一种二氟甲基硒醚类化合物的合成方法技术

技术编号:39293785 阅读:8 留言:0更新日期:2023-11-07 11:01
本发明专利技术属于有机合成技术领域,具体涉及一种二氟甲基硒醚类化合物的合成方法。本发明专利技术提供的二氟甲基硒醚类化合物的合成方法,将三(2

【技术实现步骤摘要】
一种二氟甲基硒醚类化合物的合成方法


[0001]本专利技术属于有机合成
,具体涉及一种二氟甲基硒醚类化合物的合成方法。

技术介绍

[0002]将含氟基团掺入分子中对于调节化学反应性、亲脂性和代谢稳定性等具有重要价值。含氟化合物已被认为是药物、材料和农用化学品开发中有吸引力的候选分子。目前,二氟甲基化合物在药物化学研究中表现出了重要的应用价值,因为二氟甲基适合作为羟基、巯基或胺基等基团的亲脂性更强的生物电子等排体,并且可作为有效的氢键供体。
[0003]有机硒化合物具有抗炎、抗肿瘤、抗氧化等多种重要的生物学功能。因此,开发新的二氟甲基硒醚(R

SeCF2H)化合物的合成策略,将为生物医学和化学研究提供更多选择。然而,现有的合成二氟甲基硒醚类化合物的方法数量有限且均存在严重的缺陷。硒醇类是制备二氟甲基硒醚化合物最常用的硒化试剂,而硒醇是具有刺激性气味的一类高毒性化合物,稳定性差、易挥发,因此合成时需要严格的保护环境下才可进行,操作复杂。
[0004]Vaibhav P.Mehta使用苯硒醇在添加碳酸钾制备二氟甲基硒醚类化合物过程中需要高温持续加热,且仅有65%的收率,(Org.Lett.2013,15,5036

5039)。Studer描述了一例关于在紫外线照射下苄基硒醇与[Ph3PCF2H]Br的自由基二氟甲基化的例子(Org.Lett.2017,19,4150

4153)但硒醇和紫外光辐照的使用限制了该方法的应用。最近,Xiao团队报道了通过原位形成的RSeCN与[Ph3PCF2H]Br的亲核二氟甲基化合成二氟甲基硒醚化合物(J.Org.Chem.2021,86,13153

13159),但该策略需要使用硒氰酸钾有毒硒源和当量的强碱性物质(碳酸铯),合成产物安全性差,只适用于甲基、亚甲基、次甲基的碳原子上取代硒类化合底物,无芳基硒类化合物底物,合成最高收率为83%,且强碱性物质会产生强腐蚀性影响底物的适用。可见,现有技术中需要使用有毒硒源(硒醇或硒氰酸钾)、操作复杂或使用强碱性物质、适用底物范围相对狭窄,十分不利于大规模推广应用。
[0005]因此,亟需找到一种无需使用硒醇或硒氰酸钾等高毒性硒源以及当量强碱性物质、操作简单、适用底物范围广的合成二氟甲基硒醚类化合物的方法,以便于二氟甲基硒醚类化合物的大规模推广应用。

技术实现思路

[0006]因此,本专利技术要解决的技术问题在于克服现有技术制备二氟甲基硒醚类化合物使用硒醇或硒氰酸钾等高毒性硒源以及当量强碱性物质、操作复杂、适用底物范围相对狭窄的缺陷,从而提供一种新的二氟甲基硒醚类化合物的合成方法。
[0007]本专利技术提供一种二氟甲基硒醚类化合物的合成方法,包括如下步骤:
[0008]将三(2

苯基吡啶)合铱、式(Ⅰ)所示的硒代磺酸酯类化合物、式(ⅠI)所示的二氟甲基鏻类化合物和反应溶剂混合,在光照条件下反应,得到式(ⅠII)所示二氟甲基硒醚类化合物;
[0009][0010]其中,L选自单键、C1

C10亚烷基;
[0011]R1选自OR4、Si(R5)(R6)(R7)、取代或未取代的C6

C20芳基、取代或未取代的C1

C20烷基、取代或未取代的C3

C10杂环基;
[0012]R2选自C6

C20芳基;
[0013]R3选自C6

C20芳基;
[0014]R4选自取代或未取代的C6

C20芳基、取代或未取代的C1

C20烷基;
[0015]R5‑
R7各自独立的选自C6

C20芳基、C1

C20烷基;
[0016]W

选自BF4‑
、OTf

、Cl

、Br

、I


[0017]优选的,所述取代的C6

C20芳基、取代的C1

C20烷基、取代的C3

C10杂环基中含有1

3个取代基,所述取代基选自卤素、氰基、

COOR8、

S(O)2R9、C1

C4的烷基、C6

C20的芳基;R8选自C1

C4烷基,R9选自含有6

10个碳原子的芳基。
[0018]优选的,L选自单键、C1

C4亚烷基;
[0019]优选的,L选自单键、亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基。
[0020]优选的,R1选自OR4、Si(R5)(R6)(R7)、取代或未取代的C6

