光学邻近校正方法及系统以及设计规则检查方法及系统技术方案

一种光学邻近校正方法及系统

【技术实现步骤摘要】
光学邻近校正方法及系统以及设计规则检查方法及系统


[0001]本专利技术实施例涉及半导体制造领域，尤其涉及一种光学邻近校正方法及系统
、
设计规则检查方法及系统
、
设备以及存储介质
。

技术介绍

[0002]由于特征线宽越来越小，关键工序中的一层图形仅仅通过一次曝光已经无法完成，所以已经普遍采用多重曝光技术
。
即将版图中的一层，在工艺中分为多张掩膜版，进行多次曝光来实现
。
[0003]在把一层版图拆分为多张掩膜版的过程中，目前的拆分方法通常是基于拆分规则，直接检查两个图形之间的关系，来判断它们是否必须拆分到不同的掩膜版上
。
[0004]但是，目前图形拆分的自由度有待提高
。

技术实现思路

[0005]本专利技术实施例解决的问题是提供一种光学邻近校正方法及系统
、
设计规则检查方法及系统
、
设备以及存储介质，提高图形拆分的自由度
。
[0006]为解决上述问题，本专利技术实施例提供一种光学邻近校正方法，包括：获取版图图形，版图图形包括多个主图形；获得图形拆分规则，图形拆分规则包括：第一类规则，用于在当连续至少第一数量的邻近主图形之间具有第一临界位置关系时，判断存在冲突；第二类规则，用于在当连续至少第二数量的邻近主图形之间具有第二临界位置关系时，判断存在冲突；其中，第二数量大于第一数量；基于图形拆分规则，将版图图形上的多个主图形拆分至多张掩膜版上
>。
[0007]相应的，本专利技术实施例还提供一种光学邻近校正系统，包括：版图获取模块，用于获取版图图形，版图图形包括多个主图形；拆分规则获得模块，用于获得图形拆分规则，图形拆分规则包括：第一类规则，用于在当连续至少第一数量的邻近主图形之间具有第一临界位置关系时，判断存在冲突；第二类规则，用于在当连续至少第二数量的邻近主图形之间具有第二临界位置关系时，判断存在冲突；其中，第二数量大于第一数量；图形拆分模块，用于基于图形拆分规则，将版图图形上的多个主图形拆分至多张掩膜版上
。
[0008]相应的，本专利技术实施例还提供一种设备，包括至少一个存储器和至少一个处理器，存储器存储有一条或多条计算机指令，其中，一条或多条计算机指令被处理器执行以实现本专利技术实施例的光学邻近校正方法
。
[0009]相应的，本专利技术实施例还提供一种存储介质，存储介质存储有一条或多条计算机指令，一条或多条计算机指令用于实现本专利技术实施例的光学邻近校正方法
。
[0010]相应的，本专利技术实施例还提供一种设计规则检查方法，包括：设计版图图形，版图图形包括多个主图形；获得设计规则，设计规则包括图形拆分规则；其中，图形拆分规则包括：第一类规则，用于在当连续至少第一数量的邻近主图形之间具有第一临界位置关系时，判断存在冲突；第二类规则，用于在当连续至少第二数量的邻近主图形之间具有第二临界
位置关系时，判断存在冲突；其中，第二数量大于第一数量；基于设计规则，对版图图形进行设计规则检查
。
[0011]相应的，本专利技术实施例还提供一种设计规则检查系统，包括：版图设计模块，用于设计版图图形，版图图形包括多个主图形；设计规则获得模块，用于获得设计规则，设计规则包括图形拆分规则；其中，图形拆分规则包括：第一类规则，用于在当连续至少第一数量的邻近主图形之间具有第一临界位置关系时，判断存在冲突；第二类规则，用于在当连续至少第二数量的邻近主图形之间具有第二临界位置关系时，判断存在冲突；其中，第二数量大于第一数量；规则检查模块，用于基于设计规则，对版图图形进行设计规则检查
。
[0012]相应的，本专利技术实施例还提供一种设备，包括至少一个存储器和至少一个处理器，存储器存储有一条或多条计算机指令，其中，一条或多条计算机指令被处理器执行以实现如本专利技术实施例的设计规则检查方法
。
[0013]相应的，本专利技术实施例还提供一种存储介质，其特征在于，存储介质存储有一条或多条计算机指令，一条或多条计算机指令用于实现本专利技术实施例的设计规则检查方法
。
[0014]与现有技术相比，本专利技术实施例的技术方案具有以下优点：
[0015]本专利技术实施例提供的光学邻近校正方法，获得图形拆分规则，图形拆分规则包括：第一类规则，用于在当连续至少第一数量的邻近主图形之间具有第一临界位置关系时，判断存在冲突；第二类规则，用于在当连续至少第二数量的邻近主图形之间具有第二临界位置关系时，判断存在冲突；其中，第二数量大于第一数量，从而在基于图形拆分规则，将版图图形上的多个主图形拆分至多张掩膜版上的步骤中，能够将连续少于第二数量的具有第二临界位置关系的邻近主图形放置在同一张掩膜版上，进而在使得进行图形拆分后所获得的掩膜版图形满足工艺要求的同时，提高图形拆分的自由度，并且无需通过增加主图形之间间距的方式，来使连续少于第二数量的具有第二临界位置关系的邻近主图形放置在一张掩膜版上，相应减少了对版图面积的需求，有利于节省成本
