一种用于解干涉棱镜结构膜的模具及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种用于解干涉棱镜结构膜的模具及其制备方法，模具的表面上设有包括若干棱镜结构阵列的棱镜结构层，每一所述棱镜结构阵列沿其延伸方向的横截面为三角形，且所述三角形的第一边生长在所述模具的表面上，属于同一棱镜结构阵列的第一边的对角的顶点连线形成连续的自由曲线，自由曲线为垂直于模具表面的简谐波曲线和上下起伏的随机无序性变化的波形曲线中的任意一种或两种组合形成的曲线；用于制备模具的成型辊在进行成型切削之前，先进行表面活化处理和电镀处理，同时模具中添加有离型剂

【技术实现步骤摘要】
一种用于解干涉棱镜结构膜的模具及其制备方法


[0001]本专利技术涉及光学薄膜
，具体涉及一种用于解干涉棱镜结构膜的模具及其制备方法
。

技术介绍

[0002]液晶显示器背光模组中的光学膜具有辉度高的特点，现有的增亮光学膜一般是单层或多层棱镜膜叠加或贴合而成，为了实现较高的辉度增益效果，其棱镜结构同一阵列的棱镜高度一般是等高的，由此虽然实现了高辉度效果，但是组装到背光模组时易产生摩尔干涉现象，同时可视视角较低
。
[0003]现有的改善技术一般是在单层或多层棱镜膜上方堆叠或贴合雾化结构层，通过提升贴合膜整体雾度及遮蔽性来降低摩尔干涉
、
提升视角，但随之而来的是辉度会有一定的下降，且生产成本提高
。

