转镜支架制造技术

一种转镜支架

【技术实现步骤摘要】
转镜支架、转镜单元及激光雷达


[0001]本技术涉及激光探测
，具体涉及一种转镜支架
、
转镜单元及激光雷达
。

技术介绍

[0002]激光雷达是一种感知周围信息的重要传感器，利用激光雷达在进行周围环境探测时，可以控制转镜旋转，进而将激光雷达发出的激光反射至待探测空间的不同方位进行探测，并接收待探测空间的反射光线
。
对反射光线进行处理后，就可以得到周围环境信息
。
其中，转镜安装在转镜支架上
。
转镜支架一方面可以带动转镜旋转，另一方面可以固定安装码盘，通过码盘可以测量转镜支架和转镜的旋转角度
。
[0003]但是，在实际应用中，固定转镜的转镜支架对光线存在一定反射
。
例如参照图1，激光雷达一发射通道所发射的光线经转镜支架
10
表面反射后入射至外界高反射率物体，经外界高反射率物体反射后，会再次经转镜支架表面反射，并进入相应接收通道的主视场，进而产生鬼像
。
[0004]为了减少鬼像产生，常用的做法是：在转镜支架上对光线存在反射的位置粘接挡光片，通过挡光片来降低转镜支架表面的反射率，从而减少鬼像的产生
。
[0005]例如，参照图2，可以在转镜支架
20
的底部，额外粘接挡光片
21
，挡光片
21
可以降低转镜支架
20
表面的反射率，从而减少鬼像的产生
。
其中，挡光片/>21
需要经过特殊的消光工艺处理，例如电泳
、
基材黑化
、
涂覆消光涂层等
。
其中，电泳处理后的挡光片
21
依然存在一定反射率，出现高反射率物体时仍易产生鬼像
。
而基材黑化
、
涂覆消光涂层等方式，整体工艺较为复杂
。
[0006]但是，经消光工艺处理后的挡光片
21
是独立于转镜支架外的部件，将挡光片
21
粘接在转镜支架
20
底部时，挡光片
21
与转镜支架
21
之间的机械件粘接强度难以保证，经长时间使用后可能出现挡光片
21
翘起
(
如图3所示
)
或脱落的情况
。
[0007]
技术介绍
部分的内容仅仅是公开人所知晓的技术，并不当然代表本领域的现有技术
。

