一种模仁退膜治具与退膜设备制造技术

本申请涉及镀膜技术领域，具体公开了一种模仁退膜治具与退膜设备，该模仁退膜治具包括：进气座与遮挡模；所述进气座上设置有沿竖直方向贯穿的安装孔；所述安装孔用于供模仁从底部装入；所述遮挡模设置于所述安装孔内的顶部，且所述遮挡模上设置有沿竖直方向贯穿的进气孔；所述进气孔的口径小于所述安装孔的口径。在模仁的光学面装入进气座之后，用于氧化光学面的气体从进气孔进入到安装孔内部后，气体受遮挡模的阻挡不易向外发散，从而气体会聚集在安装孔内，针对性的在光学面与膜层上进行持续的氧化反应，从而提升光学面上的退膜均匀程度，有效解决现有的对模仁的退膜操作后膜层退除均匀程度较低的问题。退除均匀程度较低的问题。退除均匀程度较低的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种模仁退膜治具与退膜设备


[0001]本申请涉及镀膜
，尤其涉及一种模仁退膜治具。

技术介绍

[0002]精密模压是光学玻璃镜片的一种加工方式；模仁是模压所使用的部件之一。
[0003]在模仁加工工艺中，镀膜工序可以在模仁镀上一层膜，使模仁硬度增加，从而延长模仁的使用寿命。而模仁在模压生产中反复通过升温、增压和降温等压力温度调节方式后，模仁表面的膜层容易老化，为此需要对模仁进行退膜操作后重新镀膜处理。目前的退膜操作中，由于模仁的光学面为凹凸面，因此其表面经过的气体量不等，使得模仁的光学面容易因为氧化程度不均而容易形成残留，即使进行多次重复操作，也往往不能达到完全清除膜层的效果。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本申请的目的是提供一种模仁退膜治具，用于解决现有的对模仁的退膜操作后膜层退除均匀程度较低的问题。
[0005]为达到上述技术目的，本申请第一方面提供一种模仁退膜治具，包括：进气座与遮挡模；
[0006]所述进气座上设置有沿竖直方向贯穿的安装孔；
[0007]所述安装孔用于供模仁从底部装入；
[0008]所述遮挡模设置于所述安装孔内的顶部，且所述遮挡模上设置有沿竖直方向贯穿的进气孔；
[0009]所述进气孔的口径小于所述安装孔的口径。
[0010]进一步地，所述安装孔的口径由下往上方向增大。
[0011]进一步地，所述安装孔为三台阶状孔；
[0012]所述安装孔沿口径由大到小包括顶部区域、中部区域和底部区域；
[0013]所述遮挡模设置于所述顶部区域内；
[0014]所述底部区域用于供模仁穿入至所述中部区域内。
[0015]进一步地，所述进气座于对应所述底部区域的侧部设置有供螺栓穿入的螺纹通孔。
[0016]进一步地，所述螺纹通孔包括多个且呈圆周均匀分布。
[0017]进一步地，所述遮挡模包括多个，且多个所述遮挡模上的所述进气孔的孔径不等；
[0018]所述遮挡模可拆卸连接所述进气座。
[0019]本申请第二方面提供一种退膜设备，包括：设备主体与上述任一项所述的模仁退膜治具；
[0020]所述设备主体上设置有气腔；
[0021]所述气腔内设置有吹气孔；
[0022]所述模仁退膜治具设置于所述气腔内。
[0023]进一步地，所述吹气孔设置于所述气腔顶部，且所述吹气孔朝下设置。
[0024]从以上技术方案可以看出，本申请提供一种模仁退膜治具与退膜设备，该模仁退膜治具包括：进气座与遮挡模；所述进气座上设置有沿竖直方向贯穿的安装孔；所述安装孔用于供模仁从底部装入；所述遮挡模设置于所述安装孔内的顶部，且所述遮挡模上设置有沿竖直方向贯穿的进气孔；所述进气孔的口径小于所述安装孔的口径。
[0025]在模仁的光学面装入进气座之后，用于氧化光学面的气体从进气孔进入到安装孔内部后，气体受遮挡模的阻挡不易向外发散，从而气体会聚集在安装孔内，针对性的在光学面与膜层上进行持续的氧化反应，从而提升光学面上的退膜均匀程度，有效解决现有的对模仁的退膜操作后膜层退除均匀程度较低的问题。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0027]图1为本申请实施例提供的一种模仁退膜治具的拆解图；
[0028]图2为本申请实施例提供的一种模仁退膜治具的进气座截面图；