技术实现思路

[0004]为克服上述缺点，本专利技术目的在于提供一种用于解干涉棱镜结构膜的模具及其制备方法，通过该模具进一步转印的光学膜具有优良的解干涉效果
、
较高辉度
、
遮蔽性及扩宽了可视视角效果，解决了现有在单层或多层棱镜膜上方堆叠或贴合雾化结构层来降低摩尔干涉但带来成本上升及辉度下降的问题；同时，该模具的制备方法具有一次加工制备中模具制备数量多
、
成型辊重制频次低，大幅降低了模具的生产成本，并且模具的转印效果优良
、
使用寿命长
。
[0005]为达成上述目的，本专利技术提出如下技术方案：
[0006]一种用于解干涉棱镜结构膜的模具，所述模具为表面上设有第一解干涉棱镜结构层的基材膜，所述第一解干涉棱镜结构层包括若干第一棱镜结构阵列；每一所述第一棱镜结构阵列沿阵列延伸方向的横截面为三角形，且所述三角形的第一边生长在所述模具的表面上，属于同一所述第一棱镜结构阵列上的所述第一边的对角的顶点连线形成连续的第一自由曲线；
[0007]所述第一自由曲线为垂直于模具表面的简谐波曲线和上下起伏的随机无序性变化的波形曲线中的任意一种或两种组合形成的曲线
。
[0008]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述模具为两侧表面上分别设有所述第一解干涉棱镜结构层和雾面层的基材膜
。
[0009]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述简谐波曲线为正弦波曲线和余弦波曲线中的任意一种或两种组合形成的曲线
。
当所述第一自由曲线遵循垂直于所述模具表面的正弦波或余弦波或两者组合的变化时，所述第一解干涉棱镜结构层具有优良的解干涉效果及高辉度的增益效果；当所述第一自由曲线遵循垂直于所述模具表面的上下起伏的随机无序性变化时，所述第一解干涉棱镜结构层具有更为优良的解干涉效果及高遮蔽性效果
。
[0010]本专利技术还提出一种用于解干涉棱镜结构膜的模具的制备方法，包括如下步骤：
[0011]步骤一：取圆柱形的基辊，整平处理其表面后进行清洗，接着，对所述基辊的表面进行活化处理，得到表面活化基辊；
[0012]步骤二：将所述表面活化基辊进行电镀处理，得到带金属镀层的电镀辊胚；
[0013]步骤三：将所述电镀辊胚进行整平切削处理，得到成型辊胚；
[0014]步骤四：以成型切削刀具对转动的所述成型辊胚采用螺纹式切削方式进行成型切削处理，成型切削完成后得到成型辊，所述成型辊的表面上带有与所述第一解干涉棱镜结构层呈镜像对称的第二解干涉棱镜结构层；
[0015]其中，所述成型切削刀具的刀头施加有
0.5V
‑
20V
的电压，所述电压的大小处于连续变化的状态，且为简谐波变化和随机无序性波形变化中的任意一种或两种组合形成的变化，所述电压的大小的变化频率为
50Hz
‑
20000Hz
；
[0016]步骤五：取基材膜，在所述基材膜的其中一个表面上涂布涂布液并使其固化形成雾面层，所述涂布液中含有
0.02
％
‑3％的
PMMA
或
PBMA
颗粒，所述
PMMA
或
PBMA
颗粒的粒径大小为1μ
m
‑
15
μ
m
；
[0017]步骤六：通过
UV
转印胶将所述成型辊表面上的第二解干涉棱镜结构层压印于固化有雾面层的所述基材膜的另一表面上，制得带有第一解干涉棱镜结构层的模具，其中，所述
UV
转印胶中含有
0.05
％
‑2％的甲基硅树脂类的离型剂，
UV
转印胶的主要成分为丙烯酸树脂类
。
[0018]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述步骤一中的对所述基辊的表面进行活化处理，包括：
[0019]采用稀硫酸对所述基辊表面进行活化处理，使所述基辊表面形成氧化层，通过该氧化层来增强后续的电镀过程中镀层与基辊之间的粘着力，并提升基辊表面的耐腐蚀性和稳定性
。
[0020]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述步骤二中的将所述表面活化基辊进行电镀处理，包括：
[0021]将所述表面活化基辊置于容纳有电镀液的电镀槽中，所述电镀液的温度为
50℃
‑
70℃
，所述电镀液的浓度为
100g/L
‑
300g/L
，施加直流电使所述表面活化基辊的表面形成镀层，恒温冷却
20h
‑
30h
，得到金属镀层单面厚度为
300
μ
m
‑
3000
μ
m
的所述带金属镀层的电镀辊胚；
[0022]所述电镀液为镀铜电镀液或者镀镍电镀液，所述镀铜电镀液的
pH
为9‑
12
，铜镀层的硬度为
200HB
‑
300HB
；
[0023]所述镀镍电镀液的
pH
为
3.5
‑
5.0
，镍镀层的硬度为
550HB
‑
580HB。
铜镀层或镍镀层等金属镀层具有优良的延展性，使得在对成型辊胚表面切削加工时更加易于加工成型，减少切削设备的能耗
。
[0024]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述涂布液还含有
0.05
％
‑1％的抗静电剂
。
所述抗静电剂的主要成分为丙烯酸季铵盐类，用于模具生产转印时降低其离型静电效果
。
[0025]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述步骤三中的将所述电镀辊胚进行整平切削处理，包括：
[0026]将所述电镀辊胚置于精密切削加工机上，采用整平切削刀具对其进行整平切削2次
‑5次，其中，每次整平切削的切削深度均为
10
μ
m
‑
100
μ
m
，且整平切削时最后一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种用于解干涉棱镜结构膜的模具，其特征在于，所述模具为表面上设有第一解干涉棱镜结构层的基材膜，所述第一解干涉棱镜结构层包括若干第一棱镜结构阵列；每一所述第一棱镜结构阵列沿阵列延伸方向的横截面为三角形，且所述三角形的第一边生长在所述模具的表面上，属于同一所述第一棱镜结构阵列的所述第一边的对角的顶点连线形成连续的第一自由曲线；所述第一自由曲线为垂直于所述模具表面的简谐波曲线和上下起伏的随机无序性变化的波形曲线中的任意一种或两种组合形成的曲线
。2.
根据权利要求1所述的用于解干涉棱镜结构膜的模具，其特征在于，所述模具为两侧表面上分别设有所述第一解干涉棱镜结构层和雾面层的基材膜
。3.
根据权利要求1或2所述的用于解干涉棱镜结构膜的模具，其特征在于，所述简谐波曲线为正弦波曲线和余弦波曲线中的任意一种或两种组合形成的曲线
。4.
一种用于解干涉棱镜结构膜的模具的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一：取圆柱形的基辊，整平处理其表面后进行清洗，接着，对所述基辊的表面进行活化处理，得到表面活化基辊；步骤二：将所述表面活化基辊进行电镀处理，得到带金属镀层的电镀辊胚；步骤三：将所述电镀辊胚进行整平切削处理，得到成型辊胚；步骤四：以成型切削刀具对转动的所述成型辊胚采用螺纹式切削方式进行成型切削处理，成型切削完成后制得成型辊，所述成型辊的表面上带有与所述第一解干涉棱镜结构层呈镜像对称的第二解干涉棱镜结构层；其中，所述成型切削刀具的刀头施加有
0.5V
‑
20V
的电压，所述电压的大小处于连续变化的状态，且为简谐波变化和随机无序性波形变化中的任意一种或两种组合形成的变化，所述电压的大小的变化频率为
50Hz
‑
20000Hz
；步骤五：取基材膜，在所述基材膜的其中一个表面上涂布涂布液并使其固化形成雾面层，所述涂布液中含有
0.02
％
‑3％的
PMMA
或
PBMA
颗粒，所述
PMMA
或
PBMA
颗粒的粒径大小为1μ
m
‑
15
μ
m
；步骤六：通过
UV
转印胶将所述成型辊表面上的第二解干涉棱镜结构层压印于固化有雾面层的所述基材膜的另一表面上，制得带有第一解干涉棱镜结构层的所述模具，其中，所述
UV
转印胶中含有
0.05
％
‑2％的离型剂
。5.
根据权利要求4所述的用于解干涉棱镜结构膜的模具的制备方法，其特征在于，所述步骤一中的对所述基辊的表面进行活化处理，包括：采用稀硫酸对所述基辊表面进行活化处理，使所述基辊表面形成氧化层
。6.
根据权利要求4所述的用于解干涉棱镜结构膜的模具的制备方法，其特征在于，所述步骤二中的将所述表面活化基辊进行电镀处理，包括：将所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：南京贝迪新材料科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：