接近式光刻系统、光源控制优化方法、设备及存储介质技术方案

本申请公开了一种接近式光刻系统、光源控制优化方法、设备及存储介质，应用于人工智能技术领域，接近式光刻系统包括：光源、控制装置、图像输出部件和图像转移部件；所述光源中包括至少一个发光单元，所述控制装置用于根据照明参数控制各所述发光单元。本申请解决了光刻图像的图像质量较差的技术问题。刻图像的图像质量较差的技术问题。刻图像的图像质量较差的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
接近式光刻系统、光源控制优化方法、设备及存储介质


[0001]本申请涉及人工智能
，尤其涉及一种接近式光刻系统、光源控制优化方法、设备及可读存储介质。

技术介绍

[0002]随着科技的高速发展，光刻技术也发展地越来越成熟，目前，若采用接触式光刻技术，也即，将图像转移部件表面和图像输出部件表面进行接触，从而让图像转移部件上的图案在光照下直接投映于图像输出部件上，完成图像转移。虽然接触式光刻技术由于图像转移部件表面和图像输出部件表面接触，使得输出图像分辨率较高，但是接触处的压强会带来图像转移部件表面和图像输出部件表面的污染，甚至还会造成潜在的图像转移部件的磨损，导致需要频繁对图像转移部件和图像输出部件的清洗，或者，对图像转移部件的替换，导致图像光刻的效率低且成本高。
[0003]为规避上述缺陷，可采用接近式光刻技术，也即，图像转移部件表面和图像输出部件表面之间存在一定的距离，而此距离则会使得光刻图像的分辨率较低，导致光刻图像的图像质量较差。

