一种可调节废气排放流量的热板上盖制造技术

本实用新型专利技术公开了一种可调节废气排放流量的热板上盖，包括一上盖本体，罩设在待烘烤晶圆上方并形成晶圆烘烤气腔；晶圆烘烤气腔上连接有排气机构，排气机构包括流量调节组件，流量调节组件包括一具有腔体的连接块和调节阀，腔体具有第一气口和第二气口；调节阀包括一置于腔体内的旋转体，旋转体内设置有排气导气通道，排气导气通道具有第一端和第二端，第二端与第二气口连通且始终保持全连通；第一端与第一气口连通，且旋转体旋转，改变第一端与第一气口连通面积；本实用新型专利技术的热板上盖，解决背景技术中的废气排放不能按需调节的问题，同时设计的调节机构结构简单，操作方便，成本低

【技术实现步骤摘要】
一种可调节废气排放流量的热板上盖


[0001]本技术属于半导体硅片涂胶显影设备
，更具体的说涉及一种可调节废气排放流量的热板上盖
。

技术介绍

[0002]涂胶显影工序中，在粘合剂涂层
、
涂胶工艺
、
显影工艺后需要热板对晶圆进行加热，这些加热工艺包含一个共同的目的，将晶圆表面的化学试剂蒸发
。
在晶圆加热过程中，由于挥发出的化学物质会对热板腔体进行腐蚀，影响其机械性能，因此需要通过排气装置将化学物质排出热板腔体
。
[0003]现有技术中排气装置为气泵通过排气管路与加热腔体连通，当需要排废时，打开气泵，通过抽气的方式，将化学物质排出加热腔体
。
其中，气泵的流量大都固定，不能调节
。
如专利
CN218385127U
公开了一种加热装置，其排气部分就是固定排气
。
[0004]现有技术中提出的这种排气方式和装置，在排出废气工作刚开始时，排废效果较好，但在排废工作后期，晶圆表面挥发出的化学物质不多，不需要大流量的排废，而大流量的排废会过多的带走加热腔体内的热量，会使加热腔体内的温度变化较大，不宜控制加热腔体内的温度，从而导致晶圆加工良品率低
。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种可调节废气排放流量的热板上盖，解决
技术介绍
中提出的废气排放不能按需调节的问题，同时不但实现废气按需调节，且设计的调节机构结构简单，操作方便，成本低
、/>易于安装和加工
。
[0006]本技术技术方案一种可调节废气排放流量的热板上盖，包括：
[0007]一上盖本体，呈罩状，罩设在待烘烤晶圆上方并形成晶圆烘烤气腔；
[0008]一进气机构，与所述晶圆烘烤气腔连通；
[0009]一排气机构，与所述晶圆烘烤气腔连通，包括：
[0010]一流量调节组件，所述流量调节组件包括一具有腔体的连接块和置于所述腔体内的调节阀，所述腔体具有第一气口和第二气口；所述调节阀包括一旋转体，所述旋转体内设置有排气导气通道，所述排气导气通道具有第一端和第二端，所述第二端与所述第二气口连通且始终保持全连通；所述第一端与所述第一气口连通，且旋转体旋转，改变所述第一端与所述第一气口连通面积；
[0011]一第一排气管，一端与所述晶圆烘烤气腔连通，另一端连通所述第一气口或所述第二气口；
[0012]一第二排气管，与第一气口和第二气口中未与所述第一排气管连通的气口连通
。
[0013]优选地，所述腔体为一两端均贯穿所述连接块的圆柱管孔；所述圆柱管孔一端为第二气口；所述旋转体呈圆柱状，且外径与所述圆柱管孔内径相适应，并由所述圆柱管孔另一端穿入且所述第二端朝向所述第二气口；
[0014]所述第一气口设置于所述圆柱管孔侧壁上，且所述第一端朝向所述第一气口；旋转体绕自身轴线旋转；所述第一端沿所述第一气口径向偏移，改变第一气口通过废气的有效面积
。
[0015]优选地，所述圆柱管孔包括依次连接的第一圆柱管孔
、
第二圆柱管孔和第三圆柱管孔，所述第二圆柱管孔内径小于所述第一圆柱管孔内径；所述第一气口设置在所述第一圆柱管孔侧壁上，所述第三圆柱管孔远离第二圆柱管孔的端部为第二气口；所述旋转体与所述第一圆柱管孔内径相适应并呈同轴状设置于所述第一圆柱管孔内，且所述第二端与所述第二圆柱管孔远离第三圆柱管孔端接触
。
[0016]优选地，所述第一气口上连接有连接管孔，所述连接管孔直径与第一排气管外径相适应且远离所述第一气口端延伸至所述连接块外壁上并连通所述第一排气管；所述第二排气管外径与所述第三圆柱管孔直径相适应且所述第二排气管插入所述第三圆柱管孔并与所述第二圆柱管孔连通
。
[0017]优选地，所述旋转体远离所述第二圆柱管孔端固接有旋转手柄，且所述旋转手柄位于所述连接块外部，所述连接块朝向所述旋转手柄的侧面上设置有流量刻度；所述连接块安装于所述上盖本体上
。
[0018]优选地，所述上盖本体包括：
[0019]一下层挡板，所述下层挡板呈环状，具有一中心容置区；
