【技术实现步骤摘要】
一种超纯异丙醇的制备方法及装置
[0001]本申请属于异丙醇制备
,具体涉及一种超纯异丙醇的制备方法及装置
。
技术介绍
[0002]超纯试剂也被称为湿法化学品或工艺化学品,目前广泛应用在半导体
、
平板显示
、
太阳能电池等多个领域
。
其中,太阳能电池板制造用湿电子化学品要求最低,平板显示制造领域对湿电子化学品的需求量最高,半导体制造工艺用湿电子化学品的技术要求最高
。
湿法化学品的纯度和洁净度对集成电路的成品率
、
电性能及可靠性有着十分重要的影响,尤其是水含量和金属离子含量,水会将硅片氧化,形成缺陷,金属离子会使
IC
内部短路,影响产品成品率
。
目前,国际上
SEMI
标准化组织将超纯试剂按应用范围分为5个等级:
SEMI
‑
G1
标准
(
适用于
>1.2
μ
m IC
工艺技术的制作
)、SEMI
‑
G2
标准
(
适用于
0.8
~
1.2
μ
m IC
工艺技术的制作
)、SEMI
‑
G3
标准
(
适用于
0.2
~
0.60
μ
m IC
工艺技术的制作
)、 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种超纯异丙醇的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:将
SEMI
‑
G3
等级的异丙醇通过原料输送设备输入至汽化装置中,获得汽化后的异丙醇;将所述汽化后的异丙醇经过汽液分离装置进行处理,然后输送至分离膜组件进行处理后,获得异丙醇溶液,其中,所述分离膜组件经过降溶出预处理;将所述异丙醇溶液经过离子交换树脂进行处理后,获得所述超纯异丙醇,其中,所述超纯异丙醇中,单项离子含量在1‑
10ppt
之间,水含量小于
10ppm。2.
根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述降溶出预处理,包括如下步骤:将所述分离膜组件置于有机溶剂中进行表面清洗,然后用超净去离子水将清洗后的所述分离膜组件表面的有机物和离子洗净,并在千级洁净间中,采用体积分数大于
99.9999
%的
N2将所述分离膜组件表面的水吹净备用
。3.
根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述降溶出预处理,包括如下步骤:将所述分离膜组件置于浓度为
0.01
‑
1M
的无机盐溶液中进行离子交换,然后用超净去离子水将离子交换后的所述分离膜组件表面的有机物和离子洗净,并在千级洁净间中,采用体积分数大于
99.9999
%的
N2将所述分离膜组件表面的水吹净备用
。4.
根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述降溶出预处理,包括如下步骤:将所述分离膜组件置于有机溶剂中进行表面清洗,然后用超净去离子水将清洗后的所述分离膜组件表面的有机物和离子洗净,并在千级洁净间中,采用体积分数大于
99.9999
%的
N2将所述分离膜组件表面的水吹净备用;将上述备用的分离膜组件置于浓度为
0.01
‑
1M
的无机盐溶液中进行离子交换,然后用超净去离子水将离子交换后的所述分离膜组件表面的有机物和离子洗净,并在千级洁净间中,采用体积分数大于
99.9999
%的
N2将所述分离膜组件表面的水吹净,获得所述经过降溶出预处理的分离膜组件
。5.
根据权利要求2或4所述的制备方法...
【专利技术属性】
技术研发人员:请求不公布姓名,
申请(专利权)人:浙江汇甬新材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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