[0029]图3为本申请实施例提供的一种模仁退膜治具的组合图；
[0030]图4为本申请实施例提供的一种退膜设备的截面图；
[0031]图中：1、进气座；2、遮挡模；3、模仁；4、设备主体；11、安装孔；12、螺纹通孔；21、进气孔；41、气腔；42、吹气孔；111、顶部区域；112、中部区域；113、底部区域。
具体实施方式
[0032]下面将结合附图对本申请实施例的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请说明书中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请所请求保护的范围。
[0033]在本申请实施例的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请实施例的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0034]在本申请实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可更换连接，或一体地连接，可以是机械连接，也可以是电连接，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可依具体情况理解上述术语在本申请实施例中的具体含义。
[0035]请参阅图1至图3，本申请实施例中提供的第一方面提供一种模仁退膜治具，包括：
进气座1与遮挡模2；进气座1上设置有沿竖直方向贯穿的安装孔11；安装孔11用于供模仁3从底部装入；遮挡模2设置于安装孔11内的顶部，且遮挡模2上设置有沿竖直方向贯穿的进气孔21；进气孔21的口径小于安装孔11的口径。
[0036]在本实施例中，以模仁3的光学面位于其顶部进行说明。在实际使用中，将模仁3的顶面从下往上穿入安装孔11内，并将遮挡模2盖设于安装孔11的顶部，之后为模仁3通电，气体从进气孔21进入到安装孔11内；由于进气孔21的口径小于安装孔11的口径，因此遮挡模2上除了进气孔21可以进出气以外，其他位置可以对气体起到遮挡作用，也即安装孔11内的气体无法向上发散而聚集在安装孔11内光学面的顶部，有助于气体对光学面与膜层进行持续的氧化反应，可以提升光学面上不同位置的反应均匀程度，起到提升退膜效果和减少退膜时间的目的。
[0037]其中，进气孔21的口径小于安装孔11的口径是指安装孔11可以将进气孔21完全覆盖；例如进气孔21和安装孔11均为截面呈圆形的通孔，且进气孔21的直径小于安装孔11的直径。在实际应用中，进气孔21还可以为方形，具体使得进气孔21小于安装孔11即可。
[0038]在进一步改进的实施例中，安装孔11的口径由下往上方向增大，也即安装孔11底部的口径小于顶部的口径；其中，安装孔11底部的口径可以与模仁3相适配；安装孔11顶部的口径较大使得安装孔11可以容纳更多气体，有助于气体聚集于光学面顶部。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种模仁退膜治具，其特征在于，包括：进气座(1)与遮挡模(2)；所述进气座(1)上设置有沿竖直方向贯穿的安装孔(11)；所述安装孔(11)用于供模仁(3)从底部装入；所述遮挡模(2)设置于所述安装孔(11)内的顶部，且所述遮挡模(2)上设置有沿竖直方向贯穿的进气孔(21)；所述进气孔(21)的口径小于所述安装孔(11)的口径。2.根据权利要求1所述的模仁退膜治具，其特征在于，所述安装孔(11)的口径由下往上方向增大。3.根据权利要求2所述的模仁退膜治具，其特征在于，所述安装孔(11)为三台阶状孔；所述安装孔(11)沿口径由大到小包括顶部区域(111)、中部区域(112)和底部区域(113)；所述遮挡模(2)设置于所述顶部区域(111)内；所述底部区域(113)用于供模仁(3)穿入至所述中部区域(112)内。4.根据权利要求3所述的模仁退膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：于海涛，赵宝强，毕文雅，郭益群，尹士平，
申请(专利权)人：安徽光智科技有限公司，
类型：新型
国别省市：