本实用新型专利技术公开了一种用于清洁有机物的UV清洁装置，其包括清理箱，所述清理箱的内侧活动卡合设有输送带，所述清理箱上磁性卡合设有清理机构，所述输送带上安置设有镀膜基板；所述清理机构包括UV设备，所述UV设备的一侧设有清扫设备，所述清扫设备的一侧设有冲刷设备，所述冲刷设备的一侧设有擦拭设备。本实用新型专利技术首先通过UV设备通过紫外线首先对镀膜基板进行照射，使得镀膜基板上的有机物能够更好的被分解，随后通过清扫设备进行扫动，扫动同时通过风机将清扫后的微小杂物颗粒进行吹动，随后通过高压冲刷设备再次进行冲刷清洗，随后进行擦拭，多种方式清洁，清洁效果好，且一体化清洁，清洁效率高。清洁效率高。清洁效率高。
【技术实现步骤摘要】
一种用于清洁有机物的UV清洁装置
[0001]本技术涉及清洁设备
，特别是涉及了一种用于清洁有机物的UV清洁装置。
技术介绍
[0002]在电子行业，溅射镀膜因镀膜膜层的均匀性、可控性以及可适用镀膜材料范围广被各个半导体行业广泛使用，为此，镀膜膜层在基板上的附着力变得尤为重要，其膜层附着力的强弱会直接影响产品的质量，目前，一般在镀膜前使用DIW、药液、毛刷或者二流体进行玻璃基板的清洗，其对微尘固体等小颗粒具有良好的清洁效果，而对基板表面的有机物处理能力较弱，残留的有机物会影响镀膜膜层的附着力，进而影响产品的功能和长期使用的稳定性。
[0003]如公开号为(CN213924995U)公开了一种镀膜装置，包括镀膜室，镀膜室内设有镀膜辊和位于镀膜辊下方的若干个磁控溅射靶，镀膜室内还设有清洁机构，清洁机构包括毛刷辊、刮刀、第一清洁辊和第二清洁辊，毛刷辊设置在镀膜辊上方并与镀膜辊接触，毛刷辊的一侧设有刮刀及第一清洁辊，所述毛刷辊的另一侧设有所述第二清洁辊，所述刮刀的刀锋贴近所述镀膜辊设置，所述第一清洁辊和第二清洁辊上均套设有硅胶粘层，该方案具有能够清洁镀膜辊表面的清洁机构，能够有效地提高镀膜质量；可由现有的镀膜装置改造获得，推广应用成本低。
[0004]然而，本专利技术人具体实施此装置时，发现存在以下缺陷：该方案对镀膜辊的清理方式与常规对镀膜基板的清理方式一致，在通过该方法清理后，镀膜辊或镀膜基板上依然会存在部分有机物无法清除干净的情况，清洁效果不理想，因此需要一种清理效果好、清理效率高的UV清洁装置。<br/>
技术实现思路
[0005]基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种用于清洁有机物的UV清洁装置，在对镀膜用的基板进行清理时，通过输送带对基板进行自动输送，通过设置的清理箱与清理机构对移动的基板进行自动清洁，清洁效率高，清理机构内设置有清扫设备、冲刷设备与擦拭设备等对基板上的微尘固定等微小颗粒进行清洁，在此之前，通过设置的UV设备对基板进行照射，UV紫外线对有机物具有良好的清洁分解能力，照射后再进行清扫、冲刷等清理方式，使得清理效果好。
[0006]为了解决上述技术问题，本技术采用了如下的技术方案：
[0007]一种用于清洁有机物的UV清洁装置，其应用于清洁设备，其包括清理箱，所述清理箱的内侧活动卡合设有输送带，所述清理箱上磁性卡合设有清理机构，所述输送带上安置设有镀膜基板；所述清理机构包括UV设备，所述UV设备磁性卡合在清理箱的顶面，所述UV设备的一侧设有清扫设备，所述清扫设备磁性卡合在清理箱的顶面，所述清扫设备的一侧设有冲刷设备，所述冲刷设备磁性卡合在清理箱的顶面，所述冲刷设备的一侧设有擦拭设备，
所述擦拭设备磁性卡合在清理箱的顶面。
[0008]作为本技术提供的用于清洁有机物的UV清洁装置的一种优选实施方式，所述清理箱的内侧开设有一号清理仓，所述UV设备磁性卡合在一号清理仓的顶面，所述一号清理仓的一侧贯通连接设有二号清理仓，所述一号清理仓的侧壁上开设有移动口，所述移动口依次贯穿一号清理仓与二号清理仓，所述二号清理仓的侧壁上贯通连接设有排液管。
[0009]作为本技术提供的用于清洁有机物的UV清洁装置的一种优选实施方式，所述一号清理仓的顶面开设有一号磁性卡槽，所述UV设备磁性卡合在一号磁性卡槽的内侧。
[0010]作为本技术提供的用于清洁有机物的UV清洁装置的一种优选实施方式，所述二号清理仓的顶面开设有二号磁性卡槽，所述清扫设备磁性卡合在二号磁性卡槽的内侧，所述二号磁性卡槽的一侧开设有三号磁性卡槽，所述冲刷设备磁性卡合在三号磁性卡槽的内侧，所述三号磁性卡槽的一侧开设有四号磁性卡槽，所述擦拭设备磁性卡合在四号磁性卡槽的内侧。
[0011]作为本技术提供的用于清洁有机物的UV清洁装置的一种优选实施方式，所述UV设备包括一号磁性卡板，所述一号磁性卡板磁性卡合在一号磁性卡槽的内侧，所述一号磁性卡板的底面固定设有UV照射灯，所述UV照射灯电性连接外部控制设备。
[0012]作为本技术提供的用于清洁有机物的UV清洁装置的一种优选实施方式，所述清扫设备包括二号磁性卡板，所述二号磁性卡板磁性卡合在二号磁性卡槽的内侧，所述二号磁性卡板上固定设有风机，所述风机的下端外侧固定设有导风筒，所述导风筒的底面固定设有刷头。
