一种负性感光性聚酰亚胺组合物制造技术

本发明专利技术提供一种负性感光性聚酰亚胺组合物

【技术实现步骤摘要】
一种负性感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法以及电子部件


[0001]本专利技术属于感光性树脂
，涉及一种负性感光性聚酰亚胺组合物
、
图形的制造方法
、
其固化物
、
层间绝缘膜
、
表面保护膜及电子部件
。
更具体地，涉及能够在不使敏感度降低
、
分辨率优异
、
维持了良好的形状的图形状态下，能够进行碱性水溶液显影的负性感光性聚酰亚胺组合物，使用该组合物的图形固化膜的制造方法以及电子部件
。

技术介绍

[0002]以往，半导体器件的表面保护膜
、
层间绝缘膜一般使用兼有优异热稳定性
、
电绝缘性和机械性能的聚酰亚胺树脂
。
这种聚酰亚胺树脂薄膜一般是采用四羧酸二酐和二胺在极性溶剂中通过缩聚反应而得到的聚酰亚胺前体
(
聚酰胺酸
)
溶液，通过旋涂等方式进行涂布而后薄膜化，并通过加热进行脱水闭环固化而形成
(r/>参见非专利文献本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种负性感光性聚酰亚胺组合物，其特征在于，所述负性感光性聚酰亚胺组合物含有下述成分
(a)、(b)、(c)
和
(d)
：
(a)
可溶于碱性水溶液的聚合物；
(b)
光聚合反应引发剂；
(c)
具有可聚合官能团的化合物，所述可聚合官能团包括不饱和的双键或三键；
(d)
热交联剂
。2.
根据权利要求1所述的负性感光性聚酰亚胺组合物，其特征在于，所述成分
(a)
具有式1所示的结构单元，其中，
R
每次出现时相同或不同地选自氢
、CH2＝
CH
‑
COOCH2CH2‑
或
CH2＝
C(CH3)
‑
COOCH2CH2‑
中的任意一种；
U
为4价的有机基团，
V
为2价的有机基团，
W
为4价的有机基团
。3.
根据权利要求2所述的负性感光性聚酰亚胺组合物，其特征在于，所述
U
每次出现时相同或不同地选自式2所示的4价有机基团中的任意一种：其中，
R1‑
R8均为一价有机基团，各自独立地选自氢
、
氟原子
、
甲基或三氟甲基中的任意一种；
X
为二价基团，选自氧原子
、
亚甲基
、
硫原子
、
砜基
、
羰基
、C(CH3)2或
C(CF3)2中的任意一种；优选地，
V
每次出现时相同或不同地选自式3所示的2价有机基团中的任意一种：
其中，
R
10
‑
R
20
均为一价有机基团，各自独立地选自氢
、
氟原子
、
甲基或三氟甲基中的任意一种；
Y
为二价基团，选自氧原子
、
亚甲基
、
硫原子
、
砜基
、
羰基
、C(CH3)2或
C(CF3)2中的任意一种；优选地，
W
每次出现时相同或不同地选自式4所示的4价有机基团中的任意一种：其中，
R
21
‑
R
26
均为一价有机基团，各自独立地选自氢
、
氟原子
、
甲基或三氟甲基中的任意一种；
Q
为二价基团，选自氧原子
、
亚甲基
、
硫原子
、
砜基
、
羰基
、C(CH3)2或
C(CF3)2中的任意一种；优选地，所述成分
(a)
具有式1‑1所示的结构：
其中，
R
27
每次出现时相同或不同地选自
CH2＝
CH
‑
COOCH2CH2‑
或
CH2＝
C(CH3)
‑
COOCH2CH2‑
；
U、V、W
具有与权利要求2相同的限定范围；
j+k
为成分
(a)
的重复结构单元的数目，
j+k
的值为3‑
200
，优选为5‑
100。4.
根据权利要求1‑3中任一项所述的负性感光性聚酰亚胺组合物，其特征在于，所述成分
(b)
含有选自由式5‑
1、
式5‑
2、
式6‑1和
/
或式6‑2所示的一种以上的化合物，式5‑1中，
R
28
为碳原子数为1‑
12
的烷基，
R
29
选自氢原子或碳原子数为1‑
12
的烷基，
R
30
和
R
31
各自独立地选自氢原子
、
碳原子数1‑
12
的烷基
、
苯基或甲苯基中的任意一种；式5‑2中，
R
32
选自氢原子
、
‑
OH、
‑
COOH、
‑
OCH2OH、
‑
O(CH2)2OH、
‑
COOCH2OH
或
‑<...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘斌，向文胜，胡泽明，张兵，赵建龙，杨一伍，季学华，
申请(专利权)人：江苏艾森半导体材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：