一种显示面板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供了一种显示面板及显示装置，显示面板包括基板

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及显示装置


[0001]本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种显示面板及显示装置
。

技术介绍

[0002]随着显示技术的不断发展，低功耗的
OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode
，有机发光二极管
)
显示面板成为主要发展趋势
。
相关技术中，通过设置光取出结构提高显示面板的正面出光效率，但是光取出结构会导致显示面板的亮度衰减进一步劣化，影响显示面板的显示品质
。

技术实现思路

[0003]本专利技术实施例的目的在于提供一种显示面板及显示装置，以在提高显示面板正面出光效率的同时，减缓视角亮度衰减的劣化
。
具体技术方案如下：
[0004]本申请第一方面的实施例提出了一种显示面板，显示面板包括基板
、
像素限定层
、
发光层
、
第一光调制膜层和第二光调制膜层
。
具体地，所述像素限定层设置在所述基板的一侧，并具有多个像素开口；所述发光层包括多个发光单元，所述多个发光单元与所述多个像素开口一一对应设置，所述发光单元设置在所述像素开口内；所述第一光调制膜层设置在所述像素限定层远离所述基板的一侧；所述第一光调制膜层将所述发光单元发出的第一光线折射或反射成第二光线；所述第二光调制膜层设置在所述第一光调制膜层远离所述基板的一侧；所述第二光调制膜层将所述第二光线折射或反射成第三光线，从所述显示面板出光侧出射，使得所述第三光线与第一方向的夹角小于所述第一光线与第一方向的夹角；其中，第一方向为与所述基板垂直且朝向所述显示面板出光侧的方向
。
[0005]在本申请的一些实施例中，所述第一光调制膜层包括：第一高折射层和第一低折射层；所述第一低折射层覆盖所述第一高折射层；所述第一高折射层的折射率大于所述第一低折射层的折射率；
[0006]所述第二光调制膜层包括：第二高折射层和第二低折射层；所述第二低折射层覆盖所述第二高折射层；或，所述第二高折射层覆盖所述第二低折射层；
[0007]所述第二高折射层的折射率大于所述第二低折射层的折射率
。
[0008]在本申请的一些实施例中，所述第一高折射层包括多个间隔设置的第一凸起结构；每一所述第一凸起结构在所述基板上的正投影，覆盖一个所述发光单元在所述基板上的正投影；
[0009]所述第一低折射层设置在所述多个第一凸起结构远离所述基板的一侧，并覆盖所述多个第一凸起结构
。
[0010]在本申请的一些实施例中，所述第二高折射层包括多个间隔设置的第二凸起结构；每一所述第二凸起结构在所述基板上的正投影，覆盖一个所述发光单元在所述基板上的正投影；
[0011]所述第二低折射层设置在所述多个第二凸起结构远离所述基板的一侧，并覆盖所
述多个第二凸起结构
。
[0012]在本申请的一些实施例中，所述第一凸起结构靠近所述基板的面在所述基板上的正投影的边界，与和其对应设置的所述像素开口靠近所述基板的边界在所述基板上的正投影之间的距离为第一距离；
[0013]所述第二凸起结构靠近所述基板的面在所述基板上的正投影的边界，与和其对应设置的所述像素开口靠近所述基板的边界在所述基板上的正投影之间的距离为第二距离；
[0014]所述第二距离大于等于所述第一距离
。
[0015]在本申请的一些实施例中，所述发光单元包括：蓝色发光单元
、
红色发光单元和绿色发光单元；
[0016]所述多个第一凸起结构与所述多个发光单元一一对应设置；或，所述多个第一凸起结构与多个所述蓝色发光单元和多个所述红色发光单元一一对应设置；
[0017]所述多个第二凸起结构与所述多个发光单元一一对应设置；或，所述多个第二凸起结构与多个所述蓝色发光单元和多个所述红色发光单元一一对应设置
。
[0018]在本申请的一些实施例中，与所述蓝色发光单元对应的第一距离，小于与所述红色发光单元和所述绿色发光单元分别对应的第一距离；
[0019]与所述蓝色发光单元对应的第二距离，小于等于与所述红色发光单元对应的第二距离；与所述红色发光单元对应的第二距离，小于与所述绿色发光单元对应的第二距离
。
[0020]在本申请的一些实施例中，所述第一距离的数值范围为1‑3μ
m
，所述第二距离的数值范围为2‑6μ
m。
[0021]在本申请的一些实施例中，在第一方向上，所述第一凸起结构和所述第二凸起结构上下对应设置；
[0022]所述像素开口
、
所述第一凸起结构和所述第二凸起结构均为轴对称结构；
[0023]所述像素开口的对称轴
、
以及与之对应设置的所述第一凸起结构的对称轴和所述第二凸起结构的对称轴重合
。
[0024]在本申请的一些实施例中，所述第二低折射层具有多个间隔设置的凹陷结构；每一所述凹陷结构在所述基板上的正投影，覆盖一个所述发光单元在所述基板上的正投影；
[0025]所述第二高折射层设置在所述第二低折射层远离所述基板的一侧，并覆盖所述第二低折射层及其所述多个凹陷结构
。
[0026]在本申请的一些实施例中，所述第一凸起结构靠近所述基板的面在所述基板上的正投影的边界，与和其对应设置的所述像素开口靠近所述基板的边界在所述基板上的正投影之间的距离为第一距离；
