一种可调辅助阳极的电弧装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种可调辅助阳极的电弧装置，包括引弧装置，还包括同轴设置的安装盘、靶座、屏蔽板以及辅助阳极，所述靶座与屏蔽板通过安装盘固定连接，所述靶座中央设置有用于安放靶材的靶材安装位，所述辅助阳极设于屏蔽板远离安装盘的一侧，所述屏蔽板与辅助阳极螺纹连接，所述屏蔽板与辅助阳极的轴线位置均具有通孔，以为靶材提供容纳空间；该可调辅助阳极的电弧装置在保证辅助阳极的功能的前提下，通过实现带螺纹的上下可调的结构，能随着靶材的消耗，快速便捷的调整辅助阳极的高度，进而提高靶的工作稳定性和蒸镀速率。进而提高靶的工作稳定性和蒸镀速率。进而提高靶的工作稳定性和蒸镀速率。

【技术实现步骤摘要】
一种可调辅助阳极的电弧装置


[0001]本技术涉及真空离子镀膜
，具体涉及一种可调辅助阳极的电弧装置。

技术介绍

[0002]电弧蒸发源作为真空离子镀膜的关键装置，其工作稳定性将会直接影响膜层的品质，辅助阳极是一种导磁材料，用于辅助电弧蒸发源在小电流工作时起到稳弧的作用，现有技术中，辅助阳极一般是通过螺钉固定在靶座上的，但随着靶材不断消耗，靶材高度会越来越低于辅助阳极高度，如不同步把辅助阳极的高度调低，将会直接影响靶的工作稳定性，靶材离化后的靶材料也会被高于其表面的辅助阳极遮挡一部分，影响蒸镀速率。

