【技术实现步骤摘要】
一种涂胶显影机
[0001]本专利技术涉及涂胶显影机
,尤其涉及一种涂胶显影机
。
技术介绍
[0002]在晶圆进行光刻加工时,需要先将化学品室中的化学溶液涂覆到晶圆上的操作,其中涂胶工艺涂覆的是光刻胶,显影工艺涂覆的是显影液
。
[0003]现有的涂胶显影机中化学品室大多是设置在工艺单元的下方或其中一侧,如前侧或后侧,此种布置方式会使化学品室与多个工艺单元之间的距离不同,需要使用不同长度的管路和对应的控制系统,控制系统较为臃杂,并且较长的管路也会导致光刻胶的凝结,使光刻胶不能稳定供应,影响涂胶显影机的稳定运行
。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在需要使用不同长度的管路和对应的控制系统,控制系统较为臃杂,并且较长的管路也会导致光刻胶的凝结,使光刻胶不能稳定供应,影响涂胶显影机的稳定运行的缺点,而提出的一种涂胶显影机
。
[0005]为了实现上述目的,本专利技术采用了如下技术方案:
[0006]一种涂胶显影机,包括机体及机体内设置的工艺单元
、
化学品室,所述工艺单元包括涂胶单元;
[0007]所述涂胶单元设有多个且对称设置在化学品室两侧,化学品室与所述涂胶单元通过管道
、
分流管连接;
[0008]位于化学品室两侧的多个所述分流管对称设置;
[0009]所述管道与分流管的连接处设置在两侧分流管的对称轴线上
。
[0010]优选的,多个所 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种涂胶显影机,其特征在于,包括机体及机体内设置的工艺单元
(1)、
化学品室
(2)
,所述工艺单元
(1)
包括涂胶单元
(11)
和显影单元
(12)
;所述涂胶单元
(11)
设有多个且对称设置在化学品室
(2)
两侧,化学品室
(2)
与所述涂胶单元
(11)
通过管道
(3)、
分流管
(31)
连接;位于化学品室
(2)
两侧的多个所述分流管
(31)
对称设置;所述管道
(3)
与分流管
(31)
的连接处设置在两侧分流管
(31)
的对称轴线上
。2.
根据权利要求1所述的一种涂胶显影机,其特征在于,多个所述分流管
(31)
的管径
、
长度及高度落差完全相同
。3.
根据权利要求1所述的一种涂胶显影机,其特征在于,所述管道
(3)
与分流管
(31)
的连接处还设有分流阀
(311)。4.
根据权利要求1所述的一种涂胶显影机,其特征在于,所述化学品室
(2)
内设有多个用于光刻胶储藏区
(22)
及用于安装光刻胶泵的泵安装层
(23)
,光刻胶储藏区
(22)
内设有多个储存罐
(221)
,泵安装层
(23)
内设有光刻胶泵,光刻胶泵进料端与储存罐
(221)
贯通连接
。5.
根据权利要求4所述的一种涂胶显影机,其特征在于,所述化学品室
(2)
一侧还设有光刻胶暂存管
(24)
,光刻胶暂存管
(24)
进料一端与光刻胶泵出料端相连接,光刻胶暂存管
(24)
出料一端与管道
(3)
贯通连接
。6.
根据权利要求4所述的一种涂胶显影机,其特征在于,所述化学品室
(2)
上下两侧均设有多个滑轨
(21)
,机体内对应滑轨
(21)
固定安装有滑座
(4)。7.
根据权利要求1所述的一种涂胶显...
【专利技术属性】
技术研发人员:蔡虹,王向东,徐政伟,赵明山,魏祥红,邵东,
申请(专利权)人:合肥开悦半导体科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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