曝光头、曝光头的控制方法、图像形成装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种抑制劣化所引起的发光元件的光量变动，从而能够实现良好的曝光动作的曝光头、曝光头的控制方法及图像形成装置。所述曝光头具备：发光元件（２９５１）；将来自发光元件（２９５１）的光成像的成像光学系统；相对于发光元件（２９５１）配置的多个参考元件（Ｅｒｆ）；控制发光元件（２９５１）的发光并且在潜像形成动作中熄灭多个参考元件的控制机构，其中，控制机构在不进行潜像形成动作的时刻根据发光的发光元件（２９５１）及多个参考元件（Ｅｒｆ）的光量求解发光元件（２９５１）的劣化程度，并且，根据劣化程度控制潜像形成动作中的发光元件的光量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及通过成像光学系统将来自发光元件的光成像的曝光头、该曝光头的控 制方法及使用了该曝光头的图像形成装置。
技术介绍
作为这样的曝光头，在专利文献1中记载有相对于多个发光元件配置一个成像光 学系统的曝光头。成像光学系统将来自对应的多个发光元件的光成像。然后，该成像光将 被曝光面曝光。其中，目前已知如下所述的情况发光元件在反复进行发光的过程中劣化，从而导 致发光元件的光量降低。并且，若发生这种的光量降低，则存在曝光头不能执行良好的曝光 动作的可能性。与此对应，在专利文献2中提出了在不受发光元件劣化影响的情况下实现 良好的曝光动作的光量控制技术。该光量控制技术在曝光头出厂前检查中使各发光元件依 次发光，通过光量传感器检测来自各发光元件的光。进而，在出厂后，例如在曝光动作的间 隔或接通电源时的时刻，进行与出厂前检查时同样的光量检测。然后，从出厂前后分别检测 出的光量求解发光元件的劣化程度。具体而言，求出出厂前后的检测光量的比(专利文献 2中的“补正系数”)。根据这样求出的比控制发光元件的光量，由此，在不受劣化影响的情 况下使各发光元件的光量均勻化，从而实现良好的曝光动作。专利文献1 日本特开2008-36937号公报专利文献2 日本特开2004-82330号公报然而，发光元件的光量也随温度变化而变动。因此，若在出厂前的光量检测时和出 厂后的光量检测时发光元件的温度发生变化，则不仅在劣化的作用下，在温度变化的作用 下发光元件的光量也会发生变化。其结果是，存在从出厂前后的检测光量求出的劣化程度 受到温度变化的影响，而无法准确地求出劣化程度的情况。并且，在这种情况下，存在无法 适当地抑制劣化所引起的光量变动，而不能执行良好的曝光动作的可能性。
技术实现思路
本专利技术鉴于上述课题而提出，其目的在于提供一种抑制劣化所引起的发光元件的 光量变动，从而能够实现良好的曝光动作的技术。本适用例的曝光头具备发光元件；将来自所述发光元件的光成像的 成像光学系统；相对于所述发光元件配置的多个参考元件；控制所述发光元件的发光并且 在潜像形成动作中熄灭所述参考元件的控制机构，所述控制机构在不进行所述潜像形成动 作的时刻根据发光的所述发光元件及所述多个参考元件的光量求解所述发光元件的劣化 程度，并且，根据所述劣化程度控制所述潜像形成动作中的所述发光元件的光量。所述适用例的曝光头具有多个所述发光元件，所述多个发光元件配置 为第一方向上的距离比第二方向上的距离长，且配置成点对称，所述多个参考元件配置在 对应的所述多个发光元件的第一方向外侧，且相对于所述多个发光元件的点对称中心而配3置成点对称。由此，有利于使参考元件与多个发光元件为大致相同温度，从而能够更加高精 度地求解发光元件的劣化程度。其结果是，曝光头能够执行良好的曝光动作。所述适用例的曝光头的所述发光元件及所述参考元件是有机EL元件。 由此，由于有机EL元件的光量根据劣化及温度变化而变动，因此，本适用例适合于高精度 地求解发光元件的劣化程度从而实现良好的曝光动作。本适用例的曝光头的控制方法的特征在于，包括第一工序，其中，使 配置在曝光头的发光元件及多个参考元件发光，从而根据所述发光元件及所述多个参考元 件的光量求解所述发光元件的劣化程度；第二工序，其中，根据所述劣化程度控制所述发光 元件的光量，同时通过配置在所述曝光头的成像光学系统将来自所述发光元件的光成像而 执行在潜像担载体上形成潜像的潜像形成动作，并且，在所述潜像形成动作中使所述多个 参考元件不发光。