工作平台的上下料方法技术

本申请涉及一种用于光刻设备的工作平台的上下料方法，包括：

【技术实现步骤摘要】
工作平台的上下料方法
[0001]本申请是申请日为
2021
年
07
月
30
日专利技术名称为“工作平台的上下料方法”的申请号为
202110872266.5
的专利技术专利申请的分案申请
。


[0002]本专利技术涉及一种工作平台及光刻设备
。

技术介绍

[0003]光刻，也就是光学蚀刻，是将光照射在光反应材料上，使光反应材料发生反应，通常是依照特定的图案将光照射在光反应材料上以得到需要的结构
。
光刻一般也称为曝光，进行光刻的设备即光刻机或曝光机
。
[0004]常见的被光刻对象为涂覆有光反应材料的网版
、
干膜或玻璃等
。
网版是将纱网固定在木框或钢框上，并在纱网上涂上光反应材料，该网版在经过曝光以及后续的处理后，可以用于印刷布匹
。
干膜是涂有光反应材料的薄膜，通常用于制造
PCB
板
。
涂有光反应材料的玻璃通常是用于制备显示屏...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种用于光刻设备的工作平台的上下料方法，光刻设备还包括机架和安装在所述机架上的光学装置，所述机架可相对所述工作平台运动，其特征在于，所述方法包括：
S1、
启动支撑组件使得所述支撑组件至少部分突伸出平台的工作面；
S2、
使用托举件将工件移动至所述平台的工作面上，所述支撑组件支撑所述工件；
S3、
将所述托举件脱离所述工件；
S4、
打开与具有若干气孔的平台连接的泵体，所述泵体向所述若干气孔吹气，使得设置在所述气孔内的浮动组件在所述气孔内移动并至少部分突伸出所述工作面；
S5、
关闭所述支撑组件使得所述支撑组件的上端面平行或低于所述工作面，所述浮动组件支撑所述工件；
S6、
移动所述工件至目标位置，并将所述工件固定在所述工作面上，将所述工件固定在所述工作面上的操作方法为：启动位于所述工件两侧的第一压边件和第二压边件，所述第一压边件和所述第二压边组件分别与所述工作面形成卡持槽口，从而将工件卡持在所述工作面上；
S7、
所述工件加工完成后，启动所述支撑组件，所述支撑组件至少部分突伸出平台的工作面，以支撑所述工件；...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈国军，吴景舟，马迪，
申请(专利权)人：迪盛武汉微电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：