技术实现思路

[0004]本申请的主要目的在于提供一种接近式光刻系统、光源控制优化方法、设备及可读存储介质，旨在解决现有技术中光刻图像的图像质量较差的技术问题。
[0005]为实现上述目的，本申请提供一种光源控制优化方法，光源、控制装置、沿所述光源的出光方向依次设置的图像输出部件和图像转移部件，所述控制装置分别与所述光源和所述图像输出部件连接；所述光源中包括至少一个发光单元，所述控制装置用于根据所述图像输出部件对各所述发光单元进行控制。
[0006]可选地，若所述光源的光源面尺寸与图像输出部件尺寸之间的尺寸大小关系不符合预设尺寸大小关系，则所述光源和所述图像输出部件之间设置有光学传输部件。
[0007]可选地，所述接近式光刻系统还包括在所述光源和所述图像输出部件之间设置的光学传输部件，且所述光学传输部件为至少一片镜，各所述镜的参数和/或位置由所述光源的光源面尺寸与图像输出部件尺寸之间的相对大小确定。
[0008]为实现上述目的，本申请还提供一种光源控制优化方法，应用于接近式光刻系统中的控制装置，所述接近式光刻系统包括光源、控制装置、沿所述光源的出光方向依次设置的图像输出部件和图像转移部件，所述控制装置分别与所述光源和所述图像输出部件连接，所述光源中包括至少一个发光单元，所述光源控制优化方法包括：获取待光刻图像和各所述发光单元与所述图像输出部分之间的相对位置信息；根据所述相对位置信息和所述待光刻图像，生成所述光源的第一照明参数；根据在所述第一照明参数控制下所述图像输出部分的输出图像、所述第一照明参
数和预设控制模型，确定所述光源的第二照明参数，并根据所述第二照明参数控制所述光源。
[0009]可选地，所述根据所述相对位置信息和所述待光刻图像，生成所述光源的第一照明参数的步骤包括：获取所述图像转移部件的部件材质信息；根据所述部件材质信息、所述相对位置信息和所述待光刻图像，生成所述光源的调整照明参数；获取在所述光源由所述调整照明参数控制下所述图像转移部分的第二转移图像，根据所述第二转移图像，对所述调整照明参数进行优化，得到所述第一照明参数。
[0010]可选地，所述根据所述部件材质信息、所述相对位置信息和所述待光刻图像，生成所述光源的调整照明参数的步骤包括：获取所述待光刻图像的图案信息；根据所述图案信息、所述部件材质信息和所述相对位置信息，通过傅里叶叠层原理生成所述光源的调整照明参数。
[0011]可选地，所述根据所述第二转移图像，对所述调整照明参数进行优化，得到所述第一照明参数的步骤包括：基于所述第二转移图像，识别得到所述图像转移部件上存在多个发光单元重叠曝光的至少一个重叠曝光区域；根据所述第二转移图像中的各所述重叠曝光区域，生成所述图像转移部件中各区域对应的目标曝光参数；根据各所述区域对应的目标曝光参数，对所述调整照明参数进行优化，得到所述第一照明参数。
[0012]可选地，所述第二照明参数包括至少一个子照明参数，根据在所述第一照明参数控制下所述图像输出部分的输出图像、所述第一照明参数和预设控制模型，确定所述光源的第二照明参数，并根据所述第二照明参数控制所述光源的步骤包括：对所述输出图像进行特征分解，得到至少一个图像特征；对于各所述图像特征中任一目标特征，根据所述第一照明参数、所述目标特征和所述预设控制模型，确定所述目标特征对应的所述子照明参数。
[0013]为实现上述目的，本申请还提供一种接近式光刻系统中的控制装置，所述接近式光刻系统中的控制装置包括：获取模块，用于获取待光刻图像和各所述发光单元与所述图像输出部分之间的相对位置信息；生成模块，用于根据所述相对位置信息和所述待光刻图像，生成所述光源的第一照明参数；确定模块，用于根据在所述第一照明参数控制下所述图像输出部分的输出图像、所述第一照明参数和预设控制模型，确定所述光源的第二照明参数，并根据所述第二照明参数控制所述光源。
[0014]本申请还提供一种电子设备，所述电子设备包括：存储器、处理器以及存储在所述
存储器上并可在所述处理器上运行的所述光源控制优化方法的程序，所述光源控制优化方法的程序被处理器执行时可实现如上述的光源控制优化方法的步骤。
[0015]本申请还提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有实现光源控制优化方法的程序，所述光源控制优化方法的程序被处理器执行时实现如上述的光源控制优化方法的步骤。
[0016]本申请还提供一种计算机程序产品，包括计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如上述的光源控制优化方法的步骤。
[0017]本申请提供了一种接近式光刻系统，所述接近式光刻系统包括：光源、控制装置、图像输出部件和图像转移部件；所述光源中包括至少一个发光单元，所述控制装置用于对各所述发光单元进行发光控制，通过对各发光单元进行发光控制，可实现光源的像素点发光控制，从而提高光刻图像的分辨率，进而提高光刻图像的图像质量。
附图说明
[0018]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。
[0019]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1为本申请光源控制优化方法第一实施例的流程示意图；图2为本申请实施例中光源控制优化方法涉及的特征分解的一种场景示意图；图3为本申请实施例中光源控制优化方法涉及的接近式光刻系统不包括光学传输部件时接近式光刻系统的一结构示意图；图4为本申请实施例中光源控制优化方法涉及的接近式光刻系统包括光学传输部件时接近式光刻系统的另一结构示意图；图5为本申请实施例中光源控制优化方法涉及的当光源面尺寸大于图像输出部件尺寸时光学传输部件的位置设置示意图；图6为本申请实施例中光源控制优化方法涉及本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种接近式光刻系统，其特征在于，所述接近式光刻系统包括：光源、控制装置、沿所述光源的出光方向依次设置的图像输出部件和图像转移部件，所述控制装置分别与所述光源和所述图像输出部件连接；所述光源中包括至少一个发光单元，所述控制装置用于根据所述图像输出部件对各所述发光单元进行控制。2.如权利要求1所述接近式光刻系统，其特征在于，若所述光源的光源面尺寸与图像输出部件尺寸之间的尺寸大小关系不符合预设尺寸大小关系，则所述光源和所述图像输出部件之间设置有光学传输部件。3.如权利要求1所述接近式光刻系统，其特征在于，所述接近式光刻系统还包括在所述光源和所述图像输出部件之间设置的光学传输部件，且所述光学传输部件为至少一片镜，各所述镜的参数和/或位置由所述光源的光源面尺寸与图像输出部件尺寸之间的相对大小确定。4.一种光源控制优化方法，其特征在于，应用于接近式光刻系统中的控制装置，所述接近式光刻系统包括光源、控制装置、沿所述光源的出光方向依次设置的图像输出部件和图像转移部件，所述控制装置分别与所述光源和所述图像输出部件连接，所述光源中包括至少一个发光单元，所述光源控制优化方法包括：获取待光刻图像和各所述发光单元与所述图像输出部分之间的相对位置信息；根据所述相对位置信息和所述待光刻图像，生成所述光源的第一照明参数；根据在所述第一照明参数控制下所述图像转移部分的第一转移图像、所述第一照明参数和预设控制模型，确定所述光源的第二照明参数，并根据所述第二照明参数控制所述光源。5.如权利要求4所述光源控制优化方法，其特征在于，所述根据所述相对位置信息和所述待光刻图像，生成所述光源的第一照明参数的步骤包括：获取所述图像转移部件的部件材质信息；根据所述部件材质信息、所述相对位置信息和所述待光刻图像，生成所述光源的调整照明参数；获取在所述光源由所述调整照明参数控制下所述图像转移部分的第二转移图像，根据所述第二转移图像，对所述调整照明参数进行优化，得到所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹子峥，周延，皮雅稚，余少华，
申请(专利权)人：鹏城实验室，
类型：发明
国别省市：