一种研磨装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种研磨装置，用于研磨石墨坩埚，其包括支撑座

【技术实现步骤摘要】
一种研磨装置


[0001]本技术涉及碳化硅生产
，特别涉及一种研磨装置
。

技术介绍

[0002]碳化硅作为第三代宽禁带半导体材料，具有高热导率
、
高击穿电场
、
高抗辐射能力等特点
。
由于
4H
‑
SiC
在诸多晶型中具有更优异的电学性能，满足当今科技发展对高功率和抗辐射器件等衬底材料的需求
。
目前工业上生产碳化硅单晶的生长方法主要为物理气相传输法
(Physical Vapor Transport,
简称
PVT)。
[0003]在基于物理气相传输法的碳化硅生长过程中，石墨坩埚的质量直接决定晶体的生长质量
。
由于
PVT
长晶方法对于石墨坩埚有精确的尺寸要求，而石墨件的生产尺寸会有一定误差，因此需要根据长晶炉要求对石墨坩埚进行打磨，目前石墨坩埚的整形多采用手动打磨的方式，而手动打磨往往难以满足平整度要求，需要不断返工，极大地浪费了人力和物力，降低生产效率
。

技术实现思路

[0004]本技术提供一种研磨装置，能够节省人力，提高生产效率
。
[0005]本技术提供一种研磨装置，用于研磨石墨坩埚，包括支撑座
、
旋转组件
、
升降组件及吸附组件；
[0006]所述旋转组件设置于所述支撑座的上表面，用于带动石墨坩埚绕竖向旋转；
[0007]所述升降组件设置于所述支撑座的上表面，并连接于所述吸附组件，用于带动所述吸附组件升降；
[0008]所述吸附组件用于吸附研磨片，与所述旋转组件相对设置，其包括吸附座及吸盘，所述吸附座与所述升降组件连接，所述吸盘设置在所述吸附座的朝向旋转组件的一侧；所述吸盘具有一朝向所述旋转组件的吸附面，所述吸附面上设置有多个吸附孔，所述吸附座的背离所述吸盘的一侧设置有负压接口，所述负压接口连通至多个所述吸附孔，所述负压接口用于连接负压机，以在所述吸附孔内形成负压，进而使得研磨片吸附在所述吸附面上
。
[0009]其中，所述旋转组件包括旋转座及旋转电机，所述旋转座转动连接于所述支撑座，所述旋转座上设置有用于固定石墨坩埚的紧固器；所述旋转电机固定于支撑座，并传动连接于所述旋转座，以带动所述旋转座转动
。
[0010]其中，所述升降组件位于所述旋转组件的一侧处，所述研磨装置还包括悬臂，所述悬臂的一端与所述升降组件连接，另一端与所述吸附座的顶部中心位置固定连接
。
[0011]其中，所述支撑座包括固定连接的底座及立柱，所述旋转组件设置在所述底座上，所述立柱竖直固定在所述底座上，所述升降组件的底端与所述底座固定连接，所述升降组件的侧面与所述立柱固定连接
。
[0012]其中，所述吸盘为平直的板状结构，所述吸附面为平直面
。
[0013]其中，所述吸盘上设置有多个调节顶丝，多个所述调节顶丝沿所述吸盘的周边排
布，所述调节顶丝螺纹连接于所述吸盘，并抵接于所述吸附座，用于调节所述吸盘
。
[0014]其中，所述吸盘与所述吸附座之间设置有密封圈，所述密封圈环绕在所述吸盘的所有吸附孔四周
。
[0015]其中，多个所述调节顶丝均匀环绕在所述吸盘的所有吸附孔四周
。
[0016]其中，所述吸附座的朝向所述吸盘的一侧为平面状
。
[0017]其中，所述研磨装置还包括除尘组件，所述除尘组件包括固定环及接口管，所述固定环套设在所述吸附座外，所述固定环的内壁与所述吸附座的外壁相接；
[0018]所述固定环的内壁上设置有主槽及多个子槽，所述主槽为沿所述固定环周向设置的环形，且位于多个所述子槽的上方，多个所述子槽沿固定环的周向排布，各所述子槽的顶端连通至所述主槽
、
底端连通至所述吸附座的底部空间；
[0019]所述接口管连通至所述主槽，且通过过滤模块连通至吸风机
。
[0020]本技术提供的研磨装置，通过吸盘的多个吸附孔中的负压，可以将研磨片吸附在吸盘的吸附面上，实现研磨片的固定，安装简单快捷；研磨片在升降组件的带动下沿竖向移动，从而可以靠近或远离旋转组件上的石墨坩埚移动
。