[0020]一下层盖板，置于所述下层挡板上方，且具有一朝向并连通所述中心容置区的第一气腔，所述第一气腔与所述中心容置区形成所述晶圆烘烤气腔，所述第一排气管与所述第一气腔连通；所述下层盖板边沿搭接在所述下层挡板上并形成有连通所述第一气腔的进气导气通道；
[0021]一上层盖板，与所述下层挡板固定安装并与所述下层盖板之间形成第二气腔，所述第二气腔通过所述进气导气通道与所述第一气腔连通；所述进气机构与所述第二气腔连通
。
[0022]优选地，所述下层盖板中线位置连接有中心排气管，所述中心排气管与所述第一气腔连通且顶端穿出所述上层盖板并封闭，所述第一排气管由所述中心排气管穿出所述上层盖板部分位置连通所述中心排气管
。
[0023]优选地，所述上层盖板朝向所述下层挡板的侧面密封连接有中间隔环，所述中间隔环底面与所述下层挡板密封连接，所述上层盖板
、
所述中间隔环和所述下层盖板形成所述第二气腔；所述中间隔环内径大于所述下层盖板外径，所述第二气腔与所述进气导气通道连通
。
[0024]优选地，所述下层挡板上固设有若干支撑垫圈，所述下层盖板上设置有若干与所述支撑垫圈相适应的连接孔，所述支撑垫圈顶部插入所述连接孔内并支撑所述下层盖板
。
[0025]优选地，所述进气机构包括均布设置在所述上层盖板上的若干进气孔，所述进气孔呈圆形分布状设置，且均位于中心排气管外侧
。
[0026]本技术技术方案一种可调节废气排放流量的热板上盖的有益效果是：
[0027]1、
通过设置流量调节组件，对排废气流量进行实时按需调节
。
同时，通过旋转体旋转改变第一气口通过废气的有效面积，实现流量调节组件结构简单，安装方便，调节方便快捷，运维成本低
。
[0028]2、
上盖本体结构的设计，结构简单，进气均匀，排气方便
。
附图说明
[0029]图1为本技术方案一种可调节废气排放流量的热板上盖结构示意图
。
[0030]图2为本技术方案一种可调节废气排放流量的热板上盖的仰视状态图
。
[0031]图3为本技术方案一种可调节废气排放流量的热板上盖的俯视图
。
[0032]图4为图3中
A
‑
A
向剖视图
。
[0033]图5为本技术技术方案中的排气机构结构示意图
。
[0034]图6为图5的爆炸图
。
[0035]图7为图6的透视图
。
具体实施方式
[0036]为便于本领域技术人员理解本实用新本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种可调节废气排放流量的热板上盖，其特征在于，包括：一上盖本体，呈罩状，罩设在待烘烤晶圆上方并形成晶圆烘烤气腔；一进气机构，与所述晶圆烘烤气腔连通；一排气机构，与所述晶圆烘烤气腔连通，包括：一流量调节组件，所述流量调节组件包括一具有腔体的连接块和置于所述腔体内的调节阀，所述腔体具有第一气口和第二气口；所述调节阀包括一旋转体，所述旋转体内设置有排气导气通道，所述排气导气通道具有第一端和第二端，所述第二端与所述第二气口连通且始终保持全连通；所述第一端与所述第一气口连通，且旋转体旋转，改变所述第一端与所述第一气口连通面积；一第一排气管，一端与所述晶圆烘烤气腔连通，另一端连通所述第一气口或所述第二气口；一第二排气管，与第一气口和第二气口中未与所述第一排气管连通的气口连通
。2.
根据权利要求1所述的一种可调节废气排放流量的热板上盖，其特征在于，所述腔体为一两端均贯穿所述连接块的圆柱管孔；所述圆柱管孔一端为第二气口；所述旋转体呈圆柱状，且外径与所述圆柱管孔内径相适应，并由所述圆柱管孔另一端穿入且所述第二端朝向所述第二气口；所述第一气口设置于所述圆柱管孔侧壁上，且所述第一端朝向所述第一气口；旋转体绕自身轴线旋转；所述第一端沿所述第一气口径向偏移，改变第一气口通过废气的有效面积
。3.
根据权利要求2所述的一种可调节废气排放流量的热板上盖，其特征在于，所述圆柱管孔包括依次连接的第一圆柱管孔
、
第二圆柱管孔和第三圆柱管孔，所述第二圆柱管孔内径小于所述第一圆柱管孔内径；所述第一气口设置在所述第一圆柱管孔侧壁上，所述第三圆柱管孔远离第二圆柱管孔的端部为第二气口；所述旋转体与所述第一圆柱管孔内径相适应并呈同轴状设置于所述第一圆柱管孔内，且所述第二端与所述第二圆柱管孔远离第三圆柱管孔端接触
。4.
根据权利要求3所述的一种可调节废气排放流量的热板上盖，其特征在于，所述第一气口上连接有连接管孔，所述连接管孔直径与第一排气管外径相适应且远离所述第一气口端延伸至所述连接块外壁上并连通所述第一排气管；所述第二排气管外径与所述第三圆柱管孔直径相适应且所述第二排气管插入所述第三圆柱管孔并与所述第二圆柱管孔连通

【专利技术属性】
技术研发人员：李存富，徐政伟，
申请(专利权)人：合肥开悦半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：