【技术实现步骤摘要】
半导体二极管加工设备
[0001]本技术涉及二极管加工
,尤其涉及一种半导体二极管加工设备。
技术介绍
[0002]半导体二极管是指利用半导体特性的两端电子器件。最常见的半导体二极管是PN结型二极管和金属半导体接触二极管。它们的共同特点是伏安特性的不对称性,即电流沿其一个方向呈现良好的导电性,而在相反方向呈现高阻特性。可用作为整流、检波、稳压、恒流、变容、开关、发光及光电转换,在二极管加工过程中需要对其进行酸洗。现有的二极管的生产工艺中,酸洗装置一般包括酸洗盘和酸洗槽,酸洗盘设置于酸洗槽上,酸洗盘上设置有漏酸孔,将洗涤二极管表面的酸液流入到酸洗槽中,经过处理后,能够回收利用。
[0003]但是,在上述装置进行酸洗加工时,酸性溶液自身挥发、以及加工过程中产生的刺鼻气体会扩散至车间中,易污染车间空气环境。
技术实现思路
[0004]本技术的目的是提供一种半导体二极管加工设备,该半导体二极管加工设备在减少酸性溶液挥发的基础上,还净化了装置周围的空气,从而改善了空气质量,降低了刺鼻气体对空气环境的影响。 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体二极管加工设备,包括:酸性溶液仓(1),其特征在于:在所述酸性溶液仓(1)的外壁上安装有一电动伸缩杆(2),此电动伸缩杆(2)的活动端与一位于酸性溶液仓(1)上方的密封顶板(3)固定连接,该密封顶板(3)的底部连接有一用于装载有半导体二极管的网框(4),在所述密封顶板(3)顶部设置有一空气净化机构(5);所述空气净化机构(5)进一步包括空心筒(6)、滤网(8)、吸风机(10)以及吸附净化单元(13),所述空心筒(6)的周向外壁开设有若干个通孔(7),在此空心筒(6)的内部且位于其中央位置设置有一内筒(9),该内筒(9)内部设置有一吸风机(10),位于此吸风机(10)的下方且在内筒(9)的周向外壁上开设有若干个进风口(11),所述滤网(8)位于此内筒(9)与空心筒(6)的内壁之间,在所述空心筒(6)的顶部设置有一具有出气管(12)的顶盖(22),此出气管(12)的下端与内筒(9)连通,其上端连接有所述吸附净化单元(13)。2.根据权利要求1所述的半导体二极管加工设备,其特征在于:所述吸附净化单元(13)进一步包括分...
【专利技术属性】
技术研发人员:邱显羣,钱淼,王韦勋,
申请(专利权)人:苏州锝耀电子有限公司,
类型:新型
国别省市:
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