一种有机发光模组及其制备方法技术

技术编号:39397399 阅读:11 留言:0更新日期:2023-11-19 15:51
本发明专利技术公开了一种有机发光模组及其制备方法,有机发光模组包括:基板;发光器件层,发光器件层设置于基板上,发光器件层用于发光;透明缓冲层,透明缓冲层设置于发光器件层远离基板的一侧;透明电极层,透明电极层设置于透明缓冲层远离基板的一侧,透明电极层与发光器件层电连接。本发明专利技术可以减少形成透明电极层时对发光器件层的损伤,并且可以调节发光器件层的出光。的出光。的出光。

【技术实现步骤摘要】
一种有机发光模组及其制备方法


[0001]本专利技术涉及半导体
,尤其涉及一种有机发光模组及其制备方法。

技术介绍

[0002]如今,随着信息化社会的发展,半导体技术也得到快速发展。
[0003]然而,随着屏尺寸增大,透明阴极方阻变大,电压的梯度性变大,OLED照明屏体上距离电源供给点越远的部分,电压降越明显,导致整个屏体上压降分布不均匀,最终屏体会出现较为明显的亮度不均匀的现象。解决方法之一是在发光器件层上通过溅射方式制备较厚的氧化铟锡(Indium Tin Oxides,ITO)或者铝掺杂的氧化锌(AZO)透明电极层。
[0004]但是,由于溅射过程中,ITO能量较高,会损伤发光器件层,导致有机发光模组性能变差,甚至引起短路,使有机发光模组无法工作。

