发光元件制造技术

一种发光组件，发光组件包括一基板和一保护层，基板上方有多个凸块配置于所述基板与保护层之间，其中所述多个凸块中有两相邻凸块，而所述两相邻凸块间具有一包含一有机材料的有机发光单元。在所述多个凸块中有至少一个凸块包含一远离基板方向的一表面，而所述表面包含一皱褶部，所述皱褶部包含一朝向基板的一顶点。发光组件也包括一光学吸收单元，所述光学吸收单元配置于该基板与保护层之间。吸收单元配置于该基板与保护层之间。吸收单元配置于该基板与保护层之间。

【技术实现步骤摘要】
发光元件


[0001]本揭露是关于一种发光元件，特别是关于一种有机发光元件。

技术介绍

[0002]有机发光显示器已经广泛使用于最高端的电子装置中。然而，由于现有技术的限制，发光材料的发光效率与质量并无法有效地被控制，导致器件的光学效果不如预期。

技术实现思路

[0003]在本专利技术中，具有一种发光组件，发光组件包括一基板和一保护层，基板上方有多个凸块配置于所述基板与保护层之间，其中所述多个凸块中有两相邻凸块，而所述两相邻凸块间具有一包含一有机材料的有机发光单元。在所述多个凸块中有至少一个凸块包含一远离基板方向的一表面，而所述表面包含一皱褶部，所述皱褶部包含一朝向基板的一顶点。发光组件也包括一光学吸收单元，所述光学吸收单元配置于该基板与保护层之间。
[0004]在本专利技术中，具有一种发光组件，包括一基板，且所述基板上方具有多个有机发光单元，其中这些发光单元包括一第一发光单元和一第二发光单元，而第一发光单元与第二发光单元分别具有一包含一有机材料的有机发光迭层且分别发射具不同色的光，其中所述第一发光单元的有机发光迭层的总厚度大于第二发光单元的有机发光迭层的总厚度。
[0005]本专利技术中，也具有一种发光组件的制作方法，包括提供一基板并形成复数凸块于该基板上，制作方法也包括形成一光敏层于该多个凸块上以及图案化该光敏层，以形成通过该光敏层的一凹槽，进而暴露一表面，制作方法也包括设置一有机材料于该表面上以及移除该经图案化光敏层，并且连续覆型地设置一介电层于多个凸块的上方，其中所述多个凸块中有至少一个凸块包含一远离基板方向的一表面，所述表面包含一皱褶部，所述皱褶部包含一朝向基板的一顶点。
[0006]在一些实施例中，凸块对于一特定波长之吸收率大于或等于60％且所述特定波长不大于400nm。
[0007]在一些实施例中，保护层对于一特定波长之吸收率大于或等于60％且所述特定波长不大于400nm。
[0008]在一些实施例中，有机材料对于一特定波长之吸收率大于或等于60％且所述特定波长不大于400nm。
[0009]在一些实施例中，所述光敏层对于一特定波长之吸收率大于或等于30％且所述特定波长不大于400nm。
[0010]在一些实施例中，所述有机材料可配置于一有机层，所述有机层可为一电子传输层(ETL)，一电子注入层(EIL)，一发射层(EM)，一空穴阻挡层(HBL)，一空穴注入层(HIL)，一空穴传输层(HTL)中的一者。
[0011]在一些实施例中，其中所述光学吸收单元对于一特定波长之吸收率大于或等于60％且所述特定波长不大于400nm。
[0012]在一些实施例中，所述的各发光单元具有一有效发光区其大小等于位于各发光单元下方的一阳极总面积，各发光单元于发光时具有一黑区与一亮区，其中所述的黑区的总面积小于所述有效发光区的50％。
附图说明
[0013]图1为俯视图，例示发光元件的中间产物。
[0014]图2A为例示沿着图1中的线AA的剖面图。
[0015]图2B为示意图，例示落在两个相邻第一电极上的凸块。
[0016]图2C为示意图，例示凸块的另一实施例。
[0017]图3为一实施例的剖面图。
[0018]图4A为俯视图，例示具有数个发光像素的发光层的一部分。
[0019]图4B为俯视图，例示具有数个发光像素的发光层的一部分。
[0020]图5为一实施例的剖面图。
[0021]图6A例示一电极的剖面图。
[0022]图6B例示一电极的剖面图。
[0023]图6C例示一电极的剖面图。
[0024]图7A为一实施例的剖面图。
[0025]图7B为一实施例的剖面图。
[0026]图8为根据一实施例的一发光元件的剖面图。
[0027]图9为根据一实施例的一发光元件的俯视图。
[0028]图10为根据一实施例的一发光元件的剖面图。
[0029]图11为根据一实施例的一发光元件的剖面图。