技术实现思路

[0003]针对现有技术中的缺陷，本技术提供一种可调辅助阳极的电弧装置，在保证辅助阳极的功能的前提下，通过实现带螺纹的上下可调的结构，能随着靶材的消耗，快速便捷的调整辅助阳极的高度，进而提高靶的工作稳定性和蒸镀速率。
[0004]本技术的技术方案具体如下：
[0005]一种可调辅助阳极的电弧装置，包括引弧装置，还包括同轴设置的安装盘、靶座、屏蔽板以及辅助阳极，所述靶座与屏蔽板通过安装盘固定连接，所述靶座中央设置有用于安放靶材的靶材安装位，所述辅助阳极设于屏蔽板远离安装盘的一侧，所述屏蔽板与辅助阳极螺纹连接，所述屏蔽板与辅助阳极的轴线位置均具有通孔，以为靶材提供容纳空间。
[0006]优选地，所述屏蔽板的靠近辅助阳极的一侧固定设有内螺纹环，所述辅助阳极的靠近屏蔽板的一侧固定设有外螺纹环，所述辅助阳极的外螺纹环插入屏蔽板的内螺纹环并与其螺纹配合。
[0007]优选地，所述靶材的外径与辅助阳极的外螺纹环的内径匹配。
[0008]优选地，所述靶材安装位的外侧壁设置有限位凸环，所述辅助阳极的外螺纹环的内侧壁底部开设有限位环槽，所述限位环槽与限位凸环匹配。
[0009]优选地，所述靶座、安装盘以及屏蔽板通过螺栓紧固连接。
[0010]优选地，所述引弧装置包括回转气缸、引弧杆和引弧针，所述回转气缸固定在安装盘上，所述引弧杆与回转气缸的输出轴连接，所述引弧针与引弧杆连接。
[0011]本技术的有益效果体现在：
[0012]本技术提供的可调辅助阳极的电弧装置通过屏蔽板与辅助阳极螺纹连接，旋转辅助阳极即可调整内螺纹环与外螺纹环之间螺纹咬合部分的长度，进而可以改变辅助阳极相对于靶材的高度，随着靶材消耗高度变低，随之配合地调低辅助阳极的高度，即可提高靶的工作稳定性和蒸镀速率；当辅助阳极下移至限位环槽与限位凸环匹配时，即到达高度最低的位置，可旋出辅助阳极以便于更换靶材。
附图说明
[0013]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
[0014]图1为本技术提供的可调辅助阳极的电弧装置的局部结构示意图；
[0015]图2为图1所示的可调辅助阳极的电弧装置的局部剖视图；
[0016]附图中，1
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辅助阳极，11
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外螺纹环，12
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限位环槽，2
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屏蔽板，21
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内螺纹环，3
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靶材，4
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靶座，41
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靶材安装位，42
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限位凸环，5
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安装盘，6
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引弧装置，62
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引弧杆，63
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引弧针。
具体实施方式
[0017]为了使本
的人员更好地理解本申请方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。
[0018]需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施例。
[0019]在本申请中，术语“上”、“下”、“内”、等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本申请及其实施例，并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位，或以特定方位进行构造和操作。
[0020]并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解这些术语在本申请中的具体含义。
[0021]此外，术语“设置”、“设有”、“连接”、“固定”等应做广义理解。例如，“连接”可以是固定连接，可拆卸连接，或整体式构造；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或者是通过中间媒介间接相连，又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
[0022]另外，术语“多个”的含义应为两个以及两个以上。
[0023]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
[0024]本实施例提供一种可调辅助阳极11的电弧装置，如图1所示，包括引弧装置6，还包括同轴设置的安装盘5、靶座4、屏蔽板2以及辅助阳极1，靶座4与屏蔽板2通过安装盘5固定连接，靶座4中央设置有用于安放靶材3的靶材3安装位，辅助阳极1设于屏蔽板2远离安装盘5的一侧，屏蔽板2与辅助阳极1螺纹连接，屏蔽板2与辅助阳极1的轴线位置均具有通孔，以为靶材3提供容纳空间；通过屏蔽板2与辅助阳极1螺纹连接，旋转辅助阳极1即可调整内螺纹环21与外螺纹环11之间螺纹咬合部分的长度，进而可以改变辅助阳极1相对于靶材3的高度，随着靶材3消耗高度变低，随之配合地调低辅助阳极1的高度，即可提高靶的工作稳定性
和蒸镀速率。
[0025]在本实施例中，如图1至图2所示，屏蔽板2的靠近辅助阳极1的一侧固定设有内螺纹环21，辅助阳极1的靠近屏蔽板2的一侧固定设有外螺纹环11，辅助阳极1的外螺纹环11插入屏蔽板2的内螺纹环21并与其螺纹配合；同时，靶材3的外径优选为与辅助阳极1的外螺纹环11的内径匹配；
[0026]在一些其他的实施例中，也可以采用屏蔽板2的靠近辅助阳极1的一侧固定设有外螺纹环11，辅助阳极1的靠近屏蔽板2的一侧固定设有内螺纹环21，屏蔽板2的外螺纹环11插入辅助阳极1的内螺纹环21并与其螺纹配合；同时，靶材3的外径优选为与辅助阳极1的屏蔽板2的内径匹配。
[0027]在本实施例中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可调辅助阳极的电弧装置，其特征在于：包括引弧装置，还包括同轴设置的安装盘、靶座、屏蔽板以及辅助阳极，所述靶座与屏蔽板通过安装盘固定连接，所述靶座中央设置有用于安放靶材的靶材安装位，所述辅助阳极设于屏蔽板远离安装盘的一侧，所述屏蔽板与辅助阳极螺纹连接，所述屏蔽板与辅助阳极的轴线位置均具有通孔，以为靶材提供容纳空间。2.根据权利要求1所述的可调辅助阳极的电弧装置，其特征在于：所述屏蔽板的靠近辅助阳极的一侧固定设有内螺纹环，所述辅助阳极的靠近屏蔽板的一侧固定设有外螺纹环，所述辅助阳极的外螺纹环插入屏蔽板的内螺纹环并与其螺纹配合。3.根据权利要求2所述的可...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：圣思科技廊坊有限公司，
类型：新型
国别省市：