一种电子级四氟化碳分析方法技术

本发明专利技术提出了一种电子级四氟化碳分析方法，所述方法包括如下步骤：在气路中设置两个十通阀和两个四通阀；其中

【技术实现步骤摘要】
一种电子级四氟化碳分析方法


[0001]本专利技术属于四氟化碳分析领域，特别涉及一种电子级四氟化碳分析方法
。

技术介绍

[0002]目前，四氟化碳是一种无色无味的气体，目前大量用于微电子工业，其高纯气体广泛应用于硅
、
二氧化硅
、
及钨薄膜材料的蚀刻
。
其现有的生产方法主要为电解法，在电解生产的粗制三氟化氮气体中含有诸多杂质气体，其中
NF3
因物性与
CF4
相近，在色谱柱上很难分离，因此用气相色谱法分析较为困难
。
[0003]现有技术分析四氟化碳中三氟化氮的方法：以氦气作为载气，
HaysepQ
填充柱作为预分离柱，
HaysepR
填充柱作为分离柱，通过氦离子化检测器进行分析
。
该方案的缺点是：
[0004]其一
、
三氟化氮和四氟化碳组分分离不好，在色谱图上三氟化氮和四氟化碳不能完全分离，定量不准；
[0005]其二
、
现有方案本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种电子级四氟化碳分析方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：在气路中设置两个十通阀和两个四通阀；其中
V1
阀
、V2
阀
、V3
和
V4
阀依次串联，并形成回路；将样品吹扫定量换，
V2
阀载气3携带定量换中样品经过预柱一预分离；杂质在色谱柱中先吸附后脱附，根据先后流出顺序不同，确定保留时间，
CF4
之前的杂质通过预柱连接分析柱到检测器检测分析，在底气
(CF4)
从预柱流出前切花
V1 CCW
‑
CW
放空主组分，在
CF4
后面的杂质即将从预柱流出前
V1
阀
CW
切换回
CCW
连接柱一分析其余杂质；
V3
阀载气5携带定量换中样品经过预柱二预分离，待
CF4
前所有组分从预柱流出后
V3
阀由
CCW
‑
CW
反吹主组分
。2.
如权利要求1所述的一种电子级四氟化碳分析方法，其特征在于：所述气路采用四阀四柱双反吹及切割气路，通过两个十通阀和两个四通阀组成，通过四阀四柱双反吹及切割气路进行反吹和切割
。3.
如权利要求1所述的一种电子级四氟化碳分析方法，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄秀荣，李贺楠，
申请(专利权)人：北京高麦克仪器科技有限公司，
类型：发明
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