技术实现思路

[0008]本技术要解决的问题是：减少转镜支架表面的反光现象的同时，解决现有技术中挡光片方案存在的问题之一
。
[0009]为解决上述问题，本技术实施例提供了一种转镜支架，所述转镜支架包括：
[0010]侧支架部；
[0011]以及底支架部，位于所述侧支架部的第一端，并与所述侧支架部连接；
[0012]所述底支架部包括面向所述侧支架部的第一表面，所述第一表面上形成有消光结构
。
[0013]所述消光结构包括多个消光单元，每个消光单元具有至少一个消光面
。
[0014]可选地，所述消光单元为形成在所述第一表面上的凸起结构
。
[0015]可选地，所述凸起结构的高宽比大于
0.1。
[0016]可选地，所述消光单元为形成在所述第一表面上的凹陷结构
。
[0017]可选地，所述凹陷结构的深宽比大于
0.1。
[0018]可选地，所述消光单元为圆弧形的凸起结构或者圆弧形的凹陷结构；多个所述消光单元在所述第一表面上按照同心圆的方式分布
。
[0019]可选地，所述消光单元为条形的凸起结构或者条形的凹陷结构；多个所述消光单元在所述第一表面上平行分布
。
[0020]可选地，所述消光单元为半球形或者多棱锥形的凸起结构，或者，所述消光单元为半球形或者多棱锥形的凹陷结构；多个所述消光单元在所述第一表面上按照二维阵列分布
。
[0021]可选地，所述多个消光单元在所述第一表面上的占空比大于
0.9。
[0022]可选地，所述转镜支架绕转轴旋转；所述多个消光单元在所述第一表面上的分布，使得所述转镜支架的重心保持于所述转轴上
。
[0023]可选地，所述侧支架部与所述底支架部为一体成型件
。
[0024]可选地，所述消光结构与所述底支架部为一体成型件
。
[0025]可选地，所述侧支架部包括：至少一个转镜连接部
。
[0026]可选地，所述侧支架部包括多个以上转镜连接部；所述多个以上转镜连接部相连接，形成多棱柱形的容纳空间
。
[0027]可选地，所述转镜支架还包括：顶支架部，位于所述侧支架部的第二端，并与所述侧支架部连接；所述侧支架部的第二端与所述侧支架部的第一端相对
。
[0028]本技术实施例还提供了一种转镜单元，所述转镜单元包括：
[0029]上述任一种的转镜支架；
[0030]以及转镜；
[0031]其中，所述转镜位于所述转镜支架的侧支架部上，适于与所述转镜支架同步旋转
。
[0032]可选地，所述转镜单元还包括：
[0033]电机，位于所述侧支架部形成的容纳空间内，所述电机的转子与所述转镜支架连接
。
[0034]本技术实施例还提供了一种激光雷达，所述激光雷达包括：
[0035]发射单元；
[0036]接收单元；
[0037]以及上述任一种的转镜单元；
[0038]所述转镜单元适于接收所述发射单元发射的光线，并将所接收的光线反射至待探测空间；或者接收待探测空间反射的光线并发射至所述接收单元
。
[0039]可选地，所述激光雷达还包括：
[0040]码盘，位于所述转镜单元的底支架部的第二表面，适于测量所述转镜单元的旋转角度；其中，所述底支架部的第二表面与所述底支架部的第一表面相对
。
[0041]与现有技术相比，本技术实施例的技术方案具有以下优点：
[0042]应用本技术的方案，由于底支架部包括面向所述侧支架部的第一表面，该第
一表面上直接形成有消光结构，因此，通过底支架部第一表面上的消光结构就可以减少转镜支架表面的反光现象，而无需额外粘接码盘挡光片，从而一方面可以降低反射，并根据消光需要灵活设计消光结构，另一方面可以简化转镜单元的结构，避免码盘挡光片因长时间使用而出现翘起或脱落的情况，彻底解决了挡光片需要粘接导致机械粘接强度的问题
。
[0043]进一步，设置消光结构包括多个消光单元，每个消光单体具有至少一个消光面，由此可以使得投射至消光结构上的光线，在多个消光单元之间来回多次散射，消光效果本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种转镜支架，其特征在于，包括：侧支架部；以及底支架部，位于所述侧支架部的第一端，并与所述侧支架部连接；所述底支架部包括面向所述侧支架部的第一表面，所述第一表面上形成有消光结构
。2.
如权利要求1所述的转镜支架，其特征在于，所述消光结构包括多个消光单元，每个消光单元具有至少一个消光面
。3.
如权利要求2所述的转镜支架，其特征在于，所述消光单元为形成在所述第一表面上的凸起结构
。4.
如权利要求3所述的转镜支架，其特征在于，所述凸起结构的高宽比大于
0.1。5.
如权利要求2所述的转镜支架，其特征在于，所述消光单元为形成在所述第一表面上的凹陷结构
。6.
如权利要求5所述的转镜支架，其特征在于，所述凹陷结构的深宽比大于
0.1。7.
如权利要求3或5所述的转镜支架，其特征在于，所述消光单元为圆弧形的凸起结构或者圆弧形的凹陷结构；多个所述消光单元在所述第一表面上按照同心圆的方式分布
。8.
如权利要求3或5所述的转镜支架，其特征在于，所述消光单元为条形的凸起结构或者条形的凹陷结构；多个所述消光单元在所述第一表面上平行分布
。9.
如权利要求3或5所述的转镜支架，其特征在于，所述消光单元为半球形或者多棱锥形的凸起结构，或者，所述消光单元为半球形或者多棱锥形的凹陷结构；多个所述消光单元在所述第一表面上按照二维阵列分布
。10.
如权利要求2所述的转镜支架，其特征在于，所述多个消光单元在所述第一表面上的占空比大于
0.9。11.
如权利要求2所述的转镜支架，其特征在于，所述转镜支架绕转轴旋转；所述多个消光单元在所述第一表面上的分布，使得所述转镜支架的重心保持于所述转轴上
。12.
如...

【专利技术属性】
技术研发人员：张湛林，向少卿，
申请(专利权)人：上海禾赛科技有限公司，
类型：新型
国别省市：