一种泛半导体光刻机的飞拍寻靶对位装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及半导体技术领域，公开了一种泛半导体光刻机的飞拍寻靶对位装置及方法，包括：获取

【技术实现步骤摘要】
一种泛半导体光刻机的飞拍寻靶对位装置及方法


[0001]本专利技术涉及半导体
，特别是涉及一种泛半导体光刻机的飞拍寻靶对位装置及方法
。

技术介绍

[0002]目前，泛半导体光刻机以
UV(Ultra Violet, 紫外
)
光源为主，其广泛应用于光伏
、LED(Light Emitting Diode, 发光二极管
)、
平板显示和半导体等领域，在进行
PCB
板对位时，现有技术大都先通过工业相机拍摄
PCB(Printed Circuit Board, 印制电路板
)
板靶标的图像，然后计算靶标的理论坐标和实际坐标之间的差值，最后根据差值调整
PCB
板的位置来进行对位，目前，获取
PCB
板靶标图像的方式主要为“静态拍摄”，所谓“静态拍摄”也称“固定拍摄”，是通过伺服电机驱动工业相机到靶标位置，保持相机与靶标之间的相对静止，再进行拍摄和图像处理，在相机拍摄时，对位系统由运动状态到静止状态，拍摄完成后，再由本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种泛半导体光刻机的飞拍寻靶对位装置，其特征在于，包括：双相机运动模块（1）
、
平台运动模块（2）
、
双压电促动器模块（3）
、
曝光模块（4）
、
图像处理模块（5）和控制器（6），所述双相机运动模块（1）装设在所述平台运动模块（2）上，所述双压电促动器模块（3）与所述双相机运动模块（1）连接，所述曝光拍摄模块（4）装设在所述双相机运动模块（1）上，所述图像处理模块（5）的信号输出端与所述控制器（6）的信号输入端连接，所述控制器（6）的信号输出端与所述双相机运动模块（1）
、
所述平台运动模块（2）
、
所述双压电促动器模块（3）和所述曝光模块（4）输入端连接
。2.
根据权利要求1所述的一种泛半导体光刻机的飞拍寻靶对位装置，其特征在于，还包括：压电促动器（7）
、
单自由度柔顺机构（8）和相机支架（9），所述压电促动器（7）与所述单自由度柔顺机构（8）连接，所述相机支架（9）固定在所述单自由度柔顺机构（8）上，所述曝光拍摄模块（4）安装在所述相机支架（9）上
。3.
一种泛半导体光刻机的飞拍寻靶对位方法，其特征在于，包括：步骤
S1
：曝光拍摄模块获取待对位
PCB
板的靶标图像，并把所述靶标图像输入至图像处理模块，图像处理模块对所述靶标图像进行筛选和处理，并把处理信息送至控制器；步骤
S2
：控制器依据所述图像处理模块的处理信息，确定所述曝光拍摄模块的寻靶策略，并确定双相机运动模块
、
平台运动模块的第一控制信号，根据所述第一控制信号控制双相机运动模块
、
平台运动模块的运动轨迹；步骤
S3
：控制器确定所述曝光拍摄模块的曝光参数和运动规则，并根据所述曝光拍摄模块的曝光参数和所述双相机运动模块
、
平台运动模块的运动轨迹获取双压电促动器模块3的第二控制信号，根据所述第二控制信号控制双压电促动器模块工作，所述双压电促动器模块控制所述曝光拍摄模块拍摄，获取靶标图像；步骤
S4
：所述控制器设计高速图像处理算法和精度要求，将所述高速图像处理算法嵌入靶标识别间隙，根据所述高速图像处理算法处理满足精度要求的所述靶标图像，从而获得靶标的实际坐标；步骤
S5
：控制器根据所述实际坐标和纠偏算法计算待对位
PCB
板的靶标理论坐标和所述实际坐标的位置偏差量，根据所述位置偏差量调整
PCB
板的位置，完成对位
。4.<...

【专利技术属性】
技术研发人员：王瑞洲，许定贤，
申请(专利权)人：广东工业大学，
类型：发明
国别省市：