一种立式双面等离子清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种立式双面等离子清洗装置，属于等离子设备技术领域，一种立式双面等离子清洗装置，包括清洗机主体，清洗机主体包括等离子大腔体和等离子小腔体，等离子小腔体装配在等离子大腔体内，等离子小腔体的内部装配有立式清洗框；立式清洗框的内部开设有清洗腔，清洗腔内装配有载体组件，载体组件包括上载板和下载板；上载板装配在立式清洗框的内部上端，下载板装配在立式清洗框的内部下端，上载板和下载板之间均装配有射频电极板；每相邻的两个射频电极板之间均装配有晶圆托盘组件，晶圆托盘组件内均装配有晶圆主体；该立式双面等离子清洗装置，可以节省气体原料和生产时间，其次基底背面不接触射频电极，有效保护基底背面不被划伤

【技术实现步骤摘要】
一种立式双面等离子清洗装置


[0001]本专利技术涉及等离子设备
，具体为一种立式双面等离子清洗装置
。

技术介绍

[0002]等离子清洗是一种常见的晶圆预处理手段，通过对气体施加足够的能量使之成为等离子状态，利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁
、
涂覆等目的
。
传统的等离子清洗设备将晶圆水平放置在射频电极上，只能清洗晶圆上表面，并且晶圆背面易与电极摩擦导致划伤；因此需要一种立式双面等离子清洗装置，来解决上述问题
。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种立式双面等离子清洗装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题
。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种立式双面等离子清洗装置，包括清洗机主体，所述清洗机主体包括等离子大腔体和等离子小腔体，所述等离子小腔体装配在等离子大腔体内，所述等离子小腔体的内部装配有立式清洗框；所述立式清洗框的内部开设有清洗腔，所述清洗腔内装配有载体组件，所述载体组件包括上载板和下载板；本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种立式双面等离子清洗装置，包括清洗机主体，其特征在于：所述清洗机主体包括等离子大腔体（1）和等离子小腔体（2），所述等离子小腔体（2）装配在等离子大腔体（1）内，所述等离子小腔体（2）的内部装配有立式清洗框（7）；所述立式清洗框（7）的内部开设有清洗腔（8），所述清洗腔（8）内装配有载体组件，所述载体组件包括上载板（
121
）和下载板（
122
）；所述上载板（
121
）装配在立式清洗框（7）的内部上端，所述下载板（
122
）装配在立式清洗框（7）的内部下端，所述上载板（
121
）和下载板（
122
）之间均匀装配有射频电极板（9）；每相邻的两个所述射频电极板（9）之间均装配有晶圆托盘组件（
10
），所述晶圆托盘组件（
10
）内均装配有晶圆主体（
11
）；所述立式清洗框（7）的左右两侧内壁上端和立式清洗框（7）的左右两侧内壁下端均安装有固定板（
15
），所述固定板（
15
）的侧壁均安装有定位滑块（
22
）；所述上载板（
121
）和下载板（
122
）的两侧壁均安装有滑框（
21
），所述滑框（
21
）安装在定位滑块（
22
）的外部，且定位滑块（
22
）可在滑框（
21
）内滑动；所述固定板（
15
）的上端装配有限位组件，所述上载板（
121
）和下载板（
122
）的侧壁均匀开设有卡槽
b
，每相邻的两个所述卡槽
b
之间均开设有卡槽
a。2.
根据权利要求1所述的一种立式双面等离子清洗装置，其特征在于：所述晶圆托盘组件（
10
）包括托盘短底座（
101
），所述托盘短底座（
101
）的侧壁开设有晶盘卡槽
a
（
102
）
。3.
根据权利要求2所述的一种立式双面等离子清洗装置，其特征在于：所述托盘短底座（
101
）的侧壁安装有卡块
a
（
103
），所述卡块
a
（
103
）卡接在卡槽
a
内
。4.
根据权利要求1所述的一种立式双面等离子清洗装置，其特征在于：所述晶圆托盘组件（
10
）包括托盘长底座（
1001
），所述托盘长底...

【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，李晓飞，
申请(专利权)人：青岛天仁微纳科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：