【技术实现步骤摘要】
一种石墨舟刻蚀设备
[0001]本专利技术属于半导体设备
,具体涉及一种石墨舟刻蚀设备
。
技术介绍
[0002]石墨舟干法清洗设备主要是通过电离的清洗气体对石墨舟表面进行刻蚀来达到清洗的效果
。
目前,石墨舟干法清洗设备的工艺流程如下:
(1)、
通过机械手将待清洗的石墨舟放置在桨杆上;
(2)、
推舟模组带动桨杆将石墨舟运送至反应腔体内部指定位置;
(3)、
推舟模组带动桨杆下沉脱离石墨舟后退出反应腔体;
(4)、
关闭腔体盖板抽气至指定真空压力下;
(5)、
通气放电电离和开启偏压电源开始工艺
。
[0003]为了避免石墨舟磕碰和提高定位精度,步骤
(2)
中推舟模组的运动设置得较为缓慢;同时步骤
(3)
中的下沉脱离动作也要求反应腔体具有更大的炉口尺寸,进而加大反应腔体内空尺寸
。
而且现有石墨舟干法清洗设备中的腔体炉门是单独控制开关的,石墨舟每次进出反应腔体,都要额外控制炉门进行开门或关门的动作
。
上述一系列动作会增加设备节拍时间,降低设备产能,同时也增加了石墨舟的破损风险
。
技术实现思路
[0004]本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种结构紧凑
、
操作便捷
、
传动稳定性高
、
能够实现石墨舟精准放置到反应腔体内的石墨舟刻 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种石墨舟刻蚀设备,其特征在于,包括:反应腔体
(10)、
盖板
(20)、
推舟机构
(30)、
缓冲机构
(40)
和偏压机构
(50)
;所述推舟机构
(30)
密封穿设在盖板
(20)
上,推舟机构
(30)
用于搭载石墨舟
(60)
进出反应腔体
(10)
,并搭载石墨舟
(60)
在反应腔体
(10)
内进行刻蚀清洗;所述推舟机构
(30)
端部设有偏压机构
(50)
,所述偏压机构
(50)
用于施加偏压到石墨舟
(60)
上;所述缓冲机构
(40)
设置在盖板
(20)
上,用于提供盖板
(20)
与反应腔体
(10)
接触后的缓冲;所述盖板
(20)
将反应腔体
(10)
密封关闭后,缓冲机构
(40)
和偏压机构
(50)
均位于反应腔体
(10)
外部
。2.
根据权利要求1所述的石墨舟刻蚀设备,其特征在于,所述盖板
(20)
包括:面板
(201)、
第一连接法兰
(203)
和第二连接法兰
(204)
;所述面板
(201)
用于实现反应腔体
(10)
的炉口密封关闭;所述第一连接法兰
(203)
和第二连接法兰
(204)
均穿设在面板
(201)
上,用于连接推舟机构
(30)。3.
根据权利要求2所述的石墨舟刻蚀设备,其特征在于,所述盖板
(20)
还包括导向柱
(202)
,所述导向柱
(202)
均布在面板
(201)
的四个顶点,用于辅助面板
(201)
密封盖合在反应腔体
(10)
的炉口
。4.
根据权利要求3所述的石墨舟刻蚀设备,其特征在于,所述推舟机构
(30)
包括:光轴
(301)、
桨杆
(302)、
夹紧块
(303)
和固定块
(304)
;所述光轴
(301)
穿设在第一连接法兰
(203)
中,光轴
(301)
的一端通过夹紧块
(303)
与桨杆
(302)
连接,光轴
(301)
的另一端与外置的驱动机构连接,用于带动搭载石墨舟
(60)
的桨杆
(302)
进出反应腔体
(10)
;所述桨杆
(302)
穿设在第二连接法兰
(204)
中,桨杆
(302)
的一端通过固定块
(304)
与光轴
(301)
连接,桨杆
(302)
的另一端穿过夹紧块
(303)
,用于搭载石墨舟
(60)。5.
根据权利要求4所述的石墨舟刻蚀设备,其特征在于,所述推舟机构
(30)
还包括:支撑块
...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈臻阳,彭宜昌,李斯,许烁烁,张威,
申请(专利权)人:湖南红太阳光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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