【技术实现步骤摘要】
光模块透镜耦合系统
[0001]本专利技术涉及光模块
,特别涉及一种光模块透镜耦合系统
。
技术介绍
[0002]将
VCSEL
或
PD
这类光芯片和光学透镜中心精确对准的这个过程称之为耦合,这个加工过程需要达到微米级的超高物理精度
。
目前常用的方式是给相应的光芯片通电使其进入工作状态,然后连接光电信号检测仪器,通过耦合过程中的信号强度变化来判断对准程度
。
[0003]但是上述这种间接检测的耦合方式因为需要连接光
、
电线缆以驱动芯片和探测信号,所以设备的通用型极差,工作过程也相对复杂,设备效率较低
。
同时,由于采用信号检测的方式,其加工精度受检测仪器的测量精度
、
采样率等影响,无法轻易实现更高的加工精度
。
技术实现思路
[0004]本专利技术实施例提供一种光模块透镜耦合系统,无需连接任何线缆,设备通用性极高,使用成本低,同时耦合过程的显微可视化,操作简单,加工精度极高,耦合效率高
。
[0005]一方面,本专利技术实施例提供了一种光模块透镜耦合系统,包括:
[0006]透镜结构,用于对光学透镜进行升降调节;
[0007]芯片结构,设于所述透镜结构的下方,并用于对光芯片进行位移调节;
[0008]棱镜结构,包括设于光学透镜与光芯片正中间
、
且用于反射光学透镜与光芯片之间成像光路的棱镜组件,及与所述棱镜
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种光模块透镜耦合系统,其特征在于,包括:透镜结构,用于对光学透镜进行升降调节;芯片结构,设于所述透镜结构的下方,并用于对光芯片进行位移调节;棱镜结构,包括设于光学透镜与光芯片正中间
、
且用于反射光学透镜与光芯片之间成像光路的棱镜组件,及与所述棱镜组件连接
、
且对所述棱镜组件进行位移调节的棱镜调节装置;以及,显微结构,用于设于光学透镜与光芯片之间成像光路的反射方向上,并对光学透镜与光芯片进行对焦成像观测;其中,当显微结构观测到光学透镜与光芯片成像重合,透镜结构调节光学透镜下降至光芯片表面
。2.
如权利要求1所述的光模块透镜耦合系统,其特征在于,所述棱镜组件包括呈正方体结构的分光棱镜装置,设于所述分光棱镜装置的一个面上
、
且垂直于光学透镜与光芯片的全反射平面镜,及以所述全反射平面镜与所述分光棱镜装置之间的
45
°
夹角截面为轴面延伸设置的半反半透膜
。3.
如权利要求2所述的光模块透镜耦合系统,其特征在于,所述分光棱镜装置为
45
°
棱镜或
45
°
分光镜
。4.
如权利要求1所述的光模块透镜耦合系统,其特征在于,所述显微结构包括三维调焦平台及设于所述三维调焦平台上的电子显微镜,所述电子显微镜正对于光学透镜与光芯片之间成像光路的反射方向上
。5.
如权利要求1所述的光模块透镜耦合系统,其特征在于,所述芯片结构包括六轴调节平台及设于所述六轴调节平台上的
PCB
板夹持装置,所述
PCB
板夹持装置用于夹持光芯片
。6.
如权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员:蒋军,金兴汇,
申请(专利权)人:深圳新联胜光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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