显示元件。可以通过在衬底上沉积电极和发光图案来形成显示元件。
[0005]可以通过使用其中形成有沉积开口的掩模在特定区域处形成发光图案。近来，为了改善显示面板的产量，开发了一种通过使用大面积掩模的沉积工艺技术。然而，在掩模未对准在沉积设备中的设计位置处的情况下，形成发光图案的位置的精度会被劣化。
技术实现思路
[0006]实施方式提供一种能够改善大面积沉积的沉积精度的沉积设备以及使用该沉积设备的沉积方法。
[0007]然而，本公开的实施方式不限于本文中阐述的那些实施方式。通过参考下面给出的本公开的详细描述，以上和其它实施方式对于本公开所属领域的普通技术人员将会更加显而易见。
[0008]根据实施方式，沉积设备可以包括：掩模，包括沉积开口；掩模框架，支承掩模，并且包括第一部分、第二部分、第三部分和第四部分、以及由第一部分、第二部分、第三部分和第四部分围绕且与沉积开口重叠的开口；台，设置在掩模框架的后表面上；销单元，连接到台；以及磁体单元，设置在台的后表面上并且与掩模框架重叠。掩模框架的第一部分和第二部分中的每个可以在第一方向上延伸，并且掩模框架的第三部分和第四部分中的每个可以在与第一方向相交的第二方向上延伸，以及销单元可以支承掩模框架的第一部分的侧表面并且在第二方向上可以是可移动的。
[0009]销单元可以包括在第一方向上设置的多个销。
[0010]多个销中的每个可以在第二方向上是可独立移动的。
[0011]磁体单元可以包括多个电永磁体，以及多个电永磁体可以设置在台的后表面上，以与掩模框架的第一部分、第二部分、第三部分和第四部分中的至少一个重叠。
[0012]多个电永磁体可以包括：第一电永磁体，与掩模框架的第一部分和/或第二部分重叠；以及第二电永磁体，与掩模框架的第三部分和/或第四部分重叠，第一电永磁体在第一方向上可以是可移动的，以及第二电永磁体在第二方向上可以是可移动的。
[0013]第一电永磁体和第二电永磁体可以是可独立移动的。
[0014]沉积设备还可以包括在台的后表面上与磁体单元间隔开的可调节块，可调节块在平面图中可以与掩模框架重叠。
[0015]可调节块在与第一方向和第二方向相交的第三方向上可以具有可变长度。
[0016]可调节块可以包括多个可调节块，以及多个可调节块可以包括与掩模框架的拐角部分重叠的第一可调节块。
[0017]多个可调节块还可以包括：第二可调节块，与掩模框架的第一部分和/或第二部分重叠；以及第三可调节块，与掩模框架的第三部分和/或第四部分重叠。
[0018]掩模和掩模框架中的每个可以包括金属。
[0019]沉积设备还可以包括室，所述室包括设置掩模、掩模框架、台、销单元和磁体单元的内部空间，并且掩模框架的第一部分的侧表面可以面对室的底表面。
[0020]根据实施方式，沉积设备包括：室，包括内部空间；台，包括彼此相对的置放表面和后表面，置放表面垂直于室的底表面；掩模框架，设置在台的置放表面上，并且包括多个部分和由多个部分围绕的开口；掩模，设置在掩模框架上，并且与掩模框架的开口重叠；销单元，包括支承掩模框架的在第一方向上延伸的侧表面的多个销，第一方向基本上平行于室的底表面；以及磁体单元，设置在台的后表面上。多个销可以设置在台的置放表面上，可以彼此间隔开，并且在基本上垂直于第一方向的第二方向上可以是可移动的。
[0021]磁体单元可以包括：第一电永磁体，设置在台的第一部分上，第一部分基本上平行于掩模框架的侧表面在第一方向上延伸，以及第二电永磁体，设置在台的第二部分上，第二部分基本上垂直于掩模框架的侧表面在第二方向上延伸，第一电永磁体在第一方向上可以是可移动的，以及第二电永磁体在第二方向上可以是可移动的。
[0022]沉积设备还可以包括在台的后表面上设置成与磁体单元间隔开的多个可调节块，多个可调节块可以设置在台的第一部分和第二部分上，以及多个可调节块在基本上垂直于台的后表面的方向上可以具有可变长度。
[0023]多个可调节块可以包括：第一组可调节块，在第一方向上设置在第一电永磁体之间；以及第二组可调节块，在第二方向上设置在第二电永磁体之间。
[0024]根据实施方式，沉积方法可以包括：提供包括彼此相对的置放表面和后表面的台、与台的置放表面连接的销单元、以及设置在台的后表面上的磁体单元；在台的置放表面上提供掩模框架和掩模，掩模联接到掩模框架并且包括沉积开口；通过仿真获取由掩模的沉积开口形成的沉积图案的位置；以及基于所获取的沉积图案的位置，通过移动销单元或通过移动磁体单元来调节施加到掩模框架的力，以调节掩模和掩模框架的对准位置。
[0025]销单元可以包括沿着第一方向设置并且支承掩模框架的在第一方向上延伸的侧表面的多个销，以及多个销在基本上垂直于掩模框架的侧表面的第二方向上可以是可移动的，以调节施加到掩模框架的侧表面的力。
