一种陶瓷可调节均匀上釉设备制造技术

本发明专利技术公开了一种陶瓷可调节均匀上釉设备，涉及陶瓷工艺技术领域，包括：外壳，外壳的侧面固定设置有竖版，竖版上开设有滑槽，竖版上设置有两个电动伸缩杆，其中一个电动伸缩杆一端固定连接外壳，另一端旋转连接第一套筒的侧面，另一个电动伸缩杆的一端移动设置在滑槽内，另一端旋转连接第二套筒的侧面；第二套筒与第一套筒的外侧中部均固定设置有第一齿轮，第二套筒与第一套筒的侧面均开设有匹配陶瓷形状的凹槽，其中一个电动伸缩杆的下端设置有第二电机，第二电机的输出端固定连接第二齿轮，第二齿轮与第一齿轮啮合连接：解决了陶瓷表面可能存在凸起问题，会影响上釉层与陶瓷基体的结合力，导致上釉后的陶瓷易脱落的问题

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷可调节均匀上釉设备


[0001]本专利技术涉及陶瓷工艺
，具体是一种陶瓷可调节均匀上釉设备
。

技术介绍

[0002]一种陶瓷可调节均匀上釉设备是一种用于对陶瓷制品表面进行均匀涂覆釉料的设备，它具有调节涂层厚度和均匀性的能力，可以根据不同的需求和物品尺寸进行调整，这种设备通常包括一个传送系统，用于将陶瓷制品从一个位置转移到另一个位置
。
它还配备了涂覆装置，用于将釉料均匀地涂在陶瓷制品的表面上
。
[0003]目前部分上釉设备存在以下缺陷：陶瓷表面可能存在凸起问题，会影响上釉层与陶瓷基体的结合力，导致上釉后的陶瓷易脱落
。
釉液可能会沉淀在底部，上釉过程中会出现釉液浓度分布不均匀的情况，导致陶瓷表面颜色分布不均匀，出现斑点或色差
。