[0013]作为本技术提供的用于清洁有机物的UV清洁装置的一种优选实施方式，所述冲刷设备包括储液筒，所述储液筒的下端外侧固定设有三号磁性卡板，所述三号磁性卡板磁性卡合在三号磁性卡槽的内侧，所述三号磁性卡板的底面贯通连接设有水泵，所述水泵的底面贯通连接设有高压喷头，所述高压喷头的底面贯通连接设有喷液板。
[0014]作为本技术提供的用于清洁有机物的UV清洁装置的一种优选实施方式，所述擦拭设备包括四号磁性卡板，所述四号磁性卡板磁性卡合在四号磁性卡槽的内侧，所述四号磁性卡板的底面固定设有支撑杆，所述支撑杆的下端套接设有吸水棉筒。
[0015]作为本技术提供的用于清洁有机物的UV清洁装置的一种优选实施方式，所述输送带上固定设有限位条，所述镀膜基板位于限位条的内侧。
[0016]作为本技术提供的用于清洁有机物的UV清洁装置的一种优选实施方式，所述限位条为镂空状。
[0017]与现有技术相比，本技术有以下有益效果：
[0018]本技术在使用时通过设置的输送带、清理箱与清理机构，通过输送带对镀膜基板进行输送，使其自动通过清理箱的内侧，通过外部控制设备启动清理机构，使其自动对移动的镀膜基板进行清洁操作，提高清理效率；
[0019]且通过设置的UV设备、清扫设备、冲刷设备与擦拭设备，首先通过UV设备通过紫外线首先对镀膜基板进行照射，使得镀膜基板上的有机物能够更好的被分解，随后通过清扫设备进行扫动，扫动同时通过风机将清扫后的微小杂物颗粒进行吹动，随后通过高压冲刷设备再次进行冲刷清洗，随后进行擦拭，多种方式清洁，清洁效果好，且一体化清洁，清洁效率高。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本技术中的方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一个简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]图1为本技术提供的整体结构示意图；
[0022]图2为本技术的立体剖视图；
[0023]图3为本技术的图2中A处的放大示意图。
[0024]图中标记说明如下：
[0025]1、清理箱；11、一号清理仓；111、一号磁性卡槽；12、二号清理仓；121、二号磁性卡槽；122、三号磁性卡槽；123、四号磁性卡槽；13、移动口；14、排液管；
[0026]2、输送带；21、限位条；
[0027]3、清理机构；31、UV设备；311、一号磁性卡板；312、UV照射灯；32、清扫设备；321、二号磁本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于清洁有机物的UV清洁装置，其特征在于，其包括清理箱(1)，所述清理箱(1)的内侧活动卡合设有输送带(2)，所述清理箱(1)上磁性卡合设有清理机构(3)，所述输送带(2)上安置设有镀膜基板(4)；所述清理机构(3)包括UV设备(31)，所述UV设备(31)磁性卡合在清理箱(1)的顶面，所述UV设备(31)的一侧设有清扫设备(32)，所述清扫设备(32)磁性卡合在清理箱(1)的顶面，所述清扫设备(32)的一侧设有冲刷设备(33)，所述冲刷设备(33)磁性卡合在清理箱(1)的顶面，所述冲刷设备(33)的一侧设有擦拭设备(34)，所述擦拭设备(34)磁性卡合在清理箱(1)的顶面。2.根据权利要求1所述的用于清洁有机物的UV清洁装置，其特征在于，所述清理箱(1)的内侧开设有一号清理仓(11)，所述UV设备(31)磁性卡合在一号清理仓(11)的顶面，所述一号清理仓(11)的一侧贯通连接设有二号清理仓(12)，所述一号清理仓(11)的侧壁上开设有移动口(13)，所述移动口(13)依次贯穿一号清理仓(11)与二号清理仓(12)，所述二号清理仓(12)的侧壁上贯通连接设有排液管(14)。3.根据权利要求2所述的用于清洁有机物的UV清洁装置，其特征在于，所述一号清理仓(11)的顶面开设有一号磁性卡槽(111)，所述UV设备(31)磁性卡合在一号磁性卡槽(111)的内侧。4.根据权利要求2所述的用于清洁有机物的UV清洁装置，其特征在于，所述二号清理仓(12)的顶面开设有二号磁性卡槽(121)，所述清扫设备(32)磁性卡合在二号磁性卡槽(121)的内侧，所述二号磁性卡槽(121)的一侧开设有三号磁性卡槽(122)，所述冲刷设备(33)磁性卡合在三号磁性卡槽(122)的内侧，所述三号磁性卡槽(122)的一侧开设有四号磁性卡槽(123)，所述擦拭设备(34)磁性卡合在四号磁性卡槽(123)的内...
【专利技术属性】
技术研发人员：张杰，田华琦，余德广，曾一鑫，
申请(专利权)人：信利光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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