一种制造技术

本实用新型专利技术公开一种

【技术实现步骤摘要】
一种X射线衍射和X射线荧光光谱同步联用系统及装置


[0001]本技术涉及
X
射线
，特别是涉及一种
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用装置
。

技术介绍

[0002]X
射线是波长在
0.01
‑
10mm
范围内的电磁波，利用
X
射线与物质之间的相互作用，发展出了
X
射线吸收谱
、
荧光光谱
、
光电子能谱
、
散射和衍射等分析方法
。
其中
X
射线衍射
(XRD
，
X
‑
RayDiffraction)
是利用
X
射线照射在具有周期结构的晶体后会发生衍射，从而精确测定物质的晶体结构
、
织构及应力；
X
射线荧光光谱分析
(XRF
，
X
‑
RayFluorescence)
是利用不同元素吸收
X
射线后会发出不同能量的荧光
(X
射线
)
的原理，定性或定量测定物质的元素组成
。
这两种方法被广泛用于科学研究
、
检验检测以及企业对产品的质量控制等方面
。
[0003]通常这两种方法都使用独立的仪器进行测试，分别为
X
射线衍射仪和
X
射线荧光光谱仪
。XRD
可以得到
X
射线结果从而解析出物质的种类和晶相，但是由于往往比较类似的元素组成的同类物质衍射数据十分接近，比较难以区分
。XRF
则可以得到
X
射线荧光光谱从而解析出物质的元素组成，但是无法获知元素的化合价即物质的晶相
。
因此这两种方法通常一起使用，经过彼此验证能够更容易解析出物质的组成，所以很多分析测试部门需要配备两种仪器
。
[0004]但是现有技术中多为两种方法进行独立测试得到结果进而进行分析，效率不高，亟需一种
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用仪器
。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是提供一种
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用系统及装置，实现了对待测样品的同一位置的
XRD
衍射和
XRF
荧光光谱的同步测试
。
[0006]为实现上述目的，本技术提供了如下方案：
[0007]一种
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用系统；待测样品放置在样品台上；所述
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用系统包括：
[0008]X
射线光源子系统，用于向所述待测样品发射
X
射线；所述待测样品对所述
X
射线进行衍射形成衍射信号；所述
X
射线激发所述待测样品形成荧光信号；
[0009]XRF
探测子系统，设置在所述样品台上，用于根据所述荧光信号得到荧光光谱；所述样品台设置在所述
X
射线的传输光路上；
[0010]XRD
探测子系统，设置在所述衍射信号的传输光路上，用于根据所述衍射信号得到
X
射线衍射结果
。
[0011]可选地，所述
X
射线光源子系统包括：
[0012]X
射线光源发射器，用于向所述待测样品发射
X
射线；
[0013]X
射线光源支架，用于固定所述
X
射线光源发射器
。
[0014]可选地，其特征在于，所述
XRF
探测子系统包括：
[0015]XRF
探测器，用于根据所述荧光信号得到荧光光谱；
[0016]XRF
探测器支架，设置在所述样品台上，用于固定所述
XRF
探测器
。
[0017]可选地，所述
XRF
探测器为
Si
‑
PIN
探测器或
SDD
探测器
。
[0018]可选地，所述
XRD
探测子系统包括：
[0019]XRD
探测器，设置在所述衍射信号的传输光路上，用于根据所述衍射信号得到
X
射线衍射结果；
[0020]XRD
探测器支架，用于固定所述
XRD
探测器
。
[0021]可选地，所述
XRD
探测器为一维阵列探测器或二维阵列探测器
。
[0022]可选地，所述一种
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用系统还包括：
[0023]安全壳体，内部设有所述
X
射线光源子系统
、XRF
探测子系统和
XRD
探测子系统
。
[0024]为实现上述目的，本技术还提供了如下方案：
[0025]一种
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用装置，所述
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用装置包括：
[0026]上述的
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用系统；
[0027]样品台，用于放置待测样品；且所述
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用系统的
XRF
探测子系统设置在所述样品台上；所述
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用系统的
X
射线光源子系统用于向所述样品台上的所述待测样品发射
X
射线；所述待测样品对所述
X
射线进行衍射形成衍射信号；所述
X
射线激发所述待测样品形成荧光信号；
[0028]计算机，与所述
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用系统的
XRF
探测子系统和
XRD
探测子系统连接，所述
XRF
探测子系统用于根据所述荧光信号得到荧光光谱，所述
XRD
探测子系统用于根据所述衍射信号得到
X
射线衍射结果；所述计算机用于根据所述荧光光谱和所述
X
射线衍射结果得到物质组成数据
。
[0029]根据本技术提供的具体实施本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用系统，其特征在于，待测样品放置在样品台上；所述
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用系统包括：
X
射线光源子系统，用于向所述待测样品发射
X
射线；所述待测样品对所述
X
射线进行衍射形成衍射信号；所述
X
射线激发所述待测样品形成荧光信号；所述
X
射线光源子系统包括：
X
射线光源发射器，用于向所述待测样品发射
X
射线；
X
射线光源支架，用于固定所述
X
射线光源发射器；所述
X
射线光源发射器放置在位于所述样品台中心距离
50mm
处；
XRF
探测子系统，设置在所述样品台上，用于根据所述荧光信号得到荧光光谱；所述样品台设置在所述
X
射线的传输光路上；所述
XRF
探测子系统包括：
XRF
探测器，用于根据所述荧光信号得到荧光光谱；
XRF
探测器支架，设置在所述样品台上，用于固定所述
XRF
探测器；所述
XRF
探测器固定在所述
XRF
探测器支架上；所述
XRF
探测器位于距离所述样品台中心正上方
30mm
处；
XRD
探测子系统，设置在所述衍射信号的传输光路上，用于根据所述衍射信号得到
X
射线衍射结果；所述
XRD
探测子系统包括：
XRD
探测器，设置在所述衍射信号的传输光路上，用于根据所述衍射信号得到
X
射线衍射结果；
XRD
探测器支架，用于固定所述
XRD
探测器；所述
XRD
探测器位于样品台中心点距离
90.7mm
处
。2.
根据权利要求1所述的一种
X
射线衍射和
X
射线荧光光谱同步联用系统，其特征在于，所述
XRF

【专利技术属性】
技术研发人员：张吉东，宋新月，张楠，韩昕彤，
申请(专利权)人：苏州锂影科技有限公司，
类型：新型
国别省市：