技术实现思路

[0004]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一
。
为此，本专利技术提出一种陶瓷可调节均匀上釉设备，解决了陶瓷表面可能存在凸起问题，会影响上釉层与陶瓷基体的结合力，导致上釉后的陶瓷易脱落的问题
。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提出一种陶瓷可调节均匀上釉设备，包括：外壳，外壳的侧面固定设置有竖版，竖版上开设有滑槽，竖版上设置有两个电动伸缩杆，其中一个电动伸缩杆一端固定连接外壳，另一端旋转连接第一套筒的侧面，另一个电动伸缩杆的一端移动设置在滑槽内，另一端旋转连接第二套筒的侧面；
[0006]第二套筒与第一套筒的外侧中部均固定设置有第一齿轮，第二套筒与第一套筒的侧面均开设有匹配陶瓷形状的凹槽，其中一个电动伸缩杆的下端设置有第二电机，第二电机的输出端固定连接第二齿轮，第二齿轮与第一齿轮啮合连接；
[0007]外壳的后方固定设置有釉液池，釉液池的侧面且靠近底部的位置固定连接有驱动装置，驱动装置的输出端贯穿釉液池的一侧且固定连接转轴，转轴的外表面固定设置有螺旋叶片，外壳的内壁固定设置有抽液泵，抽液泵上端连通出液管
。
[0008]作为本专利技术进一步的方案：竖版的侧面开设有水平方向的滑槽，两个电动伸缩杆设置在竖版靠近外壳的面
。
[0009]作为本专利技术进一步的方案：第一套筒在凹槽的两侧开设有三角形固定槽，第二套筒在凹槽的两侧固定设置有三角形内嵌块
。
[0010]作为本专利技术进一步的方案：与第一套筒相连的电动伸缩杆的下端固定连接有第二保护壳，第二电机固定设置在第二保护壳的内部，第二电机的输出端贯穿第二保护壳的底部且固定连接第二齿轮
。
[0011]作为本专利技术进一步的方案：转轴远离驱动装置的一端转动设置有衔接块，衔接块固定连接在外壳的内壁
。
[0012]作为本专利技术进一步的方案：外壳的下端固定设置有第一保护壳，第一保护壳的内
部固定设置有第一电机，第一电机的输出轴贯穿第一保护壳的顶部且与外壳的底部固定连接
。
[0013]作为本专利技术进一步的方案：外壳的内部顶端固定连接有上固定块，上固定块下端转动设置有丝杆，丝杆上螺纹连接有滑块，丝杆的下端转动设置有下固定块，下固定块的下端固定连接外壳的内部底端
。
[0014]作为本专利技术进一步的方案：滑块的侧面固定连接有连接柱，连接柱贯穿外壳的一侧且固定连接
L
形支撑板
。
[0015]作为本专利技术进一步的方案：
L
形支撑板远离连接柱的面固定连接有连接片，连接片的上端中部位置固定设置有气缸，气缸的输出端贯穿连接片且固定连接横板，横板的下端对称固定连接有支柱，支柱的底部固定连接有橡胶垫块
。
[0016]作为本专利技术进一步的方案：
L
形支撑板对应橡胶垫块的面对称固定设置有限位块，限位块的形状与陶瓷的开口部位适配
。
[0017]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0018](1)
通过设置第二套筒
、
第一套筒，陶瓷嵌入第一套筒与第二套筒的凹槽，第二套筒与第一套筒合成一体，通过旋转第二套筒与第一套筒，第二套筒与第一套筒一起配合对陶瓷的表面进行打磨，打磨可以去除陶瓷表面的凸起，使得釉料在上釉过程中更加均匀地分布在陶瓷表面，避免出现釉料厚薄不一的问题
。
[0019](2)
通过设置在转轴的外表面设置螺旋叶片，驱动装置的输出端带动转轴外表面的螺旋叶片旋转，对釉液池底部的釉液进行搅拌，避免釉液中的成分沉淀或分层，抽液泵将底部充分搅拌后的釉液通过出液管输出到釉液池上端，以保持整个釉液池中的釉液的均匀性和稳定性，使釉液达到均匀的浓度和质地，确保在涂覆陶瓷表面时能够获得均一的釉层效果
。
附图说明
[0020]图1为本专利技术的结构示意图；
[0021]图2为本专利技术的外壳与部分结构的侧视图；
[0022]图3为本专利技术的竖版与第二套筒
、
第一套筒的结构图；
[0023]图4为本专利技术的第二保护壳的剖视图；
[0024]图5为本专利技术的釉液池的内部剖视图
。
[0025]图中：
1、
外壳；
2、
第一保护壳；
3、
竖版；
4、
釉液池；
5、
第一电机；
6、
上固定块；
7、
丝杆；
8、
滑块；
9、
下固定块；
10、
连接柱；
11、L
形支撑板；
12、
限位块；
13、
连接片；
14、
气缸；
15、
橡胶垫块；
16、
电动伸缩杆；
17、
第一套筒；
18、
第二套筒；
19、
第一齿轮；
20、
第二保护壳；
21、
第二电机；
22、
第二齿轮；
23、
抽液泵；
24、
出液管；
25、
转轴；
26、
衔接块
。
具体实施方式
[0026]下面将结合实施例对本专利技术的技术方案进行清楚
、
完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例
。
基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围
。
[0027]如图1‑5所示，一种陶瓷可调节均匀上釉设备，包括：外壳1，外壳1的下端固定设置有第一保护壳2，第一保护壳2的内部固定设置有第一电机5，第一电机5的输出轴贯穿第一保护壳2的顶部且与外壳1的底部固定连接
。
[0028]如图2所示，外壳1的内部顶端固定连接有上固定块6，上固定块6下端转动设置有丝杆本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种陶瓷可调节均匀上釉设备，包括：外壳
(1)
，其特征在于，外壳
(1)
的侧面固定设置有竖版
(3)
，竖版
(3)
上开设有滑槽，竖版
(3)
上设置有两个电动伸缩杆
(16)
，其中一个电动伸缩杆
(16)
一端固定连接外壳
(1)
，另一端旋转连接第一套筒
(17)
的侧面，另一个电动伸缩杆
(16)
的一端移动设置在滑槽内，另一端旋转连接第二套筒
(18)
的侧面；第二套筒
(18)
与第一套筒
(17)
的外侧中部均固定设置有第一齿轮
(19)
，第二套筒
(18)
与第一套筒
(17)
的侧面均开设有匹配陶瓷形状的凹槽，其中一个电动伸缩杆
(16)
的下端设置有第二电机
(21)
，第二电机
(21)
的输出端固定连接第二齿轮
(22)
，第二齿轮
(22)
与第一齿轮
(19)
啮合连接；外壳
(1)
的后方固定设置有釉液池
(4)
，釉液池
(4)
的侧面且靠近底部的位置固定连接有驱动装置，驱动装置的输出端贯穿釉液池
(4)
的一侧且固定连接转轴
(25)
，转轴
(25)
的外表面固定设置有螺旋叶片，外壳
(1)
的内壁固定设置有抽液泵
(23)
，抽液泵
(23)
上端连通出液管
(24)。2.
根据权利要求1所述的一种陶瓷可调节均匀上釉设备，其特征在于，竖版
(3)
的侧面开设有水平方向的滑槽，两个电动伸缩杆
(16)
设置在竖版
(3)
靠近外壳
(1)
的面
。3.
根据权利要求1所述的一种陶瓷可调节均匀上釉设备，其特征在于，第一套筒
(17)
在凹槽的两侧开设有三角形固定槽，第二套筒
(18)
在凹槽的两侧固定设置有三角形内嵌块
。4.
根据权利要求1所述的一种陶瓷可调节均匀上釉设备，其特征在于，与第一套筒
(17)
相连的电动伸缩杆
(16)
的下端固定连接有第二保护壳
(20)
，第二电机
(21)
固定设置在第二保护壳
(20)
的内部，第二电机
(...

【专利技术属性】
技术研发人员：全春辉，黎军，
申请(专利权)人：高安常莹新型材料有限公司，
类型：发明
国别省市：