【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】磁致伸缩构件以及磁致伸缩构件的制造方法
[0001]本专利技术涉及磁致伸缩构件以及磁致伸缩构件的制造方法
。
技术介绍
[0002]磁致伸缩材料作为功能性材料而受到关注
。
例如,作为铁系合金的
Fe
‑
Ga
合金是显示出磁致伸缩效应以及逆磁致伸缩效应的材料,显示出
100
~
350ppm
左右的较大的磁致伸缩
。
因此,近年来,作为能量收集领域的振动发电用材料而受到关注,期待在可穿戴终端
、
传感器类等中的应用
。
作为
Fe
‑
Ga
合金的单晶的制造方法,已知有基于提拉法
(
切克劳斯基法,以下简称为“Cz
法”)
的单晶的培育方法
(
例如,专利文献
1)。
另外,作为
Cz
法以外的制造方法,已知有垂直布里奇曼法
(VB
法
)、
垂直温度梯度凝固法
(VGF
法
)(
例如,专利文献
2、
专利文献
3)。
[0003]Fe
‑
Ga
合金在晶体的
<100>
方位具有易磁化轴,能够在该方位呈现出较大的磁致伸缩
。
以往,
Fe
‑
Ga
合金的磁致 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种磁致伸缩构件,其中,所述磁致伸缩构件由具有磁致伸缩特性的铁系合金的晶体构成,所述磁致伸缩构件是具有正面和背面的板状体,对于所述正面和背面的一面,磁致伸缩构件的厚度与表面粗糙度
Ra
满足下述的式
(1)
,
logRa≥0.48t
‑
0.62
···
式
(1)
,
(
上述式
(1)
中,
log
表示常用对数,
Ra
表示表面粗糙度
(
μ
m)
,
t
表示磁致伸缩构件的厚度
(mm))。2.
根据权利要求1所述的磁致伸缩构件,其中,在所述磁致伸缩构件的厚度为
0.3mm
以上且
0.75mm
以下的情况下,表面粗糙度
Ra
为
1.0
μ
m
以下,在所述磁致伸缩构件的厚度大于
0.75mm
的情况下,所述表面粗糙度
Ra
为
8.6
μ
m
以下
。3.
根据权利要求2所述的磁致伸缩构件,其中,在所述磁致伸缩构件的厚度大于
0.3mm
且为
0.75mm
以下的情况下,所述表面粗糙度
Ra
为
0.5
μ
m
以上,在所述磁致伸缩构件的厚度大于
0.75mm
且为
1.0mm
以下的情况下,所述表面粗糙度
Ra
为
1.0
μ
m
以上,在所述磁致伸缩构件的厚度大于
1.0mm
且为
1.5mm
以下的情况下,所述表面粗糙度
Ra
为
1.3
μ
m
以上,在所述磁致伸缩构件的厚度大于
1.5mm
且为
2.0mm
以下的情况下,所述表面粗糙度
Ra
为
2.5
μ
m
以上,并且,在所述磁致伸缩构件的厚度大于
2.0mm
且为
2.5mm
以下的情况下,所述表面粗糙度
Ra
为
4.0
μ
m
以上
。4.
根据权利要求1至3中任一项所述的磁致伸缩构件,其中,在所述磁致伸缩构件的厚度为
0.5mm
以上且
0.75mm
以下的情况下,所述磁致伸缩构件的厚度与所述表面粗糙度
Ra
满足下述的式
(2)
,在所述磁致伸缩构件的厚度大于
0.75mm
且为
1.0mm
以下的情况下,所述磁致伸缩构件的厚度与所述表面粗糙度
Ra
满足下述的式
(3)
,在所述磁致伸缩构件的厚度大于
1.0mm
且为
0.1.5mm
以下的情况下,所述磁致伸缩构件的厚度与所述表面粗糙度
Ra
满足下述...
【专利技术属性】
技术研发人员:大久保和彦,栴檀祐晖,泉圣志,
申请(专利权)人:住友金属矿山株式会社,
类型:发明
国别省市:
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