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本发明公开了一种立式双面等离子清洗装置，属于等离子设备技术领域，一种立式双面等离子清洗装置，包括清洗机主体，清洗机主体包括等离子大腔体和等离子小腔体，等离子小腔体装配在等离子大腔体内，等离子小腔体的内部装配有立式清洗框；立式清洗框的内部开设...
该专利属于青岛天仁微纳科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛天仁微纳科技有限责任公司授权不得商用。

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