技术实现思路

[0005]本专利技术提供了一种有机发光模组及其制备方法,可以减少形成透明电极层时对发光器件层的损伤,并且可以调节发光器件层的出光。
[0006]第一方面,本专利技术实施例提供了一种有机发光模组,包括:基板;发光器件层,发光器件层设置于基板上,发光器件层用于发光;透明缓冲层,透明缓冲层设置于发光器件层远离基板的一侧;透明电极层,透明电极层设置于透明缓冲层远离基板的一侧,透明电极层与发光器件层电连接。
[0007]可选地,透明缓冲层为网格状光学缓冲层。
[0008]可选地,基板包括显示区和非显示区,发光器件层设置于显示区,透明缓冲层在基板上的垂直投影面积占显示区的面积的比例大于或等于80%。<br/>[0009]可选地,透明缓冲层的厚度为30nm至500nm。
[0010]可选地,透明缓冲层的折射率范围在1.8至2.4之间。
[0011]可选地,透明缓冲层的消光系数小于或者等于0.1。
[0012]可选地,发光器件层包括:阳极层,阳极层设置于基板上;OLED功能层,OLED功能层设置于阳极层远离基板的一侧;半透明阴极层,半透明阴极层设置于OLED功能层远离基板的一侧;其中,半透明阴极层与透明电极层电连接。
[0013]可选地,OLED功能层包括发光层,发光层包括第一颜色发光层、第二颜色发光层和第三颜色发光层;第一颜色发光层、第二颜色发光层和第三颜色发光层同层设置;透明缓冲层至少覆盖第一颜色发光层、第二颜色发光层和第三颜色发光层。
[0014]可选地,有机发光模组还包括光学调控层,光学调控层位于透明电极层远离基板的一侧。
[0015]可选地,光学调控层的厚度范围在30nm至500nm之间,光学调控层的折射率范围在1.3至8之间;且光学调控层消光系数小于或者等于0.1。
[0016]第二方面,本专利技术实施例提供了一种有机发光模组的制备方法,包括:在基板的一
侧形成发光器件层,发光器件层用于发光;在发光器件层远离基板的一侧形成透明缓冲层;在透明缓冲层远离基板的一侧形成透明电极层,透明电极层与发光器件层电连接。
[0017]本专利技术实施例的技术方案,通过在发光器件层与透明电极层之间形成具有缓冲功能的透明缓冲层,可以减少在发光器件层上通过溅射法形成形成透明电极层时对发光器件层的损伤,并且该透明缓冲层可以调节发光器件层的出光,具体的,可以调控整个基板因为不同区域透过率不一致导致的色偏。
[0018]应当理解,本部分所描述的内容并非旨在标识本专利技术的实施例的关键或重要特征,也不用于限制本专利技术的范围。本专利技术的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1是本专利技术实施例提供的一种有机发光模组的结构示意图;
[0021]图2是本专利技术实施例提供的又一种有机发光模组的结构示意图;
[0022]图3是本专利技术实施例提供的一种有机发光模组的制备方法的流程图;
[0023]图4是本专利技术实施例提供的一种步骤S301对应的有机发光模组的结构示意图;
[0024]图5是本专利技术实施例提供的一种步骤S302对应的有机发光模组的结构示意图;
[0025]图6是本专利技术实施例提供的一种步骤S303对应的有机发光模组的结构示意图;
[0026]图7是本专利技术实施例提供的又一种有机发光模组的制备方法的流程图;
[0027]图8是本专利技术实施例提供的一种步骤S401对应的有机发光模组的结构示意图;
[0028]图9是本专利技术实施例提供的一种步骤S402对应的有机发光模组的结构示意图;
[0029]图10是本专利技术实施例提供的一种步骤S403对应的有机发光模组的结构示意图;
[0030]图11是本专利技术实施例提供的一种步骤S404对应的有机发光模组的结构示意图;
[0031]图12是本专利技术实施例提供的一种步骤S405对应的有机发光模组的结构示意图;
[0032]图13是本专利技术实施例提供的一种步骤S406对应的有机发光模组的结构示意图;
[0033]图14是本专利技术实施例提供的又一种有机发光模组的制备方法的流程图;
[0034]图15是本专利技术实施例提供的一种步骤S501对应的有机发光模组的结构示意图;
[0035]图16是本专利技术实施例提供的一种步骤S502对应的有机发光模组的结构示意图;
[0036]图17是本专利技术实施例提供的一种步骤S503对应的有机发光模组的结构示意图;
[0037]图18是本专利技术实施例提供的一种步骤S504对应的有机发光模组的结构示意图;
[0038]图19是本专利技术实施例提供的一种步骤S505对应的有机发光模组的结构示意图;
[0039]图20是本专利技术实施例提供的一种步骤S506对应的有机发光模组的结构示意图;
[0040]图21是本专利技术实施例提供的一种步骤S507对应的有机发光模组的结构示意图。
具体实施方式
[0041]为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案,下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是
本专利技术一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本专利技术保护的范围。
[0042]需要说明的是,本专利技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本专利技术的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含。
[0043]图1是本专利技术实施例提供的一种有机发光模组的本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种有机发光模组,其特征在于,包括:基板;发光器件层,所述发光器件层设置于所述基板上,所述发光器件层用于发光;透明缓冲层,所述透明缓冲层设置于所述发光器件层远离所述基板的一侧;透明电极层,所述透明电极层设置于所述透明缓冲层远离所述基板的一侧,所述透明电极层与所述发光器件层电连接。2.根据权利要求1所述的有机发光模组,其特征在于,所述透明缓冲层为网格状光学缓冲层。3.根据权利要求1所述的有机发光模组,其特征在于,所述基板包括显示区和非显示区,所述发光器件层设置于所述显示区,所述透明缓冲层在所述基板上的垂直投影面积占所述显示区的面积的比例大于或等于80%。4.根据权利要求1所述的有机发光模组,其特征在于,所述透明缓冲层的厚度为30nm至500nm。5.根据权利要求1所述的有机发光模组,其特征在于,所述透明缓冲层的折射率范围在1.8至2.4之间。6.根据权利要求1所述的有机发光模组,其特征在于,所述透明缓冲层的消光系数小于或者等于0.1。7.根据权利要求1

6任一项所述的有机发光模组,其特征在于,所述发光器件层包括:阳极层,所述阳极层设置于所述基板上;OLED功能层,所述OLED功...

【专利技术属性】
技术研发人员:邹建华陶洪刘文聪徐苗王磊
申请(专利权)人:广州新视界光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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