一种氧化钙研磨装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种氧化钙研磨装置，包括：底座；研磨箱，所述研磨箱内部具有空腔；初级研磨机构，位于研磨箱内，用于对氧化钙进行初次研磨；二次研磨机构，位于研磨箱内，用于对初级研磨后的氧化钙进行二次研磨；振动机构，所述振动机构设置于底座和研磨箱之间

【技术实现步骤摘要】
一种氧化钙研磨装置


[0001]本技术涉及氧化钙生产加工
，尤其涉及一种氧化钙研磨装置
。

技术介绍

[0002]氧化钙是一种白色粉末状的无机化合物，也被称为生石灰或石灰粉，通常用于建筑
、
水处理
、
环保
、
农业等领域，在这些应用中，氧化钙需要具备高度的反应性和可溶性，如果氧化钙颗粒过大，其反应速度会变慢，而且反应不完全，影响使用效果
。
[0003]现有氧化钙研磨中存在以下问题：
[0004]1、
氧化钙研磨中会产生大量的灰尘，造成污染环境，甚至对人体造成伤害；
[0005]2、
氧化钙研磨中未充分研磨的颗粒会堵塞滤网，影响研磨效率；
[0006]基于此设计了一种氧化钙研磨装置
。

技术实现思路

[0007]为了克服上述现有技术所述的至少一种缺陷，本技术提供一种氧化钙研磨装置
。
可以通过初级研磨机构和二次研磨机构对氧化钙进行充分研磨，通过吸附层能吸附研磨过程中产生的上扬的粉尘，通过振动机构和振动电机对箱体进行振动，可以防止研磨后的氧化钙堆积堵塞过滤网
。
[0008]本技术为解决其问题所采用的技术方案是：
[0009]一种氧化钙研磨装置，包括：底座；研磨箱，所述研磨箱内部具有空腔；初级研磨机构，位于研磨箱内，用于对氧化钙进行初次研磨；二次研磨机构，位于研磨箱内，用于对初级研磨后的氧化钙进行二次研磨；振动机构，所述振动机构设置于底座和研磨箱之间
。
[0010]通过采用上述方案，可实现一种研磨效果好
、
防尘效果好的氧化钙研磨装置，能对氧化钙进行充分研磨，减少氧化钙的颗粒状
。
[0011]进一步地，所述研磨箱包括箱体和与箱体铰接的箱盖，所述箱盖内下部设置吸附层，所述箱盖上部设置入料斗，所述入料斗穿过吸附层，且至少部分位于箱体内
。
[0012]通过采用上述方案，通过吸附层可以吸收产生的粉尘，避免其溢出研磨箱，污染空气；通过箱体和箱盖铰接，还方便将对吸附层进行清理，避免长时间使用时吸附层的吸附效果不好
。
[0013]进一步地，所述初级研磨机构包括两个相对设置的第一碾压辊，两个所述第一碾压辊之间形成间隙
。
[0014]通过采用上述方案，通过两个相对设置的第一碾压辊对氧化钙进行碾压，进行初次的碾压粉碎操作，而且第一碾压辊可以通过电机驱动转动
。
[0015]进一步地，所述箱体内下部设置过滤网，所述过滤网上表面倾斜设置，所述过滤网下部设置出料口
。
[0016]通过采用上述方案，通过过滤网可对研磨后的氧化钙进行过滤，将氧化钙从出料口漏出方便收集
。
[0017]进一步地，所述二次研磨机构包括若干个第二碾压辊，若干个所述第二碾压辊均匀设置于过滤网上部
。
[0018]通过采用上述方案，通过若干个第二碾压辊对氧化钙进行再次碾压，第二碾压辊可以通过电机驱动转动
。
[0019]进一步地，所述振动机构包括第一连接块
、
第二连接块和振动弹簧，所述第一连接块与箱体下部固定连接，所述第二连接块与底座上部固定连接，所述第一连接块与第二连接块之间固定连接振动弹簧
。
[0020]通过采用上述方案，通过振动弹簧的振动带动箱体振动，可以避免氧化钙的堆积
。
[0021]进一步地，所述箱体外两侧固定安装振动电机
。
[0022]通过采用上述方案，振动电机带动箱体振动，避免氧化钙堆积
。
附图说明
[0023]图1为本技术实施例1的剖视图；
[0024]图2为本技术实施例1的过滤网示意图；
[0025]图3为本技术实施例1的箱盖打开示意图
。
[0026]其中，附图标记含义如下：
1、
底座；
2、
研磨箱；
21、
箱体；
22、
箱盖；
23、
吸附层；
24、
入料斗；
3、
初级研磨机构；
31、
第一碾压辊；
32、
间隙；
4、
二次研磨机构；
41、
第二碾压辊；
5、
振动机构；
51、
第一连接块；
52、
第二连接块；
53、
振动弹簧；
6、
过滤网；
7、
出料口；
8、
振动电机
。
具体实施方式
[0027]为了更好地理解和实施，以下将结合本技术的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚
、
完整的描述和讨论，显然，这里所描述的仅仅是本技术的一部分实例，并不是全部的实例，基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术的保护范围
。
[0028]为了便于对本技术实施例的理解，下面将结合附图以具体实施例为例作进一步的解释说明，且各个实施例不构成对本技术实施例的限定
。
[0029]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位
、
以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制
。
在本技术的描述中，需要说明的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性
。
[0030]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同
。
本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在限制本技术
。
[0031]参阅图1‑
图3，本技术公开了一种氧化钙研磨装置：包括底座
、
研磨箱
、
初级研磨机构
、
二次研磨机构和振动机构，所述研磨箱位于底座上部，所述振动机构设置于底座和研磨箱之间，所述研磨箱内部具有空腔，所述初级研磨机构位于研磨箱内，用于对氧化钙进行初次研磨；所述二次研磨机构同样位于研磨箱内，且位于初级研磨机构下部，用于对氧化
钙进行二次研磨，设计一种研磨效果好
、
防尘效果好
、
防止氧化钙堵塞的氧化钙研磨装置
。
[0032]其中，所述初级研磨机构包括两个相对设本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种氧化钙研磨装置，其特征在于，包括：底座；研磨箱，所述研磨箱内部具有空腔；初级研磨机构，位于研磨箱内，用于对氧化钙进行初次研磨；二次研磨机构，位于研磨箱内，用于对初级研磨后的氧化钙进行二次研磨；振动机构，所述振动机构设置于底座和研磨箱之间；所述研磨箱包括箱体和与箱体铰接的箱盖，所述箱盖内下部设置吸附层，所述箱盖上部设置入料斗，所述入料斗穿过吸附层，且至少部分位于箱体内；所述振动机构包括第一连接块
、
第二连接块和振动弹簧，所述第一连接块与箱体下部固定连接，所述第二连接块与底座上部固定连接，所述第一连接块与第二连接块之间固定连接振动弹簧
。2.

【专利技术属性】
技术研发人员：金琪，
申请(专利权)人：杭州中能钙业有限公司，
类型：新型
国别省市：