一种布美他尼新晶型及其制备方法技术

技术编号:39807196 阅读:7 留言:0更新日期:2023-12-22 02:41
本发明专利技术提供了一种布美他尼新晶型及其制备方法,涉及药物晶型技术领域

【技术实现步骤摘要】
一种布美他尼新晶型及其制备方法


[0001]本专利技术涉及药物晶型
,具体地,本专利技术涉及一种布美他尼新晶型及其制备方法


技术介绍

[0002]布美他尼
(bumetanide)
俗称利尿胺,化学名称为3‑
(
丁基氨基
)
‑4‑
苯氧基
‑5‑
氨基磺酰基苯甲酸
(3

(butylamino)
‑4‑
phenoxy
‑5‑
sulfamoyl

benzoicacd)
,为髓袢利尿药,利尿效果为呋喃苯胺酸
(
速尿
)

40

60
倍,具有高效

速效

短效和低毒的特点

临床上用于各种顽固性水肿及急性肺水肿

对急慢性肾功能衰竭者尤为适宜

[0003]因药物多晶型是药品研发中的常见现象,是影响药品质量的重要因素

同一药物的不同晶型在外观

流动性

溶解度

储存稳定性

生物利用度等理化性质方面可能会有显著不同,会对药物的储存

应用

稳定性

疗效等产生不同的影响;因此,有必要进行深入探索研究,开发结晶度高
r/>生物利用度良好

稳定性良好

生产重现性良好

放大效应良好

不易吸湿

可压性良好

残留溶剂低

化学纯度高

有利于片剂制剂且满足生产要求的布美他尼新晶型,以解决现有技术中的相关问题并且使之适合大规模生产和片剂

[0004]如中国专利申请
202211323212.4
中公开了一种布美他尼粗品的精制工艺,所述精制工艺包括以下步骤:
(1)
将布美他尼粗品加入有机溶剂中,搅拌析晶,过滤得到布美他尼粗品1;
(2)
向布美他尼粗品1中加入极性溶剂,搅拌溶清,加水析晶,过滤,烘干得到布美他尼成品;该专利技术可以使布美他尼粗品用有机溶剂精制有效的去除小极性杂质和部分杂质,然后使用极性溶剂精制,进一步去除该杂质,大大降低其在产品中的残留,提高产品的含量

经检测,采用本专利技术后,该杂质含量由
5.55
%降至
0.01

0.05
%,所得产品纯度为
99.8


99.9
%,但并没有涉及晶型的制备

[0005]但是目前制备的布美他尼晶型稳定性

溶解性

生物利用度

生产重现性等均不能满足要求,因此需要开发一种稳定性好

溶解性高

溶出速度快
、、
生物利用度高

生产重现性好,不易吸湿,且纯化和处理的布美他尼新晶型及其制备方法


技术实现思路

[0006]针对现有技术中的不足,本专利技术的目的是提供一种布美他尼新晶型,解决现有的布美他尼晶型存在的问题

同时,本专利技术还涉及所述新晶型的制备方法及其药物组合物和用途

[0007]本专利技术的技术方案如下:
[0008]一方面,本专利技术提供一种布美他尼新晶型,所述的布美他尼新晶型为晶型
A
,进一步所述晶型
A
为无水物

[0009]进一步地,上述布美他尼晶型
A
,使用
Cu

K
ɑ
辐射,其
X

射线粉末衍射图谱在以下2θ
角度具有衍射峰:
9.308
±
0.2
°
、13.925
±
0.2
°
、18.564
±
0.2
°
、19.596
±
0.2
°
、20.824
±
0.2
°
、22.217
±
0.2
°

[0010]进一步地,上述布美他尼晶型
A
,其
X

射线粉末衍射图谱还在以下2θ
角度具有一个或一个以上的衍射峰:
12.401
±
0.2
°
、14.491
±
0.2
°
、18.215
±
0.2
°
、18.564
±
0.2
°
、23.771
±
0.2
°

[0011]更优选地,上述布美他尼晶型
A
,其
X

射线粉末衍射图谱在以下衍射角2θ
处具有特征峰及其相对强度:
[0012]衍射角2θ
相对强度
I(

)
衍射角2θ
相对强度
I(

)9.308
±
0.2
°
100.023.771
±
0.2
°
5.99.809
±
0.2
°
6.324.260
±
0.2
°
2.112.401
±
0.2
°
5.924.843
±
0.2
°
0.813.925
±
0.2
°
23.227.699
±
0.2
°
2.614.491
±
0.2
°
4.527.942
±
0.2
°
3.718.215
±
0.2
°
17.029.133
±
0.2
°
1.418.564
±
0.2
°
59.631.081
±
0.2
°
3.819.596
±
0.2
°
13.231.441
±
0.2
°
1.420.824
±
0.2
°
14.934.717
±本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种布美他尼新晶型,其特征在于:所述的布美他尼新晶型为晶型
A
,所述的晶型
A
,使用
Cu

K
ɑ
辐射,其
X

射线粉末衍射图谱在以下2θ
角度具有衍射峰:
9.308
±
0.2
°
、13.925
±
0.2
°
、18.564
±
0.2
°
、19.596
±
0.2
°
、20.824
±
0.2
°
、22.217
±
0.2
°
。2.
根据权利要求1所述的布美他尼新晶型,其特征在于:其
X

射线粉末衍射图谱还在以下2θ
角度具有一个或一个以上的衍射峰:
12.401
±
0.2
°
、14.491
±
0.2
°
、18.215
±
0.2
°
、18.564
±
0.2
°
、23.771
±
0.2
°
。3.
根据权利要求1‑3任一项所述的布美他尼新晶型,其特征在于:其
X

射线粉末衍射图谱在以下衍射角2θ
处具有特征峰及其相对强度:
4.
根据权利要求1‑3任一项所述的布美他尼新晶型,其特征在于:其红外光谱在
3406.85cm
‑1±
2cm
‑1、3295.76cm
‑1±
2cm
‑1、3063.26cm
‑1±
2cm
‑1、2956.65cm
‑1±
2cm
‑1、2864.85cm
‑1±
2cm
‑1、2577.56cm
‑1±
2cm
‑1、2490.93cm
‑1±
2cm
‑1、1694.86cm
‑1±
2cm
‑1、1596.59cm
‑1±
2cm
‑1、1547.10cm
‑1±
2cm
‑1、1499.24cm
‑1±
2cm
‑1、1440.34cm
‑1±
2cm
‑1、1404.85cm
‑1±
2cm
‑1、1340.08cm
...

【专利技术属性】
技术研发人员:诸葛明徐英诤李洪亮朱明月刘学敏庹皓
申请(专利权)人:杭州沐源生物医药科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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