当研磨片与石墨坩埚相接触时，旋转组件驱动石墨坩埚进行旋转，从而可以对石墨坩埚的表面进行研磨，可以提高了研磨表面与石墨坩埚底部的平行度，能够有效节省人力，提供生产效率
。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍，下面描述中的附图仅为本技术的部分实施例相应的附图
。
[0022]图1是本技术第一实施例提供的研磨装置的结构示意图；
[0023]图2是图1研磨装置的俯视图；
[0024]图3是图1中研磨装置的吸附组件的结构示意图；
[0025]图4是图1中的
G
处放大图；
[0026]图5是本技术第二实施例提供的吸附组件与除尘组件的分解示意图
。
具体实施方式
[0027]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚
、
完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例
。
基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围
。
[0028]本技术中所提到的方向用语，例如
「
内
」、「
外
」
等词，仅是参考附图的方位，使用的方向用语是用以说明及理解本技术，而非用以限制本技术
。
[0029]本技术术语中的“第一”“第二”等词仅作为描述目的，而不能理解为指示或暗示相对的重要性，以及不作为对先后顺序的限制
。
[0030]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个
元件内部的连通或两个元件的相互作用关系
。
对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义
。
[0031]请参见图1至图2，本技术第一实施例提供的一种研磨装置，用于研磨石墨坩埚
90
，以使得石墨坩埚
90
的待研磨面平整，进而能够生长出质量更好的晶体
。
研磨装置包括支撑座
1、
旋转组件
2、
升降组本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种研磨装置，用于研磨石墨坩埚，其特征在于，包括支撑座
、
旋转组件
、
升降组件及吸附组件；所述旋转组件设置于所述支撑座的上表面，用于带动石墨坩埚绕竖向旋转；所述升降组件设置于所述支撑座的上表面，并连接于所述吸附组件，用于带动所述吸附组件升降；所述吸附组件用于吸附研磨片，与所述旋转组件相对设置，其包括吸附座及吸盘，所述吸附座与所述升降组件连接，所述吸盘设置在所述吸附座的朝向旋转组件的一侧；所述吸盘具有一朝向所述旋转组件的吸附面，所述吸附面上设置有多个吸附孔，所述吸附座的背离所述吸盘的一侧设置有负压接口，所述负压接口连通至多个所述吸附孔，所述负压接口用于连接负压机，以在所述吸附孔内形成负压，进而使得研磨片吸附在所述吸附面上
。2.
根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述旋转组件包括旋转座及旋转电机，所述旋转座转动连接于所述支撑座，所述旋转座上设置有用于固定石墨坩埚的紧固器；所述旋转电机固定于支撑座，并传动连接于所述旋转座，以带动所述旋转座转动
。3.
根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述升降组件位于所述旋转组件的一侧处，所述研磨装置还包括悬臂，所述悬臂的一端与所述升降组件连接，另一端与所述吸附座的顶部中心位置固定连接
。4.
根据权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，所述支撑座包括固定连接的底座及立柱，所述旋转组件设置在所述底座上，所述立柱竖直固定在所述底座上，所述升...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘鸿吉，李豪，温健宏，
申请(专利权)人：深圳腾睿微电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：