【技术实现步骤摘要】
一种多层封装基板高精度层偏对位加工方法
[0001]本专利技术涉及线路板生产
,具体涉及一种多层封装基板高精度层偏对位加工方法
。
技术介绍
[0002]随着电子技术快速发展,半导体封装为实现高性能
、
薄型化以及低成本,在
RF
射频领域,随着模组化需求,
SiP
封装应用广泛,因涉及到多芯片封装
、
贴合
、
切割,对基板的各层图形层偏要求高,现有常规的加工方法通过
X
‑
ray
打内层靶对位,各层的线路均以同一个靶标通孔作为基准点,导致图形对位的精度较差,无法满足加工要求
。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的是针对现有技术中的上述不足,提供了一种多层封装基板高精度层偏对位加工方法,能够有效地提高图形对位精度
。
[0004]本专利技术的目的通过以下技术方案实现:一种多层封装基板高精度层偏对位加工方法,包括以下步骤:
[0005]S1、< ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种多层封装基板高精度层偏对位加工方法,其特征在于:包括以下步骤:
S1、
提供一双面覆铜的覆铜板;所述覆铜板包括芯料层
、
第一铜层以及第二铜层;
S2、
在覆铜板的废料区制作贯穿的第一靶标通孔;在第一铜层的废料区制作第一靶标槽,在第二铜层的废料区制作与第一靶标槽同心设置的第二靶标槽;
S3、
在第一铜层的有效区与第二铜层的有效区进行图形制作;
S4、
在第一铜层表面压合第一
PP
板以及在第二铜层表面压合第二
PP
板;
S5、
在第一
PP
板表面压合第三铜层以及在第二
PP
板表面压合第四铜层;
S6、
抓取第一靶标通孔的位置,将第一
PP
板
、
第二
PP
板
、
第三铜层以及第四铜层对应第一靶标通孔的位置烧穿;
S6、
以第一靶标通孔为基准,在第二靶标槽的位置对第一
PP
板与第三铜层进行烧靶处理形成第三靶标槽;以第一靶标通孔为基准,在第三靶标槽的位置对第二
PP
板与第四铜层进行烧靶处理形成第四靶标槽;
S7、
将第三靶标槽与第四靶标槽之间的芯料层烧穿,从而形成第二靶标通孔;
S8、
以第二靶标通孔为基准,在第三铜层的有效区与第四铜层的有效区进行图形制作
。2.
根据权利要求1所述的一种多层封装基板高精度层偏对位加工方法,其特征在于:所述第二靶标槽的半径大于第一靶标槽的半径;所述第三靶标槽的半径大于第一靶标槽的半径;所述第四靶标槽的半径大于第二靶标槽的半径
。3.
根据权利要求2所述的一种多层封装基板高精度层偏对位加工方法,其特征在于:所述第三靶标槽的半径与第二靶标槽的半径相同
。4.
根据权利要求1所述的一种多层封装基板高精度层偏对位加工方法,其特征在于:在步骤
S2
与步骤
S3
之间,还包括如下步骤:在第一铜层的废料区制作第五靶标槽,在第二铜层的废料区制作与第五靶标槽同心设置的第六靶标槽
。5.
根据权利要求4所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:程光明,左玲丽,杨威,邓贤江,肖建光,艾科科,
申请(专利权)人:南通康源电路科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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