本适用例的图像形成装置具备潜像担载体；曝光头，其具有发光元 件、将来自所述发光元件的光成像而将所述潜像担载体曝光的成像光学系统、相对于所述 发光元件配置的多个参考元件；控制机构，其在将潜像形成在所述潜像担载体上的潜像形 成动作中控制所述发光元件的发光，并且，在所述潜像形成动作中熄灭所述多个参考元件， 所述控制机构在不进行所述潜像形成动作的时刻根据发光的所述发光元件及所述多个参 考元件的光量求解所述发光元件的劣化程度，并且，根据所述劣化程度控制所述潜像形成 动作中的所述发光元件的光量。在如此构成的专利技术(曝光头、曝光头的控制方法、图像形成装置)中，通过成像光 学系统将来自多个光学元件的光成像而执行潜像形成动作(曝光动作)。这样，用于潜像 形成动作的发光元件的光量受到因反复进行潜像形成动作而引起的劣化和温度这两方面 的影响。因此，如
技术介绍
中所说明的那样，存在无法准确地求解发光元件的劣化程度的情 况。对应于此，本专利技术根据多个参考元件和多个发光元件的光量求解发光元件的劣化程度。 所述多个参考元件相对于多个发光元件设置，且处于与所述多个发光元件大致相同的温度 下。并且，由于所述参考元件在潜像形成动作中熄灭，因此，不会产生因潜像形成动作而引 起的劣化。即，本专利技术通过使用处于与多个发光元件大致相同的温度下且不产生劣化的参 考元件的光量，从而能够在抑制温度的影响的同时高精度地求解多个发光元件各自的劣化 程度。由此，根据该劣化程度来控制各发光元件的光量，从而能够使曝光头抑制因劣化而引 起的发光元件的光量变动，执行良好的曝光。另外，通过使用这种曝光头，图像形成装置能 够形成良好的图像。另外，曝光头的控制方法可以如下所述地构成。即，在第一工序中，根据发光的发 光元件及多个参考元件的光量、和存储在存储机构中的发光的发光元件及多个参考元件的 光量，求解发光元件的劣化程度，由此能够构成曝光头的控制方法。通过如此构成，即使在 求出存储在存储机构中的光量之际、和在第一工序中使多个发光元件及多个参考元件发光 之际温度不同的情况下，也能够在抑制温度的影响的同时高精度地求解发光元件的劣化程 度。附图说明图1是表示安装有行式头的图像形成装置的一例的示意图。图2是表示图像形成装置的电结构的框图。图3是表示能够适用本专利技术的行式头的简要立体图。图4是图3所示的行式头的A-A线局部剖面图。图5表示发光元件组的结构，(a)是俯视图，(b)是表示发光元件组内温度的图。图6是表示头基板的里面的结构的俯视图。图7是表示透镜阵列的结构的俯视图。图8是透镜阵列及头基板等的长度方向的剖面图。图9是表示发光控制模块的结构的框图。图10是表示行式头所进行的点潜像形成动作的图。图11是表示在行式头出厂前执行的出厂前光量测定的流程图。图12是表示在出厂后的规定时刻执行的劣化率鉴定的流程图。图13是表示在发光元件组行中的发光元件组内温度的图。图14是表示在发光元件组列中的发光元件组内温度的图。图15是表示参考元件的配设方式的另一例的俯视图。符号说明21Y、21K…感光体鼓(潜像担载体)29…行式头(曝光头)293…头基板295…发光元件组(多个发光元件)2951…发光元件299…透镜阵列LS…透镜(成像光学系统)MC…主控制器HC…头控制器LEC…发光控制模块LGD…长度方向LTD…宽度方向MD…主扫描方向SD…副扫描方向SC…光量传感器具体实施例方式图1是表示安装有本实施方式的行式头的图像形成装置的一例的示意图。另外， 图2是表示图1的图像形成装置的电结构的框图。该装置是能够选择性地执行彩色模式和 单色模式的图像形成装置，在所述彩色模式中，将黑色(K)、青色(C)、品红色(M)、黄色(Y)本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光头，其特征在于，具备：发光元件；将来自所述发光元件的光成像的成像光学系统；相对于所述发光元件配置的多个参考元件；控制所述发光元件的发光并且在潜像形成动作中熄灭所述参考元件的控制机构，所述控制机构在不进行所述潜像形成动作的时刻根据发光的所述发光元件及所述多个参考元件的光量求解所述发光元件的劣化程度，并且，根据所述劣化程度控制所述潜像形成动作中的所述发光元件的光量。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：田中博，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]