。
[0016]本专利技术实施例提供的设计规则检查方法，获得设计规则，包括图形拆分规则，图形拆分规则包括：第一类规则，用于在当连续至少第一数量的邻近主图形之间具有第一临界位置关系时，判断存在冲突；第二类规则，用于在当连续至少第二数量的邻近主图形之间具有第二临界位置关系时，判断存在冲突；其中，第二数量大于第一数量，从而在基于设计规则对版图图形进行设计规则检查的步骤中，能够判断不满足第一类规则和第二类规则的图形，并且允许将连续少于第二数量的具有第二临界位置关系的邻近主图形放置在同一张掩膜版上，相应在设计版图的流程中便能够提前对不满足图形拆分规则的图形进行检查，有利于提前发现存在冲突的问题图形，进而有利于节约流程
。
附图说明
[0017]图1是本专利技术提供的光学邻近校正方法一实施例的流程图；
[0018]图2是版图图形一实施例的示意图；
[0019]图3是图1中的步骤
S2
一实施例的流程图；
[0020]图4是利用本专利技术的光学邻近校正方法对图2中的版图图形进行图形拆分的示意图；
[0021]图5是本专利技术光学邻近校正系统一实施例的功能框图；
[0022]图6是本专利技术实施例提供的设备一实施例的硬件结构图；
[0023]图7是本专利技术设计规则检查方法一实施例的流程图；
[0024]图8是本专利技术设计规则检查系统一实施例的功能框图；
[0025]图9是本专利技术实施例提供的设备另一实施例的硬件结构图
。
具体实施方式
[0026]由
技术介绍
可知，目前图形拆分的自由度有待提高
。
以下对目前图形拆分的自由度有待提高的原因进行说明
。
[0027]具体地，在把一层版图拆分为多张掩膜版的过程中，目前的拆分方法只能支持直接检查两个图形之间的关系，来判断相邻两个图形是否必须拆分到不同本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种光学邻近校正方法，其特征在于，包括：获取版图图形，所述版图图形包括多个主图形；获得图形拆分规则，所述图形拆分规则包括：第一类规则，用于在当连续至少第一数量的邻近主图形之间具有第一临界位置关系时，判断存在冲突；第二类规则，用于在当连续至少第二数量的邻近主图形之间具有第二临界位置关系时，判断存在冲突；其中，所述第二数量大于所述第一数量；基于所述图形拆分规则，将所述版图图形上的多个主图形拆分至多张掩膜版上
。2.
如权利要求1所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述获得图形拆分规则的步骤包括：获取初始拆分规则，所述初始拆分规则包括所述第一类规则和第三类规则，其中，所述第三类规则用于在当连续至少第一数量的邻近主图形之间具有第二临界位置关系时，判断存在冲突；获取光刻工艺的工艺参数，所述光刻工艺支持连续至少第一数量的邻近主图形之间具有所述第二临界位置关系，且不支持连续至少第二数量的邻近主图形之间具有第二临界位置关系；基于所述第三类规则和光刻工艺的工艺参数，获得所述第二类规则，所述第二类规则和第一类规则用于构成所述图形拆分规则
。3.
如权利要求1所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述第一临界位置关系为以下临界位置关系中的其中一种，所述第二临界位置关系为以下临界位置关系中的另一种：相邻主图形之间的间距小于第一临界间距；相邻主图形之间的角对角距离小于第一临界距离；或者，所述第一临界位置关系为以下临界位置关系中的任意一种或两种：相邻主图形之间的间距小于第一临界间距；相邻主图形之间的角对角距离小于第一临界距离；所述第二临界位置关系包括以下临界位置关系中的任一种或两种：相邻主图形之间的间距小于第二临界拆分间距；相邻主图形之间的对角距离小于第二临界拆分距离
。4.
如权利要求1所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述主图形包括通孔或接触孔
。5.
如权利要求4所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述主图形包括长方形图形和正方形图形中的一种或两种
。6.
如权利要求1所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述第一数量为两个
。7.
如权利要求6所述的光学邻近校正方法，其特征在于，所述第二数量为三个
。8.
一种光学邻近校正系统，其特征在于，包括：版图获取模块，用于获取版图图形，所述版图图形包括多个主图形；拆分规则获得模块，用于获得图形拆分规则，所述图形拆分规则包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：李雪，陈智涛，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：