一种硅晶圆片湿法清洗机制造技术

本实用新型专利技术涉及半导体技术领域，尤其为一种硅晶圆片湿法清洗机，包括主体

【技术实现步骤摘要】
一种硅晶圆片湿法清洗机


[0001]本技术涉及半导体
，具体为一种硅晶圆片湿法清洗机
。

技术介绍

[0002]随着集成电路制造工艺的不断发展，晶圆上关键尺寸持续缩小，在接受其它工艺之前，晶圆表面必须洁净，因此湿法清洗工艺在整个集成电路制造工艺中十分重要，湿法清洗通常为采用化学药液和去离子水等一系列工艺步骤，去除晶圆表面上的玷污
。
[0003]由于湿法清洗中常常采用各种酸性溶液，在清洗过程中，尤其是温度较高的条件下，酸性溶液挥发产生酸雾，酸雾易于在喷嘴处及装置顶壁凝结形成结晶，势必会再次掉落在晶圆上，形成颗粒沾污，导致晶圆良率受到影响，因此，根据上述问题提出一种硅晶圆片湿法清洗机
。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种硅晶圆片湿法清洗机，以解决现有湿法清洗机在使用酸性溶液时，酸雾凝结掉落会对晶圆造成污染的问题
。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0006]一种硅晶圆片湿法清洗机，包括主体
、
转动吸盘
、
外环和喷头结构，所述主体内侧固定连接有分隔板，所述分隔板的表面开设有通口，所述分隔板的上端面开设有流道，所述流道的内侧连通有开口，所述主体的内侧固定连接有托架，所述托架的上侧承接有液箱，所述外环的内壁与分隔板的下侧均固定连接有吸雾环，一组所述吸雾环之间连通有流通管，所述流通管上安装有抽风器，所述主体的上侧内壁设置有清理模块，所述清理模块包括轨条，所述轨条的上端面均与主体的内壁固定连接，一组所述轨条之间活动连接有条板，所述主体的内壁安装有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的另一端与条板的外端面固定连接，所述条板的表面开设有卡槽，所述卡槽的内侧固定连接有清理条，所述条板的内侧开设有出液孔
。
[0007]优选的，所述流通管的另一端穿过分隔板，所述流通管的另一端开口与流道上下对齐，下侧所述吸雾环设置在转动吸盘的外侧
。
[0008]优选的，所述通口与转动吸盘为同一轴线，所述通口的内径大于转动吸盘的直径，上侧所述吸雾环设置在通口的下部外侧
。
[0009]优选的，所述出液孔与卡槽相连通，所述出液孔与流道上下对齐
。
[0010]优选的，所述清理条的上端面与主体的上侧内壁相贴合，所述清理条的长度大于通口的内径，所述条板的两侧均固定连接有挡条，所述挡条的长度大于清理条的长度，所述挡条均设置在清理条的两侧
。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0012]本技术中，通过设置的吸雾环
、
流通管
、
分隔板和清理模块等结构使吸雾环可以对酸雾进行吸收，避免喷头结构表面出现凝结，而清理模块可以对主体顶壁表面进行清
理，避免主体顶壁表面出现凝结，实现了硅晶圆片湿法清洗机可以对酸性溶液挥发产生的酸雾进行处理的能力，解决了现有湿法清洗机在使用酸性溶液时，酸雾凝结掉落会对晶圆造成污染的问题
。
附图说明
[0013]图1为本技术整体结构示意图；
[0014]图2为本技术图1的流通管处结构示意图；
[0015]图3为本技术图1的分隔板结构示意图；
[0016]图4为本技术图1的清理模块结构示意图
。
[0017]图中：1‑
主体
、2
‑
转动吸盘
、3
‑
外环
、4
‑
喷头结构
、5
‑
分隔板
、6
‑
通口
、7
‑
流道
、8
‑
开口
、9
‑
托架
、10
‑
液箱
、11
‑
吸雾环
、12
‑
流通管
、13
‑
抽风器
、14
‑
清理模块
、141
‑
轨条
、142
‑
条板
、143
‑
电动伸缩杆
、144
‑
卡槽
、145
‑
清理条
、146
‑
出液孔
、147
‑
挡条
。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚
、
完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例
。
基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围
。
[0019]需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式
。
如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和
/
或“包括”时，其指明存在特征
、
步骤
、
操作
、
器件
、
组件和
/
或它们的组合
。
[0020]除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置
、
数字表达式和数值不限制本专利技术的范围
。
同时，应当明白，为了便于描述，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的
。
对于相关领域普通技术人员已知的技术
、
方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术
、
方法和设备应当被视为授权说明书的一部分
。
在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制
。
因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值
。
应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论
。
[0021]在本专利技术的描述中，需要理解的是，方位词如“前
、
后
、
上
、
下
、
左
、
右”、“横向
、
竖向
、
垂直
、
水平”和“顶
、
底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种硅晶圆片湿法清洗机，包括主体
(1)、
转动吸盘
(2)、
外环
(3)
和喷头结构
(4)
，其特征在于：所述主体
(1)
内侧固定连接有分隔板
(5)
，所述分隔板
(5)
的表面开设有通口
(6)
，所述分隔板
(5)
的上端面开设有流道
(7)
，所述流道
(7)
的内侧连通有开口
(8)
，所述主体
(1)
的内侧固定连接有托架
(9)
，所述托架
(9)
的上侧承接有液箱
(10)
，所述外环
(3)
的内壁与分隔板
(5)
的下侧均固定连接有吸雾环
(11)
，一组所述吸雾环
(11)
之间连通有流通管
(12)
，所述流通管
(12)
上安装有抽风器
(13)
，所述主体
(1)
的上侧内壁设置有清理模块
(14)
，所述清理模块
(14)
包括轨条
(141)
，所述轨条
(141)
的上端面均与主体
(1)
的内壁固定连接，一组所述轨条
(141)
之间活动连接有条板
(142)
，所述主体
(1)
的内壁安装有电动伸缩杆
(143)
，所述电动伸缩杆
(143)
的另一端与条板
(142)
的外端面固定连接，所述条板
(142)
的表面开设有卡槽
(144)
，所述卡...

【专利技术属性】
技术研发人员：仇建明，仲明飞，
申请(专利权)人：江苏迈睿科半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：