C20芳基、取代或未取代的C3

C10杂环基;
[0021]和/或,C6

C20芳基选自苯基、萘基、联苯基、三联苯基、菲基;
[0022]和/或,C1

C20烷基选自甲基、乙基、丙基、丁基;
[0023]和/或,C3

C10杂环基至少含有1个氮原子;
[0024]优选的,C3

C10杂环基选自杂氮环丙烷基、杂氮环丁烷基、杂氮环己烷基。
[0025]优选的,所述取代的C6

C20芳基、取代的C1

C20烷基、取代的C3

C10杂环基中含有1

3个取代基,所述取代基选自氰基、

COOR8、

S(O)2R9、甲基、乙基、丙基、丁基、苯基、萘基、联苯基、三联苯基;R8选自甲基、乙基、丙基、丁基,R9选自苯基、对甲基苯基。
[0026]优选的,R2选自苯基;
[0027]和/或,R3选自苯基;
[0028]和/或,W

选自Br


[0029]优选的,式(Ⅰ)所示的硒代磺酸酯类化合物选自
[0030][0031]本专利技术Ts为对甲基苯磺酰基,Me为甲基。
[0032]本专利技术所使用的硒代苯磺酸酯化合物为现有化合物或可通过现有常规方法制备获得,可以采用文献“Fang,Y.;Li,X.;Liu,C.;Tang,J.;Chen,Z.J.Org.Chem.2021,86,18081

18093.”记载的方法制备合成。
[0033]优选的,所述式(Ⅰ)所示的硒代磺酸酯类化合物、式(ⅠI)所示的二氟甲基鏻类化合物和三(2

苯基吡啶)合铱的摩尔比为1:(1.0

3.0):(0.001
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种二氟甲基硒醚类化合物的合成方法,其特征在于,包括如下步骤:将三(2

苯基吡啶)合铱、式(Ⅰ)所示的硒代磺酸酯类化合物、式(ⅠI)所示的二氟甲基鏻类化合物和反应溶剂混合,在光照条件下反应,得到式(ⅠII)所示二氟甲基硒醚类化合物;其中,L选自单键、C1

C10亚烷基;R1选自OR4、Si(R5)(R6)(R7)、取代或未取代的C6

C20芳基、取代或未取代的C1

C20烷基、取代或未取代的C3

C10杂环基;R2选自C6

C20芳基;R3选自C6

C20芳基;R4选自取代或未取代的C6

C20芳基、取代或未取代的C1

C20烷基;R5‑
R7各自独立的选自C6

C20芳基、C1

C20烷基;W

选自BF4‑
、OTf

、Cl

、Br

、I

。2.根据权利要求1所述的合成方法,其特征在于,所述取代的C6

C20芳基、取代的C1

C20烷基、取代的C3

C10杂环基中含有1

3个取代基,所述取代基选自卤素、氰基、

COOR8、

S(O)2R9、C1

C4的烷基、C6

C20的芳基;R8选自C1

C4烷基,R9选自含有6

10个碳原子的芳基。3.根据权利要求1或2所述的合成方法,其特征在于,L选自单键、C1

C4亚烷基;优选的,L选自单键、亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基。4.根据权利要求1

3任一项所述的合成方法,其特征在于,R1选自OR4、Si(R5)(R6)(R7)、取代或未取代的C6

C20芳基、取代或未取代的C3

C10杂环基;和/或,C6

C20芳基选自苯基、萘基、联苯基、三联苯基、菲基;和/或,C1

C20烷基选自甲基、乙基、丙基、丁基;和/或,C3

C10杂环基至少含有1个氮原子;优选的,C3

C10杂环基选自杂氮环丙烷基、杂氮环丁烷基、杂氮环己烷基。5.根据权利要求1

4任一项所述的合成方法,其特征在于,所述取代的C6

C20芳基、取代的...

【专利技术属性】
技术研发人员:方毅刘春仪唐婕裴铮陈正平
申请(专利权)人:江苏省原子医学研究所
类型:发明
国别省市:

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