[0030]图12为根据一实施例的一发光元件的剖面图。
[0031]图13为根据一实施例的一发光元件的剖面图。
[0032]图14为根据一实施例的一发光元件的剖面图。
[0033]图15为根据一实施例的一发光元件的剖面图。
[0034]图15A至图15F绘示根据一实施例的制造发光元件的一方法。
[0035]图16A至图16G绘示根据一实施例的制造发光元件的一方法。
[0036]图17A为剖面图，例示根据一实施例的发光元件的一部分。
[0037]图17B为剖面图，例示根据一实施例的发光元件的一部分。
[0038]图18为剖面图，例示根据一实施例的凸块的一实施例。
[0039]图19为上视图，例示根据一实施例的有机发光单元。
[0040]图20为上视图，例示根据一实施例的有机发光单元。
具体实施方式
[0041]图1为俯视图，例示发光元件10的中间产物。发光元件10具有发光层以及位于该发光层20上方的覆盖层40。对于发光层20，可设计间隔物21以提供用于容纳发光像素阵列的凹部阵列。在一些实施例中，间隔物21可包含光敏感材料。
[0042]图2A为例示沿着图1中的线AA的剖面图并且仅说明发光区域。为求简洁，此处省略
覆盖层40。间隔物21具有数个凸块210，以定义发光像素图案。凹部位在两个相邻凸块210之间并且提供容纳发光像素的空间。该技艺之人士应理解从剖面图观察，凸块210以断开的方式绘示，但从图1的俯视示意图观察，它们可经由间隔物21的其他部分而彼此连接。
[0043]在一些实施例中，凸块210对于一特定波长之吸收率大于或等于50％，在一些实施例中，凸块210对于一特定波长之吸收率大于或等于60％，在一些实施例中，凸块210对于一特定波长之吸收率大于或等于70％，在一些实施例中，凸块210对于一特定波长之吸收率大于或等于70％，在一些实施例中，凸块210对于一特定波长之吸收率大于或等于80％，在一些实施例中，凸块210对于一特定波长之吸收率大于或等于90％，在一些实施例中，凸块210对于一特定波长之吸收率大于或等于95％。在一些实施例中，特定波长不大于400nm，在一些实施例中，特定波长不大于350nm，在一些实施例中，特定波长不大于300nm，在一些实施例中，特定波长不大于250nm，在一些实施例中，特定波长不大于200nm，在一些实施例中，特定波长不大于150nm，在一些实施例中，特定波长不大于100nm。
[0044]实施例中，发光单元260包括一第一电极215、在凸块210和第一电极215上方的一第一载体运输层262、在第一载体运输层262的一部分上方的第二载体运输层263，以及在第二载体运输层263上方的一有机发射层264。在一些实施例中，一载体注入层261配置于第一电极215与第一载体运输层262之间。发光单元260包含本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种发光元件，包括：一基板；一覆盖层；该基板上方的多个凸块配置于所述基板与覆盖层之间，其中所述多个凸块中有两相邻凸块，所述两相邻凸块间具有一包含一有机材料的有机发光单元；其中所述多个凸块中有至少一个凸块包含一远离基板方向的一表面，所述表面包含一皱褶部，所述皱褶部包含一朝向基板的一顶点；一光学吸收单元，所述光学吸收单元配置于该基板与覆盖层之间。2.一种发光元件，包括：一基板；所述基板上方具有多个有机发光单元，所述这些有机发光单元包括一第一发光单元和一第二发光单元，其中所述第一发光单元与第二发光单元分别具有一包含一有机材料的有机发光迭层且分别发射具不同颜色的光，其中所述第一发光单元的有机发光迭层的总厚度大于第二发光单元的有机发光迭层的总厚度。3.一种发光元件的制作方法，包括：提供一基板；形成复数凸块于该基板上；形成一光敏层于该多个凸块上；图案化该光敏层，以形成通过该光敏层的一凹槽，进而暴露一表面；设置一有机材料于该表面上；移除该经图案化光敏层；并连续覆型地设置一介电层于多个凸块的上方，其中所述多个凸块中有至少一个凸块包含一远离基板方向的一表面，所述表面包含一皱褶部，所述皱褶部包含一朝向基板的一顶点。4.如权利要求1至3项中任一项中所述的发光元件，其中所述凸块...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈慧修，魏丽真，徐国城，朱克泰，
申请(专利权)人：台州观宇科技有限公司，
类型：发明
国别省市：