[0026]磁体单元可以包括设置成与掩模框架重叠的电永磁体，以及电永磁体在基本上平行于台的后表面的方向上可以是可移动的，以调节施加到掩模框架的力。
[0027]沉积方法还可以包括：提供可调节块，可调节块设置在台的后表面上并且与磁体单元间隔开，并且可调节块的长度在基本上垂直于台的后表面的方向上可以是可调节的，以调节施加到掩模框架的力。
附图说明
[0028]通过以下结合附图的简要描述，将会更清楚地理解示例性实施方式。附图表示如本文中所述的非限制性的示例性实施方式。
[0029]图1是根据实施方式的显示面板的示意性剖视图。
[0030]图2是根据实施方式的沉积设备的示意性剖视图。
[0031]图3A是根据实施方式的沉积设备的示意性分解立体图。
[0032]图3B是根据实施方式的掩模和掩模框架的示意性平面图。
[0033]图4A和图4B是根据实施方式的沉积设备的示意性平面图。
[0034]图5A和图5B是根据实施方式的沉积设备的示意性平面图。
[0035]图6A是根据实施方式在其上形成对准图案的沉积表面的示意性平面图。
[0036]图6B是根据实施方式的沉积设备的示意性平面图。
[0037]图7A是根据实施方式在其上形成对准图案的沉积表面的示意性平面图。
[0038]图7B是根据实本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.沉积设备，包括：掩模，包括沉积开口；掩模框架，支承所述掩模，并且包括第一部分、第二部分、第三部分、第四部分、以及由所述第一部分、所述第二部分、所述第三部分和所述第四部分围绕的开口，所述开口与所述沉积开口重叠；台，设置在所述掩模框架的后表面上；销单元，连接到所述台；以及磁体单元，设置在所述台的后表面上并且与所述掩模框架重叠，其中，所述掩模框架的所述第一部分和所述第二部分中的每个在第一方向上延伸，所述掩模框架的所述第三部分和所述第四部分中的每个在与所述第一方向相交的第二方向上延伸，以及所述销单元支承所述掩模框架的所述第一部分的侧表面并且在所述第二方向上是可移动的。2.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，所述销单元包括在所述第一方向上设置的多个销。3.根据权利要求2所述的沉积设备，其中，所述多个销中的每个在所述第二方向上是可独立移动的。4.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，所述磁体单元包括多个电永磁体，以及所述多个电永磁体设置在所述台的所述后表面上，以与所述掩模框架的所述第一部分、所述第二部分、所述第三部分和所述第四部分中的至少一个重叠。5.根据权利要求4所述的沉积设备，其中，所述多个电永磁体包括：第一电永磁体，与所述掩模框架的所述第一部分和/或所述第二部分重叠；以及第二电永磁体，与所述掩模框架的所述第三部分和/或所述第四部分重叠，所述第一电永磁体在所述第一方向上是可移动的，以及所述第二电永磁体在所述第二方向上是可移动的。6.根据权利要求5所述的沉积设备，其中，所述第一电永磁体和所述第二电永磁体是可独立移动的。7.根据权利要求1所述的沉积设备，还包括：可调节块，在所述台的所述后表面上与所述磁体单元间隔开，其中，所述可调节块在平面图中与所述掩模框架重叠。8.根据权利要求7所述的沉积设备，其中，所述可调节块在与所述第一方向和所述第二方向相交的第三方向上具有可变长度。9.根据权利要求8所述的沉积设备，其中，所述可调节块包括多个可调节块，以及所述多个可调节块包括与所述掩模框架的拐角部分重叠的第一可调节块。10.根据权利要求9所述的沉积设备，其中，所述多个可调节块还包括：
第二可调节块，与所述掩模框架的所述第一部分和/或所述第二部分重叠；以及第三可调节块，与所述掩模框架的所述第三部分和/或所述第四部分重叠。11.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，所述掩模和所述掩模框架中的每个包括金属。12.根据权利要求1所述的沉积设备，还包括：室，包括设置所述掩模、所述掩模框架、所述台、所述销单元和所述磁体单元的内部空间，其中，所述掩模框架的所述第一部分的所述侧表面面对所述室的底表面。13.沉积设备，包括：室，包括内部空间；台，包括彼此相对的置放表面和后表面，所述置放表面垂直于所述室的底表面；掩模...
【专利技术属性】
技术研发人员：洪宰敏，金亨旭，李晟彻，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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