[0027]所述凹陷结构靠近所述基板的边界在所述基板上的正投影，与和其对应设置的所述像素开口靠近所述基板的边界在所述基板上的正投影之间的距离为第三距离；
[0028]所述第三距离大于等于所述第一距离
。
[0029]在本申请的一些实施例中，所述发光单元包括：蓝色发光单元
、
红色发光单元和绿色发光单元；
[0030]所述多个第一凸起结构与所述多个发光单元一一对应设置；或，所述多个第一凸起结构与多个所述蓝色发光单元和多个所述红色发光单元一一对应设置；
[0031]所述多个凹陷结构与所述多个发光单元一一对应设置；或，所述多个凹陷结构与
多个所述蓝色发光单元和多个所述红色发光单元一一对应设置
。
[0032]在本申请的一些实施例中，在第一方向上，所述第一凸起结构与所述凹陷结构上下对应设置；
[0033]所述像素开口
、
所述第一凸起结构和所述凹陷结构为轴对称结构；
[0034]所述像素开口的对称轴
、
以及与之对应设置的所述第一凸起结构的对称轴和所述凹陷结构的对称轴重合
。
[0035]在本申请的一些实施例中，所述第一光调制膜层和所述第二光调制膜层沿远离所述基板方向层叠接触设置；或，
[0036]所述第一光调制膜层和所述第二光调制膜层之间设置有第三无机封装层，且所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种显示面板，其特征在于，包括：基板；像素限定层，所述像素限定层设置在所述基板的一侧，并具有多个像素开口；发光层，所述发光层包括多个发光单元，所述多个发光单元与所述多个像素开口一一对应设置，所述发光单元设置在所述像素开口内；第一光调制膜层，所述第一光调制膜层设置在所述像素限定层远离所述基板的一侧；所述第一光调制膜层将所述发光单元发出的第一光线折射或反射成第二光线；第二光调制膜层，所述第二光调制膜层设置在所述第一光调制膜层远离所述基板的一侧；所述第二光调制膜层将所述第二光线折射或反射成第三光线，从所述显示面板出光侧出射，使得所述第三光线与第一方向的夹角小于所述第一光线与第一方向的夹角；其中，第一方向为与所述基板垂直且朝向所述显示面板出光侧的方向
。2.
根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一光调制膜层包括：第一高折射层和第一低折射层；所述第一低折射层覆盖所述第一高折射层；所述第一高折射层的折射率大于所述第一低折射层的折射率；所述第二光调制膜层包括：第二高折射层和第二低折射层；所述第二低折射层覆盖所述第二高折射层；或，所述第二高折射层覆盖所述第二低折射层；所述第二高折射层的折射率大于所述第二低折射层的折射率
。3.
根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一高折射层包括多个间隔设置的第一凸起结构；每一所述第一凸起结构在所述基板上的正投影，覆盖一个所述发光单元在所述基板上的正投影；所述第一低折射层设置在所述多个第一凸起结构远离所述基板的一侧，并覆盖所述多个第一凸起结构
。4.
根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第二高折射层包括多个间隔设置的第二凸起结构；每一所述第二凸起结构在所述基板上的正投影，覆盖一个所述发光单元在所述基板上的正投影；所述第二低折射层设置在所述多个第二凸起结构远离所述基板的一侧，并覆盖所述多个第二凸起结构
。5.
根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第一凸起结构靠近所述基板的面在所述基板上的正投影的边界，与和其对应设置的所述像素开口靠近所述基板的边界在所述基板上的正投影之间的距离为第一距离；所述第二凸起结构靠近所述基板的面在所述基板上的正投影的边界，与和其对应设置的所述像素开口靠近所述基板的边界在所述基板上的正投影之间的距离为第二距离；所述第二距离大于等于所述第一距离
。6.
根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述发光单元包括：蓝色发光单元
、
红色发光单元和绿色发光单元；所述多个第一凸起结构与所述多个发光单元一一对应设置；或，所述多个第一凸起结构与多个所述蓝色发光单元和多个所述红色发光单元一一对应设置；所述多个第二凸起结构与所述多个发光单元一一对应设置；或，所述多个第二凸起结构与多个所述蓝色发光单元和多个所述红色发光单元一一对应设置
。
7.
根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，与所述蓝色发光单元对应的第一距离，小于与所述红色发光单元和所述绿色发光单元分别对应的第一距离；与所述蓝色发光单元对应的第二距离，小于等于与所述红色发光单元对应的第二距离；与所述红色发光单元对应的第二距离，小于与所述绿色发光单元对应的第二距离
。8.
根据权利要求5所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：王艳明，韩城，李彦松，李旭，吴启晓，高昊，张智辉，温向敏，王彦强，罗利辉，
申请(专利权)人：北京京东方技术开发有限公司，
类型：发明
国别省市：