【技术实现步骤摘要】
一种低氧含量的铁铬铝合金粉末、靶材及粉末、靶材的制备方法
[0001]本专利技术属于合金靶材
,具体涉及一种低氧含量的铁铬铝合金粉末
、
靶材及粉末
、
靶材的制备方法
。
技术介绍
[0002]物理气相沉积
(PhysicalVaporDeposition
,简称
PVD)
被广泛地应用在光学
、
电子
、
信息等高端产业中,例如集成电路
、
液晶显示器
、
工业玻璃
、
照相机镜头
、
信息存储
、
船舶
、
化工等产业;物理气相沉积中使用的合金靶材则是集成电路
、
液晶显示器等制造过程中最重要的原材料之一
。
[0003]随着物理气相沉积技术的不断发展,对合金靶材需求量及质量要求日益提高,合金靶材的晶粒越细,成分组织越均匀,其表面粗糙度越小,通过物理气相沉积在硅片上形成的薄膜就越均匀;此外,形成的薄膜纯度与合金靶材的纯度也密切相关,故物理气相沉积后薄膜质量的好坏主要取决于合金靶材的纯度
、
密度
、
晶粒度
、
微观结构等因素
。
[0004]铁铬铝合金作为一种新型的合金靶材,由于具有低的电阻系数
、
良好的热稳定性和抗氧化性,被广泛地应用于集成电路
、
液晶显示器等行业领域,因此, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.
一种低氧含量的铁铬铝合金粉末的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:将液态铁
、
铬
、
铝分别依次进行气水联合雾化造粒
、
烘干
、
筛分得到铁粉
A、
铬粉
A、
铝粉
A
;步骤2:将铁粉
A、
铬粉
A、
铝粉
A
分别在惰性气体氛围下依次进行球磨
、
离心分离得到铁粉
B、
铬粉
B、
铝粉
B
;步骤3:将铁粉
B、
铬粉
B、
铝粉
B
在惰性气体氛围下混合得到所述低氧含量的铁铬铝合金粉末;其中,所述步骤1的气水联合雾化造粒中,气雾化采用的气体为惰性气体,水雾化采用的液体是水和微蚀剂的混合液体;所述步骤2中,铁粉
A、
铬粉
A、
铝粉
A
在惰性气体氛围下加入异丙醇或丙酮进行球磨
。2.
根据权利要求1所述的低氧含量的铁铬铝合金粉末的制备方法,其特征在于,所述混合液体中水和微蚀剂的比例为
10
:1‑
1.5
,所述微蚀剂为硫酸
/
过氧化氢微蚀剂
。3.
根据权利要求1所述的低氧含量的铁铬铝合金粉末的制备方法,其特征在于,所述步骤1的气水联合雾化造粒中,气雾化的气压为
0.1
‑
1MPa
,气体喷射方向与竖直向下方向的夹角为
30
‑
80
°
;水雾化的液体压力为
30
‑
150MPa
,水的喷射方向与竖直向下方向的夹角为
30
‑
80
°
。4.
根据权利要求1所述的低氧含量的铁铬铝合金粉末的制备方法,其特征在于,所述步骤2中,球磨的具体步骤为:将铁粉
B、
铬粉
B
或铝粉
B
和氧化锆球按质量比为
1:5
的比例加入球磨罐中,充入惰性气体并加入异丙醇进行球磨,其中球磨转速为
200
‑
500r/min
,球磨时间为
1—5h。5.
一种低氧含量的铁铬铝合金粉末,其特征在于,采用如权利要求1‑4任一所述的低氧含量的铁铬铝合金粉末的制备方法制得,所述铁铬铝合金粉末中铁
、
铬
、
铝的质量比为
94
‑
97
:2‑4:1‑
2。6.
一种铁铬铝合金靶材的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤
a
技术研发人员:顾德盛,邵学亮,李开杰,罗斯诗,张兴宇,
申请(专利权)人:先导薄膜材料广东有限公司,
类型:发明
国别省市:
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